本發(fā)明涉及半導體，特別是涉及一種用于半導體外觀檢測設(shè)備照明光源濾波裝置。

背景技術(shù)：

1、半導體工業(yè)普遍使用的光刻膠，在遭遇光線照射(特別是紫外線)即有曝光之效果，因此在顯影之前，都要遠離此光源。

2、camtek?adi背照式(bsi)模塊使用的是白光，而白光會在幾秒內(nèi)使涂有光刻膠層的基材曝光，從而使可重復性的光刻工藝變得不可能。

3、因此，需要提出一種新的裝置來解決上述問題。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，本發(fā)明的目的在于提供一種用于半導體外觀檢測設(shè)備照明光源濾波裝置，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中由于bsi照明模塊白光會在幾秒內(nèi)使涂有光刻膠層的基材曝光的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本發(fā)明提供一種用于半導體外觀檢測設(shè)備照明光源濾波裝置，至少包括：

3、白光光源；

4、濾波色輪；所述濾波色輪設(shè)有第一濾色板；所述第一濾色板用于將所述白光光源輸出為黃光；

5、光譜儀；所述光譜儀用于檢測輸出的所述黃光的波長是否符合光刻工藝要求；

6、均光板；所述均光板用于將輸出的符合光刻工藝要求的黃光進行背景照明。

7、優(yōu)選地，所述白光光源設(shè)有燈罩。

8、優(yōu)選地，所述濾波色輪安裝在所述燈罩上。

9、優(yōu)選地，所述濾波色輪上還設(shè)有第二、第三濾色板；其中所述第二濾色板對所述白光光源全部透射；所述第三濾色板用于將所述白光光源輸出為紫光。

10、優(yōu)選地，所述輸出的符合光刻工藝要求的黃光的波長大于450nm。

11、優(yōu)選地，所述第一至第三濾色板分別呈扇形依次分布于所述濾波色輪上，且所述第一至第三濾色板在所述濾波色輪上排布組合形成圓形。

12、優(yōu)選地，所述白光光源經(jīng)所述第一至第三濾色板在所述濾波色輪上的任意切換，輸出黃光、白光或紫光中指定的光照。

13、如上所述，本發(fā)明的用于半導體外觀檢測設(shè)備照明光源濾波裝置，具有以下有益效果：本發(fā)明在白光光源燈罩上方安裝一塊光刻室專用濾波色輪將白光過濾為黃光波段輸出，同時考慮到多光源切換的實際需求，濾波色輪也可切換白光和紫光等模式。經(jīng)全光譜檢測確認黃光波長符合光刻工藝要求，節(jié)約成本，波段控制穩(wěn)定可靠。

技術(shù)特征：

1.一種用于半導體外觀檢測設(shè)備照明光源濾波裝置，其特征在于，至少包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導體外觀檢測設(shè)備照明光源濾波裝置，其特征在于：所述白光光源設(shè)有燈罩。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導體外觀檢測設(shè)備照明光源濾波裝置，其特征在于：所述濾波色輪安裝在所述燈罩上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導體外觀檢測設(shè)備照明光源濾波裝置，其特征在于：所述濾波色輪上還設(shè)有第二、第三濾色板；其中所述第二濾色板對所述白光光源全部透射；所述第三濾色板用于將所述白光光源輸出為紫光。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導體外觀檢測設(shè)備照明光源濾波裝置，其特征在于：所述輸出的符合光刻工藝要求的黃光的波長大于450nm。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于半導體外觀檢測設(shè)備照明光源濾波裝置，其特征在于：所述第一至第三濾色板分別呈扇形依次分布于所述濾波色輪上，且所述第一至第三濾色板在所述濾波色輪上排布組合形成圓形。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于半導體外觀檢測設(shè)備照明光源濾波裝置，其特征在于：所述白光光源經(jīng)所述第一至第三濾色板在所述濾波色輪上的任意切換，輸出黃光、白光或紫光中指定的光照。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種用于半導體外觀檢測設(shè)備照明光源濾波裝置，包括白光光源、濾波色輪；濾波色輪設(shè)有第一濾色板；第一濾色板用于將白光光源輸出為黃光；光譜儀用于檢測輸出的黃光的波長是否符合光刻工藝要求；均光板用于將輸出的符合光刻工藝要求的黃光進行背景照明。本發(fā)明同時考慮到多光源切換的實際需求，濾波色輪也可切換白光和紫光等模式。經(jīng)全光譜檢測確認黃光波長符合光刻工藝要求，節(jié)約成本，波段控制穩(wěn)定。

技術(shù)研發(fā)人員：程鵬
受保護的技術(shù)使用者：上海華力集成電路制造有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/10/21