專利名稱：具有新結(jié)構(gòu)石墨舟的pecvd設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及半導(dǎo)體、光伏產(chǎn)業(yè)中的PECVD設(shè)備。
背景技術(shù)：
目前用于太陽能電池片生產(chǎn)的PECVD (等離子增強型化學(xué)氣相沉積)設(shè)備的產(chǎn)能有限，對于尺寸為125 mmX125 mm的硅片，每管可以裝載196或252片；對于156 mmX156 mm的硅片，每管裝載144或216片。然而，這一有限的產(chǎn)能及其生產(chǎn)的電池片性能不高如轉(zhuǎn)化效率、均勻性、色差等問題，已無法滿足快速發(fā)展的太陽能光伏發(fā)電產(chǎn)業(yè)。以上設(shè)備的承載裝置——石墨舟之現(xiàn)有結(jié)構(gòu)，是產(chǎn)能與電池片電性能妥協(xié)的結(jié)果，已經(jīng)大大制約了太陽能電池片電性能的提高。隨著太陽能電池片的不斷發(fā)展，研發(fā)和生產(chǎn)提升電池片電性能的新PECVD石墨舟及設(shè)備已經(jīng)成為必然趨勢。
發(fā)明內(nèi)容為了解決以上技術(shù)問題，本實用新型提供了一種可以提高太陽能電池片電性能的具有新結(jié)構(gòu)石墨舟的PECVD設(shè)備。本實用新型所述具有新結(jié)構(gòu)石墨舟的PECVD設(shè)備，包括硅片、石墨舟、石英管；其中石墨舟設(shè)置于石英管內(nèi)；石墨舟包括若干相互平行的石墨舟片，石墨舟片之間形成凹槽， 石墨舟片之間的距離為13mm;硅片設(shè)置于凹槽內(nèi)。該設(shè)備用于太陽能電池芯片生產(chǎn)的“減反射膜”工序，它的原理如下在密閉的真空爐體內(nèi)，填充了工藝氣體一娃烷和氨氣，它們被射頻電離成了等離子體，這些等離子體的化學(xué)性能很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在硅片上沉積出所希望的薄膜。裝在石墨舟內(nèi)的硅片在爐體內(nèi)均勻的分布，氣體可以在硅片表面均勻地沉積。在電離過程中，不同間距的石墨舟片會形成不同的電場，間距大的電場更適合電池片的生產(chǎn)工藝。本實用新型所述具有新結(jié)構(gòu)石墨舟的PECVD設(shè)備，通過生產(chǎn)實驗證明，對太陽能電池片的發(fā)電功率有很大的提升，同時也極大的改善了管式PECVD電池片的色差問題。
圖1為本實用新型所述具有新結(jié)構(gòu)石墨舟的PECVD設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖1中石墨舟片部分的放大圖。圖中編號說明1-硅片；2-石墨舟；3-石英管；4-石墨舟片，5-石墨舟片的間距d。
具體實施方式
結(jié)合圖1本實用新型所述具有新結(jié)構(gòu)石墨舟的PECVD設(shè)備進行詳細說明。如圖1所示，本實用新型所述具有新結(jié)構(gòu)石墨舟的PECVD設(shè)備，包括若干硅片1即太陽能電池片、石墨舟2、石英管3，石墨舟片4。[0014]如圖2所示，石墨舟2包括若干石墨舟片4，這些石墨舟片4之間相互平行，它們之間的距離為13mm，石墨舟片4與石墨舟片4之間形成凹槽，若干硅片1設(shè)置于凹槽內(nèi)。本實用新型所述具有新結(jié)構(gòu)石墨舟的PECVD設(shè)備，通過生產(chǎn)實驗證明，對太陽能電池片的發(fā)電功率有很大的提升。同時，硅片鍍膜時，不同間距的石墨舟片會形成不同的電場，間距大的電場更適合電池片的生產(chǎn)工藝，氣體可以在硅片表面均勻地沉積，極大的改善了管式PECVD電池片的色差問題。
權(quán)利要求1. 一種具有新結(jié)構(gòu)石墨舟的PECVD設(shè)備，其特征在于它包括硅片、石墨舟、石英管；其中石墨舟設(shè)置于石英管內(nèi)；石墨舟包括若干相互平行的石墨舟片，石墨舟片之間形成凹槽，石墨舟片之間的距離為13mm ；硅片設(shè)置于凹槽內(nèi)。
專利摘要本實用新型所述具有新結(jié)構(gòu)石墨舟的PECVD設(shè)備，包括硅片、石墨舟、石英管；其中石墨舟設(shè)置于石英管內(nèi)；石墨舟包括若干相互平行的石墨舟片，石墨舟片之間形成凹槽，石墨舟片之間的距離為13mm；硅片設(shè)置于凹槽內(nèi)；本實用新型所述具有新結(jié)構(gòu)石墨舟的PECVD設(shè)備，通過生產(chǎn)實驗證明，對太陽能電池片的發(fā)電功率有很大的提升，同時也極大的改善了管式PECVD電池片的色差問題。
文檔編號C23C16/458GK202323023SQ20112045990
公開日2012年7月11日 申請日期2011年11月18日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月18日
發(fā)明者宋立祿 申請人:青島賽瑞達電子科技有限公司