冷卻裝置以及真空蒸鍍設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明實施例公開了一種冷卻裝置以及真空蒸鍍設(shè)備，可以加速真空蒸鍍設(shè)備蒸發(fā)源的冷卻過程，減少真空蒸鍍設(shè)備冷卻所需時間，有效提高真空蒸鍍設(shè)備的使用效率。本發(fā)明實施例的冷卻裝置，用于冷卻真空蒸鍍設(shè)備的蒸發(fā)源，冷卻裝置包括：若干個冷卻單元；驅(qū)動單元，用于驅(qū)動冷卻單元包覆蒸發(fā)源；設(shè)置于冷卻單元內(nèi)部的冷卻管，冷卻管包括至少一個冷卻液進料口以及至少一個冷卻液出料口。
【專利說明】冷卻裝置以及真空蒸鍍設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及冷卻系統(tǒng)，尤其涉及一種冷卻裝置以及真空蒸鍍設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]作為0LED顯示裝置制備過程中的一種重要制備設(shè)備，真空蒸鍍設(shè)備用于在真空環(huán)境中，將材質(zhì)加熱蒸鍍到基底上。因此，真空蒸鍍設(shè)備其使用效率會對0LED顯示裝置的制備工藝正常運轉(zhuǎn)產(chǎn)生影響。
[0003]通常來說，以現(xiàn)有真空蒸鍍設(shè)備為例，其蒸鍍過程可描述為將待成膜的材質(zhì)至于真空環(huán)境中并進行加入，從而令待成膜的材質(zhì)蒸發(fā)或升華，進而在基底表面生長成膜結(jié)構(gòu)。因此，現(xiàn)有技術(shù)真空蒸鍍設(shè)備在完成一次蒸鍍工藝后，通常需要較長時間等待蒸發(fā)源自然冷卻至室溫，而后才可以打開真空室進行更換材質(zhì)填料等動作，并進行下一次蒸鍍工藝。
[0004]然而，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問題:由于現(xiàn)有技術(shù)真空蒸鍍設(shè)備在完成一次蒸鍍工藝后需要等待蒸發(fā)源自然冷卻，待蒸發(fā)源自然冷卻至室溫后才可以開啟真空室，而現(xiàn)有的蒸發(fā)源自然冷卻的冷卻效率較低，需要耗費較長時間，最終會引起真空蒸鍍設(shè)備使用效果低下。

【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]本發(fā)明的實施例提供一種冷卻裝置以及真空蒸鍍設(shè)備，可以加速真空蒸鍍設(shè)備蒸發(fā)源的冷卻過程，減少真空蒸鍍設(shè)備冷卻所需時間，有效提高真空蒸鍍設(shè)備的使用效率。
[0006]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案:
[0007]—種冷卻裝置，用于冷卻真空蒸鍍設(shè)備的蒸發(fā)源，所述冷卻裝置包括:
[0008]若干個冷卻單元；
[0009]驅(qū)動單元，用于通過支架驅(qū)動所述冷卻單元包覆所述蒸發(fā)源；
[0010]設(shè)置于所述冷卻單元內(nèi)部的冷卻管，所述冷卻管包括至少一個冷卻液進料口以及至少一個冷卻液出料口。
[0011]優(yōu)選的，所述冷卻管在所述冷卻單元內(nèi)部的排布形狀呈Z字形。
[0012]優(yōu)選的，所述冷卻管在所述冷卻單元內(nèi)部的排布形狀呈U字形、圓環(huán)形、鋸齒形中的任意一種或幾種。
[0013]進一步的，所述冷卻裝置還包括:制冷壓縮機，所述制冷壓縮機用于向所述冷卻管內(nèi)壓入冷卻液。
[0014]進一步的，所述冷卻液包括冷卻水、液態(tài)二氧化碳、乙醇中的任意一種或幾種。
[0015]另一方面，本發(fā)明實施例還提供了一種真空蒸鍍設(shè)備，包括上述所述的冷卻裝置。
[0016]本發(fā)明實施例提供的一種冷卻裝置以及真空蒸鍍設(shè)備，其中冷卻裝置中設(shè)置有冷卻單元、驅(qū)動單元以及設(shè)置于冷卻單元內(nèi)部的冷卻管。在真空蒸鍍設(shè)備完成蒸鍍工藝后，驅(qū)動冷卻單元包覆蒸發(fā)源，從而加速真空蒸鍍設(shè)備的冷卻過程，提高該真空蒸鍍設(shè)備的使用效率?！緦＠綀D】

【附圖說明】[0017]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0018]圖1為本發(fā)明實施例提供的一種冷卻裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖2為本發(fā)明實施例冷卻裝置中冷卻管的排布示意圖之一；
[0020]圖3為本發(fā)明實施例冷卻裝置中冷卻管的排布示意圖之二。
【具體實施方式】
[0021 ] 本發(fā)明實施例提供的一種冷卻裝置以及真空蒸鍍設(shè)備，可以加速真空蒸鍍設(shè)備蒸發(fā)源的冷卻過程，減少真空蒸鍍設(shè)備冷卻所需時間，有效提高真空蒸鍍設(shè)備的使用效率。
[0022]以下描述中，為了說明而不是為了限定，提出了諸如特定系統(tǒng)結(jié)構(gòu)、接口、技術(shù)之類的具體細節(jié)，以便透切理解本發(fā)明。然而，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當清楚，在沒有這些具體細節(jié)的其它實施例中也可以實現(xiàn)本發(fā)明。在其它情況中，省略對眾所周知的裝置、電路以及方法的詳細說明，以免不必要的細節(jié)妨礙本發(fā)明的描述。
[0023]下面結(jié)合下述附圖對本發(fā)明實施例做詳細描述。
[0024]本發(fā)明的實施例提供一種冷卻裝置，如圖1所示，該冷卻裝置包括至少一個冷卻單元1、用于驅(qū)動冷卻單元1的驅(qū)動單元(圖1中未示出)以及設(shè)置于冷卻單元1內(nèi)部的冷卻管2。需要說明的是，舉例而言，驅(qū)動單元可通過導軌以及支架驅(qū)動冷卻單元1的位置移動，其具體驅(qū)動方式可由技術(shù)人員根據(jù)蒸發(fā)源10與冷卻單元1的配合情況來決定。
[0025]進一步的，冷卻管2設(shè)置于冷卻單元1的內(nèi)部。具體的，例如，如圖2所示，冷卻管2在冷卻單元1的內(nèi)部呈Z字形的排布形狀，從而在冷卻單元1內(nèi)均勻分布；或者，如圖3所示，冷卻管2在冷卻單元1的內(nèi)部呈鋸齒形的排布形狀。當然，冷卻管2在冷卻單元1內(nèi)部還可以呈其他的排布形狀，例如:U字形、圓環(huán)形等等。需要說明的是，在實際的制備過程中，冷卻管2在冷卻單元1內(nèi)部排布的形狀可以設(shè)置為任意形狀，只要冷卻管2均勻分布在冷卻單元1的內(nèi)部即可。當然，在任意一個冷卻單元1中還可以設(shè)置多根冷卻管2，從而進一步加快冷卻單元的冷卻效果。
[0026]需要補充的一點是，上述描述的冷卻管2中包括有至少一個冷卻液進料口 21以及至少一個冷卻液出料口 22 (參考圖1，圖1中冷卻管2包括有一個冷卻液進料口 21和一個冷卻液出料口 22)。
[0027]進一步對本發(fā)明實施例提供的一種冷卻裝置其工作過程進行一下描述。
[0028]其中，以如圖1所示冷卻裝置結(jié)構(gòu)為例。當真空蒸鍍設(shè)備在蒸鍍工藝時，技術(shù)人員可利用驅(qū)動單元驅(qū)動冷卻單元1，從而使得冷卻單元1被離真空蒸鍍設(shè)備的蒸發(fā)源10。此時冷卻裝置并不工作，真空蒸鍍設(shè)備利用蒸發(fā)源10加熱，進而完成對待成膜材質(zhì)的加熱蒸鍍操作。
[0029]進一步的，當蒸鍍工藝結(jié)束后，技術(shù)人員可利用驅(qū)動單元驅(qū)動冷卻單元1，從而使得冷卻單元1包覆真空蒸鍍設(shè)備的蒸發(fā)源10。需要說明的是，由于真空蒸鍍設(shè)備其蒸發(fā)源10的形狀以及冷卻單元1的形狀有多種可能的情況，因此，圖1所示僅作為一種示例。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以確定的是，冷卻單元1與蒸發(fā)源10形狀相互匹配且冷卻單元1能夠接觸蒸發(fā)源10時，冷卻裝置的冷卻效果最佳。
[0030]此時，在驅(qū)動冷卻單元1包覆蒸發(fā)源10后，由于冷卻單元1內(nèi)部的冷卻管2中循環(huán)有冷卻液，因此蒸發(fā)源10的熱量會迅速的被冷卻液帶走，從而有效的縮短了真空蒸鍍設(shè)備的冷卻過程。需要說明的是，本發(fā)明實施例提供的冷卻裝置可在冷卻完成后與蒸發(fā)源分離，從而便于開啟真空室并完成相關(guān)的操作，例如:技術(shù)人員可以開啟真空室進行更換襯底或者更換蒸發(fā)源的蒸鍍材質(zhì)等工藝步驟。
[0031]此外，作為本發(fā)明實施例的一種優(yōu)選實施方式，所述冷卻裝置還包括有制冷壓縮機。制冷壓縮機可用于在冷卻真空蒸鍍設(shè)備需要冷卻時，向冷卻管內(nèi)壓入冷卻液，通過提高冷卻液的循環(huán)速度，進一步提高冷卻裝置的冷卻效果。
[0032]其中，冷卻液可以為冷卻水、液態(tài)二氧化碳、乙醇以及其它可用于循環(huán)冷卻用所需的液體，在此不做贅述。
[0033]本發(fā)明實施例提供的一種冷卻裝置，其中冷卻裝置中設(shè)置有冷卻單元、驅(qū)動單元以及設(shè)置于冷卻單元內(nèi)部的冷卻管。在真空蒸鍍設(shè)備完成蒸鍍工藝后，驅(qū)動冷卻單元包覆蒸發(fā)源，從而加速真空蒸鍍設(shè)備的冷卻過程，提高該真空蒸鍍設(shè)備的使用效率。
[0034]另一方面，本發(fā)明實施例還提供了一種真空蒸鍍設(shè)備，該真空蒸鍍設(shè)備中包括上述實施例提及的冷卻裝置。其中，關(guān)于真空蒸鍍設(shè)備中包括的冷卻裝置其結(jié)構(gòu)以及工作過程，可對應(yīng)參照上述實施例中關(guān)于冷卻裝置的描述；而真空蒸鍍設(shè)備的其它結(jié)構(gòu)部分可以參照現(xiàn)有技術(shù)，在此不再贅述。
[0035]本發(fā)明實施例提供的一種 冷卻裝置以及真空蒸鍍設(shè)備，其中冷卻裝置中設(shè)置有冷卻單元、驅(qū)動單元以及設(shè)置于冷卻單元內(nèi)部的冷卻管。在真空蒸鍍設(shè)備完成蒸鍍工藝后，驅(qū)動冷卻單元包覆蒸發(fā)源，從而加速真空蒸鍍設(shè)備的冷卻過程，提高該真空蒸鍍設(shè)備的使用效率。
[0036]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實施方式】，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護范圍為準。
【權(quán)利要求】
1.一種冷卻裝置，用于冷卻真空蒸鍍設(shè)備的蒸發(fā)源，其特征在于，所述冷卻裝置包括:若干個冷卻單元；驅(qū)動單元，用于驅(qū)動所述冷卻單元包覆所述蒸發(fā)源；設(shè)置于所述冷卻單元內(nèi)部的冷卻管，所述冷卻管包括至少一個冷卻液進料口以及至少一個冷卻液出料口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，所述冷卻管在所述冷卻單元內(nèi)部的排布形狀呈Z字形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，所述冷卻管在所述冷卻單元內(nèi)部的排布形狀呈圓環(huán)形、U字形、鋸齒形中的任意一種或幾種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，所述冷卻裝置還包括:制冷壓縮機，所述制冷壓縮機用 于向所述冷卻管內(nèi)壓入冷卻液。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的冷卻裝置，其特征在于，所述冷卻液包括冷卻水、液態(tài)二氧化碳、乙醇中的任意一種或幾種。
6.一種真空蒸鍍設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-5任意項所述的冷卻裝置。
【文檔編號】C23C14/24GK103668083SQ201310684824
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2013年12月13日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月13日
【發(fā)明者】焦志強, 孫力 申請人:京東方科技集團股份有限公司