專利名稱：金屬帶材的磁控濺射真空拋光的方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
按本發(fā)明的設(shè)備還可單獨地或以組合方式具有以下特征 [22所述清理裝置是具有局部機械作用的清理裝置， [23所述清理裝置由剛性刮刀構(gòu)成，所述剛性刮刀與所述對電極的活 動表面進行接觸， 每個對電極3、 3'配有一刮刀5、 5，，所述刮刀布置在金屬帶材2 的拋光等離子體幔(ombre)中。刮刀5、 5'固定的實施必須特別精細，以 防在對電極3、 3'和其它安裝構(gòu)件之間形成短路，甚至在室的內(nèi)表面由剝 離的導電微粒造成金屬化之后，更容易形成短路?？菇饘倩舭蹇蓢@絕 緣體加以布置。這些隔板位于腔1的壁與刮刀5、 5'之間，以使它們彼此 絕緣。因此，刮刀5、 5'的支承件不會被金屬化，從而避免任何短路。 刮刀5、 5'可用適于刮刀不導電條件的任何材料制成。尤其是可 用陶瓷或玻璃制成。
[39此外，可采取預(yù)防措施，以使刮刀5、 5'不朝金屬帶材2噴射碎 屑，甚至在回彈之后。
[40真空腔1還包括回收箱6，其回收由刮刀5、 5'刮掉的物質(zhì)。
[41當金屬帶材2在真空腔1中被拋光時，使對電極3、 3'以比較緩 慢的運動轉(zhuǎn)動，從而利用刮刀5、 5'不斷地清理所述對電極。由刮刀刮掉 的物質(zhì)下落到箱6中，所述箱6可定期清空。
[42現(xiàn)在參照圖2，其示出本發(fā)明的第二實施方式，在該實施方式中， 向?qū)﹄姌O3、 3'施加交流電位，行進的金屬帶材2接地或不接地。
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系統(tǒng)可由一個或多個對電極構(gòu)成。如圖3局部視圖中所示的，對 電極7也可包括傳動帶8，所述傳動帶8張緊在兩個輥9、9'之間并按照"傳
送帶"的原理被驅(qū)動。安裝在等離子體幔中的刮刀10當傳動帶行進在真空
腔l中時可清理該傳動帶。
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實施例
[45拋光系統(tǒng)的效率指示標可以是能向拋光室施加的最大功率，而不 形成電弧。
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因此，對通常的拋光室和

圖1所示的拋光室進行過測定該最大功 率的試驗。
[47因此可測試到，按本發(fā)明的拋光設(shè)備的隨時間的穩(wěn)定的最大功 率，是具有平坦固定對電極的傳統(tǒng)設(shè)備的最大功率的兩倍以上。
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由于金屬帶材的磁控拋光腐蝕速度與施加的功率有關(guān)，因此按本 發(fā)明的對電極的使用可使拋光效率提高一倍。
[49上述對電極系統(tǒng)在短時間內(nèi)是適合的，且避免由來自金屬帶材表 面拋光的微粒產(chǎn)生電弧，或者避免陽極消失的問題。
權(quán)利要求
1.金屬帶材(2)的磁控濺射真空拋光方法，所述金屬帶材(2)在至少一個用導電材料制成的對電極(3，3′，7)之上行進在真空腔(1)中，其中，在所述金屬帶材(2)附近的氣體中形成等離子體，以產(chǎn)生作用于該金屬帶材(2)的基團和/或離子，約束磁路(4)布置在所述金屬帶材(2)之上，其特征在于，所述對電極(3，3′，7)具有能相對于所述金屬帶材(2)進行轉(zhuǎn)動和/或平移的活動表面，所述活動表面在拋光時被促使運動且在重新暴露于所述等離子體之前，由布置在等離子體幔中的清理裝置(5，5′，10)連續(xù)地進行清理。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的拋光方法，其特征在于，所述清理裝置(5, 5，， 10)是具有局部機械作用的清理裝置。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光方法，其特征在于，所述清理裝置(5， 5', 10)由剛性刮刀構(gòu)成，所述剛性刮刀與所述對電極(3, 3，， 7)的活 動表面進行接觸。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l至3中任一項所述的拋光方法，其特征在于，由于 所述清理裝置(5， 5', 10)的作用而從所述對電極(3， 3'， 7)的活動表 面刮掉的物質(zhì)利用布置在所述真空腔(l)下部的收集裝置(6)加以回收。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的拋光方法，其特征在于，所述 對電極(3， 3'， 7)相對于所述金屬帶材(2)進行正極化，所述金屬帶材(2)可接地或不接地。
6. 根據(jù)權(quán)利要求l至4中任一項所述的拋光方法，其特征在于，所述 對電極(3， 3'， 7)經(jīng)受交流電位，所述金屬帶材(2)可接地或不接地。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的方法，其特征在于，所述真空 腔(1)配有對電極(7)，所述對電極(7)由至少兩個旋轉(zhuǎn)輥(9, 9') 和張緊在所述旋轉(zhuǎn)輥(9， 9')上的傳動帶(8)構(gòu)成。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的方法，其特征在于，冷卻所述 對電極(3, 3'， 7)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的方法，其特征在于，所述金屬 帶材(2)是鋼帶。
10. 金屬帶材(2)的磁控'減射真空拋光設(shè)備，所述設(shè)備包括真空腔 (1)，其內(nèi)有至少一個對電極(3， 3，， 7);使所述金屬帶材極化的部件；使所述對電極(3， 3'， 7)極化的部件；在所述金屬帶材(2)與所述對電 極(3， 3'， 7)之間于氣體中形成等離子體的部件；至少一約束磁路U)， 其布置在所述金屬帶材(2)之上，且所述對電極(3, 3'， 7)具有相對于 所述金屬帶材(2)進行轉(zhuǎn)動和/或平移的活動表面；以及清理所述活動表 面的清理裝置(5， 5'， 10)，其布置在等離子體幔中。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述清理裝置(5， 5'， 10)是具有局部機械作用的清理裝置。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述清理裝置(5， 5'， 10)由剛性刮刀構(gòu)成，所述剛性刮刀與所述對電極(3， 3'， 7)的活 動表面進行接觸。
13. 根據(jù)權(quán)利要求10至12中任一項所述的拋光設(shè)備，其特征在于， 所述真空腔(1)還包括收集裝置(6)，其收集通過所述清理裝置(5， 5，， 10)的作用從所述對電極(3, 3，， 7)的活動表面刮掉的物質(zhì)，所述收集 裝置(6)布置在所述真空腔(1)的下部。
14. 根據(jù)權(quán)利要求10至13中任一項所述的拋光設(shè)備，其特征在于， 所述對電極(3， 3'， 7)相對于所述金屬帶材(2)進行正極化，所述金屬 帶材(2)可接地或不接地。
15. 根據(jù)權(quán)利要求10至13中任一項所述的拋光設(shè)備，其特征在于， 所述對電極(3， 3，， 7)經(jīng)受交流電位，所述金屬帶材(2)可接地或不接 地。
16. 根據(jù)權(quán)利要求10至15中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，所述 真空腔(1)配有對電極(7)，所述對電極(7)由至少兩個旋轉(zhuǎn)輥(9， 9')和張緊在所述旋轉(zhuǎn)輥(9， 9')上的傳動帶(8)構(gòu)成。
17. 根據(jù)權(quán)利要求10至16中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，所述 對電極(3， 3，， 7)配有冷卻部件。
全文摘要
本發(fā)明涉及金屬帶材(2)的磁控濺射真空拋光方法，所述金屬帶材(2)在至少一個用導電材料制成的對電極(3，3′)之上行進在真空腔(1)中，其中，在所述金屬帶材(2)附近的氣體中形成等離子體，以產(chǎn)生作用于該金屬帶材(2)的基團和/或離子，約束磁路(4)布置在所述金屬帶材(2)之上，其特征在于，所述對電極(3，3′)具有能相對于所述金屬帶材(2)進行轉(zhuǎn)動和/或平移的活動表面，所述活動表面在拋光時被促使運動且在重新暴露于所述等離子體之前，由布置在等離子體幔中的清理裝置(5，5′)連續(xù)地進行清理。本發(fā)明也涉及用于實施所述方法的拋光設(shè)備。
文檔編號H01J37/32GK101346796SQ200680049285
公開日2009年1月14日 申請日期2006年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月7日
發(fā)明者B·德韋, C·馬博格, H·科爾尼 申請人:安賽樂米塔爾法國公司