專利名稱：用于降噪的等離子體顯示面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種等離子體顯示面板(PDP)，具體涉及PDP的障壁。
背景技術(shù)：
一般來(lái)說(shuō)，等離子體顯示面板(PDP)是使用氣體放電顯示圖像的平板顯示設(shè)備。放電氣體被注入包括多個(gè)放電電極的兩個(gè)基板之間，并且熒光體層被氣體放電產(chǎn)生的紫外線激發(fā)。
圖1是韓國(guó)未決專利公開02-76603中公開的常規(guī)PDP 100的分解透視圖。參見(jiàn)圖1，PDP 100包括后基板101、形成在后基板101上的尋址電極102、覆蓋該尋址電極的第一介電層103和形成在第一介電層103上的主障壁104。
至少一個(gè)主障壁104的一端通過(guò)支撐障壁105被連接到相鄰主障壁104的一端。支撐障壁105可以比主障壁104低，從而放電氣體可以更順暢地從密封空間排放。紅(R)、綠(G)和藍(lán)(B)熒光體層106形成在由主障壁104和支撐障壁105分割的放電空間中。
后基板101被連接到前基板107，由此形成密封空間。成對(duì)的第一和第二放電電極108和109以基本與尋址電極102正交的方向形成在前基板107上。第一和第二放電電極108和109包括匯流電極110。黑矩陣層111被置于成對(duì)的第一和第二放電電極108和109之間。第二介電層112覆蓋第一和第二放電電極108和109以及黑矩陣層111，而保護(hù)層113覆蓋第二介電層112。
在常規(guī)PDP 100中，由于主障壁104被連接到支撐障壁105，因而可以防止主障壁104的末端在制造過(guò)程中破裂。另外，由于放電空間由支撐障壁105限定，因而可以防止象素串?dāng)_。
障壁可以采用噴沙、承壓或感光方法制造。在形成所需圖形后，障壁被以約450℃或更高溫度烘烤，以燒除障壁原料中的雜質(zhì)和不必需的粘結(jié)劑，也進(jìn)一步增強(qiáng)障壁。
由于粘結(jié)劑被燒除，障壁收縮。在PDP 100的情形，收縮的主障壁104趨向于變?yōu)椤癝”形，向顯示區(qū)彎曲，而支撐障壁105被固定到其位置上。因此，收縮的主障壁104的部分具有壓低的形狀。
結(jié)果，當(dāng)由于壓力的增加而使后基板101和前基板107之間的應(yīng)力減少時(shí)，PDP 100振動(dòng)增多，產(chǎn)生更多噪聲。
為了防止障壁中的這種變形，參見(jiàn)圖2和圖3，可以在主障壁的邊緣形成虛擬障壁200。虛擬障壁200包括包括不連續(xù)直線的直線部分201和沿直線部分201的末端形成的弧形部分202。
虛擬障壁200可以防止障壁由于烘烤中的收縮被壓低。但是在障壁收縮時(shí)，一些弧形部分202的上端可能會(huì)傾斜。弧形部分202傾斜的上端中的間隙g可能在大約12到15微米之間。從而造成了前基板和障壁間的間隙，導(dǎo)致PDP組件振動(dòng)，由此產(chǎn)生噪聲。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種等離子體顯示面板(PDP)，其中障壁的末端是垂直和水平對(duì)稱的，這樣該障壁的對(duì)稱力防止該障壁彎曲或傾斜。
本發(fā)明的另外特征將在接下來(lái)的說(shuō)明中提出，其一部分將從說(shuō)明中變得明白，或可以通過(guò)實(shí)踐本發(fā)明而得知。
本發(fā)明公開了一種PDP，包括彼此相對(duì)并且包括圖像顯示區(qū)和設(shè)置在該圖像顯示區(qū)外部的非顯示區(qū)的第一基板和第二基板。多個(gè)放電電極被設(shè)置在所述圖像顯示區(qū)中，以在所述第一基板和所述第二基板之間的放電空間內(nèi)產(chǎn)生放電。障壁包括設(shè)置在所述圖像顯示區(qū)中以分割所述放電空間的主障壁和設(shè)置在所述非顯示區(qū)中并與該主障壁連接的垂直和水平對(duì)稱的虛擬障壁。
可以理解前述總的說(shuō)明和后述詳細(xì)說(shuō)明是示例性和說(shuō)明性的，用于對(duì)要求保護(hù)的發(fā)明提供進(jìn)一步的解釋。


用來(lái)提供對(duì)發(fā)明的進(jìn)一步理解并包含在申請(qǐng)文件中作為申請(qǐng)文件一部分的附圖示出了本發(fā)明的實(shí)施例，并和說(shuō)明書一起用于解釋本發(fā)明的原理。
圖1為常規(guī)等離子體顯示面板PDP的分解透視圖。
圖2為常規(guī)虛擬障壁的俯視圖。
圖3為圖2的虛擬障壁的透視圖。
圖4為根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的PDP的分解透視圖。
圖5為圖4的PDP的障壁的放大俯視圖。
圖6為根據(jù)本發(fā)明第一示例性實(shí)施例的虛擬障壁的透視圖。
圖7為根據(jù)本發(fā)明第二示例性實(shí)施例的虛擬障壁的透視圖。
圖8為根據(jù)本發(fā)明第三示例性實(shí)施例的虛擬障壁的透視圖。
圖9為根據(jù)本發(fā)明第四示例性實(shí)施例的虛擬障壁的透視圖。
具體實(shí)施例方式
以下參見(jiàn)顯示本發(fā)明實(shí)施例的附圖更充分地說(shuō)明本發(fā)明。然而，本發(fā)明可以以多種不同形式實(shí)現(xiàn)并且不應(yīng)該被解釋為受這里所舉實(shí)施例的限制。相反，提供這些實(shí)施例是用來(lái)使公開充分，并完全地把本發(fā)明的范圍傳達(dá)給本領(lǐng)域技術(shù)人員。在附圖中，為了清楚可能夸大了層和區(qū)域的尺寸和相對(duì)尺寸。
圖4為根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的等離子體顯示面板(PDP)400的部分的分解透視圖。
參見(jiàn)圖4，PDP 400包括基本彼此平行設(shè)置的前基板401和后基板402?？梢匝厍昂秃蠡?01和402的邊緣涂敷熔融玻璃，以把基板連接在一起并密封放電空間。
前基板401可以用諸如鈉鈣玻璃的透明材料形成。X和Y電極403和404在PDP 400的X方向上延伸，沿PDP 400的Y方向交替設(shè)置在前基板401的較低表面上。成對(duì)的X和Y電極403和404被包括在每一個(gè)放電室中。
X電極403包括第一透明電極線403a和與第一透明電極線403a連接的第一匯流電極線403b。多個(gè)第一突起403c從第一透明電極線403a的內(nèi)壁向Y電極404突出。
Y電極404基本與X電極403對(duì)稱，包括第二透明電極線404a和與第二透明電極線404a連接的第二匯流電極線404b。多個(gè)第二突起404c從第二透明電極線404a的內(nèi)壁向X電極403突出。
第一和第二透明電極線403a和404a以諸如氧化銦錫(ITO)薄膜的透明導(dǎo)電薄膜形成，以提高第一基板401的孔徑率。第一和第二匯流電極線403b和404b以諸如銀膠或鉻-銅-鉻合金的高導(dǎo)電性金屬材料形成，以減少第一和第二透明電極線403a和404a的線阻并改進(jìn)導(dǎo)電率。
成對(duì)的X和Y電極403和404之間的空間是非放電區(qū)，可以包括黑色條層以增強(qiáng)對(duì)比。
前介電層405覆蓋X和Y電極403和404。前介電層405可以以包括各種填充料的玻璃膠形成，并可以被選擇性地印在前基板401的X和Y電極403和404被圖形化的部分上。可替代地，如圖4所示，前介電層405可以被印在前基板401的整個(gè)較低表面上。保護(hù)層406，比如氧化鎂層，覆蓋前介電層405，以防止前介電層405損傷并增加二次電子發(fā)射。
后基板402可以以與前基板401相同的材料形成。尋址電極407以與X和Y電極403和404被設(shè)置方向交叉的方向被設(shè)置在后基板402上。后介電層408覆蓋尋址電極407。
多個(gè)主障壁409被設(shè)置在前和后基板401和402之間，以把放電空間分割為放電室。主障壁409包括多個(gè)第一障壁409a和多個(gè)第二障壁409b，第一障壁409a被設(shè)置在與尋址電極407被設(shè)置方向交叉的方向上，第二障壁409b被與尋址電極407基本平行設(shè)置。每個(gè)第一主障壁409a都被結(jié)合到第二主障壁409b中，并沿與相鄰的第二主障壁409b對(duì)被設(shè)置方向交叉的方向延伸，連接起來(lái)的第一和第二主障壁409a和409b形成矩陣圖形。
可替代地，主障壁409可以被形成為例如曲流圖形、三角圖形或蜂巢圖形。由主障壁409限定的放電室可以被形成為各種形狀，包括其它多邊形或基本上的圓形。
另外，諸如Ne-Xe或He-Xe的放電氣體被注入到放電室中。
由放電氣體產(chǎn)生的紫外線激發(fā)以發(fā)出可見(jiàn)光的R、G和B熒光體層410被設(shè)置在放電室中。熒光體層410可以被涂覆在放電室中的任意區(qū)域上。然而，在本實(shí)施例中，熒光體層410被涂覆在主障壁409的內(nèi)表面上和后介電層408上。R、G或B熒光體層410被涂覆在每個(gè)放電室中。例如，紅熒光體層可以以(Y，Gd)BO3:Eu3+形成，綠熒光體層可以以Zn2SiO4:Mn2+形成，而藍(lán)熒光體層可以以BaMgAl10O17:Eu2+形成。
圖5顯示了設(shè)置在圖4的前和后基板401和402上的放電電極和障壁。
參見(jiàn)圖5，前和后基板401和402包括顯示圖像的圖像顯示區(qū)Da，和設(shè)置在顯示區(qū)Da的外部并包括與驅(qū)動(dòng)電路連接的端子的非顯示區(qū)NDa。
在顯示區(qū)Da中，X和Y電極403和404沿PDP 400的X方向延伸而交替設(shè)置，尋址電極407沿PDP 400的Y方向延伸而設(shè)置。此外，主障壁409被設(shè)置在顯示區(qū)Da中，成對(duì)的X和Y電極403和404以及尋址電極407被設(shè)置在由主障壁409限定的每個(gè)放電室中。
垂直和水平對(duì)稱的虛擬障壁411被設(shè)置在主障壁409的外壁上，以防止主障壁409在烘烤中收縮和彎曲。虛擬障壁411被整體地與主障壁409連接。下面將詳細(xì)說(shuō)明虛擬障壁411的結(jié)構(gòu)。
圖6為根據(jù)本發(fā)明第一示例性實(shí)施例的虛擬障壁600的透視圖。
參見(jiàn)圖6，虛擬障壁600包括與圖4的主障壁409連接的連接障壁610，以及設(shè)置在連接障壁610的邊緣的增強(qiáng)障壁620。
連接障壁610包括直線部分611和形成在直線部分611之間的開口612。直線部分611包括設(shè)置在PDP 400的X方向上的第一直線部分613和設(shè)置在PDP 400的Y方向上的第二直線部分614。第一和第二直線部分613和614具有不同寬度，彼此交叉并彼此連接。另外，第一和第二直線部分613和614可以沿PDP 400的X和Y方向不連續(xù)或連續(xù)地設(shè)置。
開口612形成在第一和第二直線部分613和614之間，并且可以具有不同尺寸。開口612是基本為矩形形狀的通孔，可以被不連續(xù)或連續(xù)地形成，以彼此相隔預(yù)定的間距。
增強(qiáng)障壁620被整體地與連接障壁610連接。增強(qiáng)障壁620包括與第一直線部分613連接的第一增強(qiáng)部分621和與第二直線部分614連接的第二增強(qiáng)部分622。
第一和第二增強(qiáng)部分621和622具有基本為矩形柱的形狀。第一和第二增強(qiáng)部分621和622從連接障壁610的邊緣突出，并沿PDP 400的X和Y方向彼此相隔預(yù)定的間距。另外，第一和第二增強(qiáng)部分621和622的末端不與彼此連接，并且它們從連接障壁610整體延伸。
增強(qiáng)障壁620是垂直和水平對(duì)稱的，以在烘烤時(shí)抵抗向內(nèi)的收縮力。換句話說(shuō)，收縮力垂直和水平地作用于增強(qiáng)障壁620上，然而它僅作用于常規(guī)弧形障壁的流線型部分上。因此，可以防止增強(qiáng)障壁620彎曲和防止增強(qiáng)障壁620的上端傾斜。
每個(gè)增強(qiáng)障壁620的長(zhǎng)度L和寬度W之間的關(guān)系可以為2W＜L，以更好地抵抗收縮力。
現(xiàn)在參見(jiàn)圖4、圖5和圖6說(shuō)明具有此結(jié)構(gòu)的PDP 400的障壁的制造過(guò)程。
尋址電極407在后基板402上被圖形化，并被后介電層408覆蓋。然后，用于形成障壁的材料被涂敷在后介電層408上。
在障壁形成材料上涂覆光致抗蝕劑層后，光掩膜被設(shè)置在光致抗蝕劑層的上部，以待曝光和顯影。
通過(guò)蝕刻過(guò)程，障壁形成材料的不必需部分被除去，從而形成主障壁409的形狀。這里，由于光致抗蝕劑層仍然留在主障壁409的上表面上，它被隨后除去以完成主障壁409。圖形化的主障壁409被在大約450℃或更高溫度加熱，以燒除包含在障壁形成材料中的雜質(zhì)以及粘結(jié)劑。
虛擬障壁600可以與主障壁409同時(shí)圖形化。
為了抵抗否則可能在烘烤中使障壁彎曲或變形的收縮力以保持它們的形狀，虛擬障壁600包括連接障壁610和從連接障壁610突出的增強(qiáng)障壁620。
由于增強(qiáng)障壁620由設(shè)置在增強(qiáng)障壁620里面的連接障壁610的直線部分611支撐，增強(qiáng)障壁620不會(huì)彎曲。每個(gè)直線部分611都受到來(lái)自其它周圍直線部分611的平行力。
圖7、圖8和圖9分別為根據(jù)本發(fā)明其它示例性實(shí)施例的虛擬障壁700、800和900的透視圖。下面將僅說(shuō)明虛擬障壁700、800和900的特征。
參見(jiàn)圖7，虛擬障壁700包括連接障壁710和沿連接障壁710的邊緣設(shè)置的增強(qiáng)障壁720。
連接障壁710包括直線部分711和形成在直線部分711之間的開口712。直線部分711包括第一直線部分713和第二直線部分714。第二直線部分714以與第一直線部分713被設(shè)置方向交叉的方向被設(shè)置。第一和第二直線部分713和714形成不連續(xù)或連續(xù)直線的集合。
另外，增強(qiáng)障壁720沿連接障壁710的邊緣設(shè)置，并且包括與第一直線部分713連接的第一增強(qiáng)部分721和與第二直線部分714連接的第二增強(qiáng)部分722。第一增強(qiáng)部分721的截面基本為梯形，而第二增強(qiáng)部分722的截面基本為矩形。
參見(jiàn)圖8，虛擬障壁800包括連接障壁810和沿連接障壁810的邊緣設(shè)置的增強(qiáng)障壁820。連接障壁810包括直線部分811，直線部分811包括沿面板的垂直和水平方向不連續(xù)或連續(xù)形成的第一直線部分813和第二直線部分814。開口812形成在第一和第二直線部分813和814之間。
增強(qiáng)障壁820包括與第一直線部分813連接的第一增強(qiáng)部分821和與第二直線部分814連接的第二增強(qiáng)部分822。第一和第二增強(qiáng)部分821和822的截面基本為矩形。第一和第二增強(qiáng)部分821和822相隔的間距不同。也就是，第一增強(qiáng)部分821彼此相隔的間距比第二增強(qiáng)部分822相隔的間距要寬。
參見(jiàn)圖9，虛擬障壁900包括連接障壁910和與連接障壁910連接的增強(qiáng)障壁920。連接障壁910包括直線部分911和開口912，直線部分911包括沿面板的垂直和水平方向不連續(xù)或連續(xù)形成的第一直線部分913和第二直線部分914，開口912形成在第一和第二直線部分913和914之間。
增強(qiáng)障壁920包括與第一直線部分913整體連接的第一增強(qiáng)部分921和與第二直線部分914整體連接的第二增強(qiáng)部分922。第一和第二增強(qiáng)部分921和922的截面基本為矩形。第二增強(qiáng)部分922比第一增強(qiáng)部分921窄。此外，第二增強(qiáng)部分922彼此相隔的間距比第一增強(qiáng)部分921相隔的間距窄。
如上所述，圖7、圖8和圖9的虛擬障壁700、800和900分別與主障壁409連接，并且它們可以以各種形狀設(shè)置。由于虛擬障壁700、800和900是垂直和水平對(duì)稱的，虛擬障壁700、800和900的對(duì)稱力在烘烤中防止它們彎曲并防止虛擬障壁700、800和900的上端部分傾斜。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的用于降噪的PDP包括沿基板邊緣設(shè)置的垂直和水平對(duì)稱的虛擬障壁，從而獲得下列效果。
首先，防止虛擬障壁在烘烤過(guò)程中由于收縮力向內(nèi)彎曲。從而可以最小化在驅(qū)動(dòng)PDP組件時(shí)產(chǎn)生的噪聲。
其次，由于可以防止障壁在烘烤中傾斜或變形，障壁可以形成在所期望的位置，而且PDP組件的粘附度可以顯著增強(qiáng)。
本領(lǐng)域技術(shù)人員公知，在不偏離本發(fā)明精神或范圍的條件下，可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種修改和變化。因此，應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明覆蓋了各種修改和變化，只要它們落入附加權(quán)利要求的范圍及其等同范圍。
權(quán)利要求
1.一種等離子體顯示面板PDP，包括第一基板和第二基板，所述第一基板和第二基板彼此相對(duì)，并且包括圖像顯示區(qū)和設(shè)置在該圖像顯示區(qū)外部的非顯示區(qū)；多個(gè)放電電極，設(shè)置在所述圖像顯示區(qū)中，以在所述第一基板和所述第二基板之間的放電空間內(nèi)產(chǎn)生放電；和障壁，包括設(shè)置在所述圖像顯示區(qū)中并分割所述放電空間的主障壁，以及設(shè)置在所述非顯示區(qū)中并與該主障壁連接的虛擬障壁，其中該虛擬障壁是垂直和水平對(duì)稱的。
2.如權(quán)利要求1所述的PDP，其中所述虛擬障壁包括與所述主障壁整體連接的連接障壁，和沿該連接障壁邊緣設(shè)置的增強(qiáng)障壁。
3.如權(quán)利要求2所述的PDP，其中所述連接障壁包括包括彼此交叉的第一直線部分和第二直線部分的直線部分，和形成在該第一直線部分和該第二直線部分之間的開口。
4.如權(quán)利要求3所述的PDP，其中每個(gè)直線部分都包括不連續(xù)的或連續(xù)的直線。
5.如權(quán)利要求2所述的PDP，其中所述增強(qiáng)障壁從所述連接障壁的邊緣整體突出。
6.如權(quán)利要求5所述的PDP，其中所述增強(qiáng)障壁的末端彼此相隔預(yù)定的間距。
7.如權(quán)利要求5所述的PDP，其中所述增強(qiáng)障壁包括基本類似矩形柱的形狀。
8.如權(quán)利要求5所述的PDP，其中所述增強(qiáng)障壁以大于該增強(qiáng)障壁的2倍寬度從所述連接障壁的邊緣突出。
9.如權(quán)利要求1所述的PDP，其中所述虛擬障壁包括與所述主障壁整體連接的連接障壁和從該連接障壁邊緣突出的增強(qiáng)障壁，并且其中所述連接障壁彼此對(duì)稱。
10.如權(quán)利要求9所述的PDP，其中所述增強(qiáng)障壁的末端彼此相隔預(yù)定的間距。
11.如權(quán)利要求10所述的PDP，其中所述增強(qiáng)障壁是垂直和水平對(duì)稱的。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種等離子體顯示面板，包括彼此相對(duì)并且包括圖像顯示區(qū)和設(shè)置在該圖像顯示區(qū)外部的非顯示區(qū)的第一基板和第二基板；多個(gè)放電電極，設(shè)置在所述圖像顯示區(qū)中以在所述第一基板和所述第二基板之間的放電空間內(nèi)產(chǎn)生放電；障壁，包括設(shè)置在所述圖像顯示區(qū)中并分割所述放電空間的主障壁和設(shè)置在所述非顯示區(qū)中并與該主障壁連接的垂直和水平對(duì)稱的虛擬障壁。
文檔編號(hào)H01J11/34GK1763896SQ200510112879
公開日2006年4月26日 申請(qǐng)日期2005年10月19日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月19日
發(fā)明者宋正錫 申請(qǐng)人:三星Sdi株式會(huì)社