專利名稱：反射膜及應(yīng)用其的背光源的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種反射膜及應(yīng)用其的背光源。
背景技術(shù)：
背光源是位于液晶顯示面板背后的一個(gè)獨(dú)立的裝置，用于向液晶顯示面板提供面光源，它的發(fā)光效果將直接影響到液晶顯示器的顯示效果。背光源主要由燈管、導(dǎo)光板、反射膜等構(gòu)件組成。其中的反射膜與導(dǎo)光板的下表面，用于反射導(dǎo)光板內(nèi)射向下表面的光線。現(xiàn)有的反射膜主要由第一保護(hù)層、反射層及第二保護(hù)層依次層疊構(gòu)成。其中，第一保護(hù)層的上表面與導(dǎo)光板的下表面靠近設(shè)置。第一保護(hù)層和第二保護(hù)層主要用于保護(hù)和支撐反射膜。具體而言，第一保護(hù)層和第二保護(hù)層的材質(zhì)可以為PET (Polyethyleneterephthalate,聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)，或者其他聚酯材料。在背光源的制造過程中，一些肉眼難以分辨、大小在20微米以下的異物會(huì)落在第一保護(hù)層與導(dǎo)光板之間。由于第一保護(hù)層與導(dǎo)光板的表面都為光滑平面，因此，當(dāng)背光源發(fā)生振動(dòng)時(shí)，存在于第一保護(hù)層與導(dǎo)光板之間的異物會(huì)與第一保護(hù)層和導(dǎo)光板發(fā)生摩擦，從而導(dǎo)致第一保護(hù)層和導(dǎo)光板被異物劃傷，進(jìn)而造成背光源劃傷不良的產(chǎn)生，具體畫面表現(xiàn)為亮線劃痕或亮點(diǎn)。針對(duì)上述異物導(dǎo)致背光源劃傷不良的問題，現(xiàn)有技術(shù)提出了一種在第一保護(hù)層的上表面與導(dǎo)光板的下表面的接觸面上增加微小、柔軟的凸起結(jié)構(gòu)的方法，以減小第一保護(hù)層的上表面與導(dǎo)光板下表面的接觸面積，從而減小第一保護(hù)層和導(dǎo)光板被異物劃傷的面積。但是，由于凸起結(jié)構(gòu)在受到較大的摩擦力時(shí)易脫落，脫落下來的凸起結(jié)構(gòu)會(huì)成為存在于第一保護(hù)層和導(dǎo)光板之間的異物，反而增加了第一保護(hù)層和導(dǎo)光板被異物劃傷的幾率，也就增大了背光源劃傷不良的幾率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例提供一種反射膜及應(yīng)用其的背光源，解決了使用現(xiàn)有的反射膜時(shí)，因反射膜和導(dǎo)光板之間存在異物，導(dǎo)致的反射膜和導(dǎo)光板被異物劃傷的幾率較高的問題。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案一種反射膜，依次包括第一保護(hù)層、反射層及第二保護(hù)層，所述第一保護(hù)層的上表面具有凹陷結(jié)構(gòu)。優(yōu)選地，所述凹陷結(jié)構(gòu)為凹槽。 優(yōu)選地，所述凹槽的縱向內(nèi)表面為圓弧形。其中，所述凹槽的個(gè)數(shù)為多個(gè)。優(yōu)選地，所述凹槽的高度為20微米至25微米；所述凹槽的開口寬度為40微米至60微米。
其中，所述凹陷結(jié)構(gòu)為凹坑。優(yōu)選地,所述凹坑的內(nèi)表面為圓弧面。優(yōu)選地，所述凹坑的個(gè)數(shù)為多個(gè)。其中，所述凹坑的高度為20微米；所述凹坑開口的直徑為40微米。一種背光源，包括導(dǎo)光板，還包括上述的反射膜，其中所述第一保護(hù)層靠近所述導(dǎo)光板下表面設(shè)置。本發(fā)明實(shí)施例提供的反射膜及應(yīng)用其的背光源中，由于第一保護(hù)層可以與與導(dǎo)光板表面貼合，且第一保護(hù)層的上表面具有凹陷結(jié)構(gòu)，使得第一保護(hù)層的與導(dǎo)光板表面貼合的表面面積減小了，從而當(dāng)背光源振動(dòng)時(shí)，存在于反射膜和導(dǎo)光板之間的異物與反射膜和導(dǎo)光板發(fā)生摩擦的面積減小了。并且，存在于反射膜和導(dǎo)光板之間的異物會(huì)隨著背光源的振動(dòng)而掉落到凹陷結(jié)構(gòu)中，異物能夠被儲(chǔ)存在凹陷機(jī)構(gòu)中，使得存在于反射膜和導(dǎo)光板之間的異物量減少，從而大大降低了反射膜和導(dǎo)光板被異物劃傷的幾率。


為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹。圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種反射膜的縱向截面示意圖；圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的又一種反射膜的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的再一種反射膜的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式如圖1所示，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種反射膜12，依次包括第一保護(hù)層121、反射層122及第二保護(hù)層123，第一保護(hù)層121的上表面1211具有凹陷結(jié)構(gòu)13。本發(fā)明實(shí)施例提供的一種反射膜12中，由于第一保護(hù)層121可以與與導(dǎo)光板11表面貼合，且第一保護(hù)層121的上表面1211具有凹陷結(jié)構(gòu)13，使得第一保護(hù)層121的與導(dǎo)光板11表面貼合的表面面積減小了，從而當(dāng)背光源(圖1中未示出)振動(dòng)時(shí)，存在于反射膜12和導(dǎo)光板11之間的異物14與反射膜12和導(dǎo)光板11發(fā)生摩擦的面積減小了。并且，存在于反射膜12和導(dǎo)光板11之間的異物14會(huì)隨著背光源的振動(dòng)而掉落到凹陷結(jié)構(gòu)13中，異物14能夠被儲(chǔ)存在凹陷機(jī)構(gòu)13中，使得存在于反射膜12和導(dǎo)光板11之間的異物14量減少，從而大大降低了反射膜12和導(dǎo)光板11被異物14劃傷的幾率。上述實(shí)施例提供的反射膜中，如圖2所示，凹陷結(jié)構(gòu)13可為凹槽21。由于凹槽21能夠容納異物14，使得反射膜12與導(dǎo)光板11之間的異物14能夠隨背光源的振動(dòng)而掉落到凹槽21中，并且，凹槽21可以容納的異物14量較多。上述實(shí)施例提供的反射膜中，凹槽21的縱向內(nèi)表面可以為圓弧形，由于圓弧形表面更利于物體滾動(dòng)，因此異物14更容易沿著圓弧形的內(nèi)表面向凹槽21中滑落。上述實(shí)施例提供的反射膜中，凹槽21的個(gè)數(shù)可以為多個(gè)。多個(gè)凹槽21能夠容納的較大量的異物14，同時(shí)使反射膜12的第一保護(hù)層121的上表面1211與導(dǎo)光板11下表面貼合的表面面積顯著地減小，從而大大降低反射膜12和導(dǎo)光板11被異物14劃傷的幾率。上述實(shí)施例提供的反射膜中，多個(gè)凹槽21可以相互平行，使得儲(chǔ)存于凹槽21中的異物14更容易隨背光源的振動(dòng)而排出。上述實(shí)施例提供的反射膜中，由于異物14的大小在20微米以下，凹槽21的高度h可為20微米至25微米、開口寬度b可為40微米至60微米，因此凹槽21不僅能夠?qū)愇?4儲(chǔ)存，也有利于異物14順暢地從凹槽21中排出。上述實(shí)施例提供的反射膜中，如圖3所示，凹陷結(jié)構(gòu)13可以為凹坑31。由于凹坑31能夠容納異物14，使得反射膜12與導(dǎo)光板11之間的異物14能夠隨背光源的振動(dòng)而掉落到凹坑31中，并且，凹坑31可以容納的異物14量較多。上述實(shí)施例提供的反射膜中，凹坑31的表面為圓弧面，使得異物14更容易沿圓弧表面滑落到凹坑31中。上述實(shí)施例提供的反射膜中，凹坑31的個(gè)數(shù)可以為多個(gè)。多個(gè)凹坑31能夠容納的較大量的異物14，同時(shí)使反射膜12的第一保護(hù)層121與導(dǎo)光板11下表面貼合的表面面積顯著地減小，從而大大降低反射膜12和導(dǎo)光板11被異物14劃傷的幾率。上述實(shí)施例提供的反射膜中，多個(gè)凹坑31可以不規(guī)則地分布，當(dāng)光線射到凹坑31中會(huì)發(fā)生散射，光線的散射作用可以使從反射膜12中反射出去的光線的均一度更好。上述實(shí)施例提供的反射膜中，由于異物14的大小在20微米以下，凹坑31的高度可為20微米至25微米、開口直徑為40微米至60微米，使得凹坑31不僅能夠?qū)愇?4儲(chǔ)存，也有利于射入到反射膜12上的光線發(fā)生散射，從而提高從反射膜12中反射出去的光線的均一度。本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種背光源，包括導(dǎo)光板，還包括上述實(shí)施例描述的反射膜，其中上述第一保護(hù)層靠近該導(dǎo)光板下表面設(shè)置。本發(fā)明實(shí)施例提供的背光源中，由于使用了上述實(shí)施例描述的反射膜，且該反射膜中第一保護(hù)層層靠近導(dǎo)光板下表設(shè)置，使得第一保護(hù)層與導(dǎo)光板的下表面貼合的表面面積減小了，并且使存在于反射膜和導(dǎo)光板之間的異物量減少，從而大大降低了反射膜和導(dǎo)光板被異物劃傷的幾率，進(jìn)而大大降低了背光源發(fā)光不均勻的幾率。以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式
，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種反射膜，依次包括第一保護(hù)層、反射層及第二保護(hù)層，其特征在于，所述第一保護(hù)層的上表面具有凹陷結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射膜，其特征在于，所述凹陷結(jié)構(gòu)為凹槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反射膜，其特征在于，所述凹槽的縱向內(nèi)表面為圓弧形。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反射膜，其特征在于，所述凹槽的個(gè)數(shù)為多個(gè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的反射膜，其特征在于，所述凹槽的高度為20微米至25微米；所述凹槽的開口寬度為40微米至60微米。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射膜，其特征在于，所述凹陷結(jié)構(gòu)為凹坑。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的反射膜，其特征在于，所述凹坑的內(nèi)表面為圓弧面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的反射膜，其特征在于，所述凹坑的個(gè)數(shù)為多個(gè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求6-8任一項(xiàng)所述的反射膜，其特征在于，所述凹坑的高度為20微米至25微米；所述凹坑開口的直徑為40微米至60微米。
10.一種背光源,包括導(dǎo)光板,其特征在于,還包括權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的反射膜，其中所述第一保護(hù)層靠近所述導(dǎo)光板下表面設(shè)置。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種反射膜及應(yīng)用其的背光源，涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，為了解決使用現(xiàn)有的反射膜時(shí)，因反射膜和導(dǎo)光板之間存在異物，導(dǎo)致的反射膜和導(dǎo)光板被異物劃傷的幾率較高的問題。該反射膜依次包括第一保護(hù)層、反射層及第二保護(hù)層，其中，第一保護(hù)層的上表面具有凹陷結(jié)構(gòu)。
文檔編號(hào)F21V7/00GK103062708SQ20131001174
公開日2013年4月24日 申請(qǐng)日期2013年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月11日
發(fā)明者桑建, 孫海威 申請(qǐng)人:北京京東方光電科技有限公司