本發(fā)明屬于玻璃鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種通過準(zhǔn)分子激光加工進(jìn)行表面處理用于提高玻璃鍍銅連接強(qiáng)度的方法。
背景技術(shù):
在電子封裝技術(shù)領(lǐng)域,高性能的電子封裝要求電路板和基板材料理想地結(jié)合后應(yīng)該具有最佳的屬性。由于低成本、環(huán)境友好和高性能,玻璃作為一種非常有前途的基板替代材料受到了廣泛關(guān)注。用玻璃取代傳統(tǒng)的印刷電路板,在其表面上鍍銅膜的方法備受青睞。
在絕緣玻璃基板表面沉積導(dǎo)電軌道,對電子元件的制造很重要。然而,由于金屬鍍層和玻璃基板之間的物理、化學(xué)和機(jī)械性能的不匹配,在光滑的玻璃表面進(jìn)行金屬噴鍍是很困難的。如果基板與鍍層之間沒有足夠的粘附性,即使鍍膜后,鍍層也非常容易脫落下來。因此,提高鍍層與基板之間的粘附性是玻璃鍍膜技術(shù)得以發(fā)展的關(guān)鍵因素。
前人通過對界面粗糙度進(jìn)行研究,指出表面預(yù)處理是實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量粘接的關(guān)鍵,并且利用激光表面處理提高粘結(jié)強(qiáng)度的方法已經(jīng)成功應(yīng)用于金屬、合金和陶瓷,在玻璃鍍膜領(lǐng)域還未見深入研究。
提高表面粗糙度改善玻璃與銅膜之間粘附性能的有效途徑。通過表面處理,如等離子體粗糙化、機(jī)械磨損、化學(xué)改性、珠光噴砂,提高玻璃表面粗糙度的方法可以提高鍍層的粘附性。然而,這些表面處理方法只能產(chǎn)生隨機(jī)表面,難以控制在玻璃表面加工的效果。
因此,亟需一種產(chǎn)生均勻紋理結(jié)構(gòu)的加工方法,通過可控的玻璃表面處理技術(shù),顯著提高玻璃鍍膜粘接強(qiáng)度,這對于玻璃鍍膜技術(shù)的發(fā)展起著關(guān)鍵作用。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
針對上述問題的不足之處,本發(fā)明提供了一種提高玻璃鍍銅連接強(qiáng)度的方法,可以顯著提高銅膜與玻璃基板的連接強(qiáng)度。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種提高玻璃鍍銅連接強(qiáng)度的方法,包括以下步驟:
步驟1、選取cmg玻璃基板;
步驟2、將cmg玻璃基板放置在工作臺(tái)上,調(diào)整工作臺(tái)使準(zhǔn)分子激光器發(fā)出的準(zhǔn)分子激光束對準(zhǔn)加工位置;
步驟3、根據(jù)焦點(diǎn)位置調(diào)整cmg玻璃基板到焦平面的距離;
步驟4、通過改變激光加工參數(shù),在玻璃表面形成不同的紋理圖案結(jié)構(gòu),得到不同的蝕刻深度及三維表面粗糙度特征,所述激光加工參數(shù)包含:激光重復(fù)頻率、激光能量密度、衰減器位置;
步驟5、將準(zhǔn)分子激光加工好的粗糙化表面用未稀釋的decon90清洗5分鐘,并用去離子水沖洗3-5分鐘;
步驟6、采用催化劑溶液激活玻璃表面并用去離子水沖洗3-5分鐘;
步驟7、將經(jīng)過處理的玻璃基板浸入鍍銅槽浸泡10分鐘,最后進(jìn)行沖洗并干燥;
步驟8、通過劃痕試驗(yàn)定量檢測在玻璃上鍍銅的質(zhì)量;
步驟9、最后進(jìn)行三維形貌測量,并將劃痕測試結(jié)果與三維表面粗糙度參數(shù)相結(jié)合,找到鍍層失效的臨界負(fù)載。
作為優(yōu)選,步驟1中,cmg玻璃基板的尺寸為40mm*40mm,厚度為100μm。
作為優(yōu)選,步驟3中,cmg玻璃基板在焦平面以下2mm位置處。
作為優(yōu)選,步驟4中,采用單一變量法,依次探究重復(fù)頻率、能量密度、單位面積上的脈沖個(gè)數(shù)、衰減器位置設(shè)置不同值時(shí)對蝕刻深度、加工質(zhì)量的影響;刻蝕深度取決于激光的能量密度和單位面積上的脈沖個(gè)數(shù),并且可以通過提高能量密度、單位面積上的脈沖個(gè)數(shù)和激光脈沖重復(fù)頻率來提高加工質(zhì)量。
作為優(yōu)選,固定脈沖持續(xù)時(shí)間為20ns,激光蝕刻最小的能量為140mj,衰減器的位置為0.9。
作為優(yōu)選,cmg玻璃對波長在193nm到308nm之間的光的吸收率大于80%,采用波長為248nm的krf準(zhǔn)分子激光器進(jìn)行表面處理,能夠有效地利用激光能量。
本發(fā)明提高玻璃鍍銅連接強(qiáng)度的方法,采用準(zhǔn)分子激光加工使玻璃基板表面粗糙化后,可以顯著提高鍍層與玻璃基板之間連接強(qiáng)度的方法。通過改變激光參數(shù)對激光加工效果實(shí)現(xiàn)控制,使表面上產(chǎn)生不同微觀結(jié)構(gòu)陣列,采用三維表面形貌測量和三維參數(shù)表征處理后的玻璃表面形貌,并通過劃痕試驗(yàn)來評估鍍銅的粘附強(qiáng)度,有利于最大化使用激光加工能量,節(jié)省加工所用時(shí)間,控制加工效果,以達(dá)到理想的粗糙化表面,從而顯著提高玻璃鍍膜的質(zhì)量。
附圖說明
圖1準(zhǔn)分子激光加工系統(tǒng)示意圖;
圖2準(zhǔn)分子激光加工后玻璃基板的三維表面形貌;
圖3粗糙化的玻璃表面鍍銅效果;
圖4準(zhǔn)分子激光加工前后玻璃基板表面劃痕試驗(yàn)結(jié)果對比。
其中,圖1中,1-準(zhǔn)分子激光器,2-衰減器,3-擴(kuò)束器和整形器,4-光束掃描單元,5-物鏡,6-掩模,7-成像透鏡,8-x,y,z工作臺(tái);
圖4中,(a)準(zhǔn)分子激光加工前的光滑玻璃基板表面劃痕試驗(yàn)結(jié)果,當(dāng)載荷為1.0n時(shí),出現(xiàn)分層失效(b)準(zhǔn)分子激光加工后粗糙的玻璃基板表面,載荷增大到12.6n時(shí)才出現(xiàn)分層失效,顯著提高了玻璃/銅膜之間的粘附力。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明提供一種提高玻璃鍍銅連接強(qiáng)度的方法,利用準(zhǔn)分子激光對玻璃表面進(jìn)行粗糙化,可以顯著提高銅膜與玻璃基板的連接強(qiáng)度。
準(zhǔn)分子激光光源為紫外光脈沖,具有較強(qiáng)的脈沖能量和光子能量,加工質(zhì)量高且對被加工區(qū)域周圍影響較小,材料不會(huì)出現(xiàn)燒損、殘?jiān)兔痰痊F(xiàn)象。此外,準(zhǔn)分子激光脈沖寬度較窄,在對材料加工過程中沒有足夠的時(shí)間向周圍大量擴(kuò)散熱量,因此熱影響區(qū)很小乃至于不存在,這樣可以保證加工的精度和質(zhì)量。與nd:yag(λ=1.06μm)和co2(λ=10.6μm)激光器相比,準(zhǔn)分子激光波長較短,可以使光束聚焦成很小的斑點(diǎn),獲得較高的能量密度,并在工件上產(chǎn)生較小的熱影響區(qū)。因此,采用準(zhǔn)分子激光進(jìn)行加工。
然而,準(zhǔn)分子激光的發(fā)散度和不均勻性相當(dāng)大,光束相干性較差,所以通常采用掩模系統(tǒng),使光束均勻化,產(chǎn)生最佳加工效果。
所述玻璃選用商用cmg玻璃,商用cmg玻璃是一種硼硅酸鹽型玻璃,其表面有一層二氧化鈰,可以吸收波長小于320nm的光。cmg玻璃的物理特性表明,它可以滿足電子封裝的要求。因此,選用cmg玻璃進(jìn)行實(shí)驗(yàn)研究。
準(zhǔn)分子激光加工波長在區(qū)間[193,308]nm內(nèi)時(shí),鍍層對光的吸收率大于80%。對于krf準(zhǔn)分子激光器,波長為248nm,光量子具有5ev的能量,足以打破化學(xué)鍵,引起吸收區(qū)內(nèi)壓力增加,并以爆炸的方式發(fā)射。因此,選用krf準(zhǔn)分子激光器。
通過改變激光加工參數(shù)可以得到不同的蝕刻深度及三維表面粗糙度特征,改變掩模形狀可在玻璃表面形成不同的紋理圖案,并產(chǎn)生大小可控的粘附力,改善了玻璃上鍍銅的粘附性,從而提高了玻璃鍍膜的質(zhì)量。準(zhǔn)分子激光加工后玻璃基板的三維表面形貌,如圖2所示。
為了實(shí)現(xiàn)最好的粘附效果,系統(tǒng)研究每個(gè)加工參數(shù)的影響,對加工過程進(jìn)行優(yōu)化。通過改變激光加工的能量密度、單位面積上的脈沖個(gè)數(shù)、重復(fù)頻率實(shí)現(xiàn)對加工效果的控制,有助于最大限度地利用激光能量,減少加工時(shí)間。
對具有特定紋理結(jié)構(gòu)的玻璃表面進(jìn)行金屬噴鍍。為了涂層的稠度和厚度,對工作溫度、化學(xué)濃度和浸泡時(shí)間等參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化;粗糙化的玻璃表面鍍銅效果,如圖3所示。
采用劃痕試驗(yàn)量化玻璃與鍍膜之間的粘接強(qiáng)度,找到失效的臨界值。
在加工前,必須根據(jù)試樣的厚度對焦點(diǎn)位置進(jìn)行調(diào)整,以保證激光加工質(zhì)量。
激光加工系統(tǒng)的設(shè)置如圖1,激光束穿過光束傳輸系統(tǒng),根據(jù)需要在垂直和水平方向上反射以改變傳輸方向。光束傳輸系統(tǒng)主要由準(zhǔn)分子激光器、衰減器、擴(kuò)束器和整形器、光束掃描單元、物鏡、掩模、成像透鏡、x,y,z工作臺(tái)組成,用于光束的擴(kuò)展、成形、掃描和圖像投影。在這之后,它被投射到掩模平面上,通過不同的尺寸和形狀的掩??讖絹碚{(diào)整光束的形狀和大小。最后,光束通過一個(gè)投影透鏡產(chǎn)生大約1:10的縮小圖像到安裝在數(shù)控工作臺(tái)上的試樣表面。衰減器(從0.0-0.95的設(shè)置范圍)緊鄰光闌,通過吸收或反射部分光束來降低激光束的能量。
激光燒蝕過程中,工作臺(tái)可以在x軸和y軸方向移動(dòng),并可在z軸方向上旋轉(zhuǎn)。在操作過程中,始終保證工作臺(tái)上的試件加工區(qū)域與激光束垂直。
由于焦平面處產(chǎn)生最均勻的能量密度,所以在偏離焦平面位置上的光束是不均勻的,非均勻光束可以用于粗糙的表面加工。此外,被加工試件位于非焦平面位置時(shí)需要更多的激光能量來達(dá)到去除材料的目的。
由于光學(xué)系統(tǒng)的極限分辨力受到衍射效應(yīng)的限制,與輻射的波長成正比,而準(zhǔn)分子激光有相對較短的波長(紫外線范圍)和脈沖時(shí)間(20ns),使得高強(qiáng)度能量在非常薄的表層材料被吸收,可以有效去除目標(biāo)區(qū)域的材料。這對于在玻璃基板表面形成微觀結(jié)構(gòu)具有重要意義。
本發(fā)明提供一種顯著提高玻璃鍍銅連接強(qiáng)度的方法,整個(gè)流程為:準(zhǔn)分子激光加工玻璃基板-三維表面形貌測量和表征-化學(xué)鍍銅-劃痕測試-臨界載荷分析,具體包括以下步驟:
選取合適的試樣,這里采用內(nèi)cmg玻璃基板,尺寸為40mm*40mm,厚度為100um.
準(zhǔn)備好玻璃基板試樣,清理表面臟污,放置在工作臺(tái)上,調(diào)整工作臺(tái)使激光束對準(zhǔn)加工位置。
根據(jù)焦點(diǎn)位置調(diào)整玻璃基板到焦平面的距離,本實(shí)驗(yàn)對比了焦平面處和焦平面以下2mm位置處的加工效果。根據(jù)三維參數(shù)值大小,確定試樣在焦平面以下2mm位置處更容易加工出粗糙表面。
采用單一變量法,依次探究重復(fù)頻率、能量密度、單位面積上的脈沖個(gè)數(shù)、衰減器位置設(shè)置不同值時(shí)對蝕刻深度、加工質(zhì)量的影響。結(jié)果表明,刻蝕深度取決于激光的能量密度和單位面積上的脈沖個(gè)數(shù),并且可以通過提高能量密度、單位面積上的脈沖個(gè)數(shù)和激光脈沖重復(fù)頻率來提高加工質(zhì)量。這里固定脈沖持續(xù)時(shí)間為20ns,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,激光蝕刻最小的能量為140mj,衰減器的位置為0.9最佳,折中考慮加工質(zhì)量和加工時(shí)間來設(shè)置加工參數(shù)值。
可以通過加工參數(shù)、輸出脈沖能量和衰減器位置對激光表面處理的可控性進(jìn)行優(yōu)化,以加工出粘附性最好的粗糙表面。
將準(zhǔn)分子激光加工好的粗糙化表面用未稀釋的decon90清洗5分鐘,并用去離子水沖洗3-5分鐘。
用催化劑溶液激活玻璃表面并用去離子水沖洗3-5分鐘。
將經(jīng)過處理的玻璃基板浸入鍍銅槽浸泡10分鐘,最后進(jìn)行沖洗并干燥。
通過劃痕試驗(yàn)定量檢測在玻璃上鍍銅的質(zhì)量。
最后,進(jìn)行三維形貌測量,并將劃痕測試結(jié)果與三維表面粗糙度參數(shù)相結(jié)合,找到鍍層失效的臨界負(fù)載;準(zhǔn)分子激光加工前后玻璃基板表面劃痕試驗(yàn)結(jié)果對比,如圖4所示。