顯示基板及其制作方法以及顯示裝置的制造方法
【專利摘要】一種顯示基板及其制作方法以及顯示裝置。該顯示基板包括襯底基板，襯底基板包括待設(shè)置隔墊物的區(qū)域；以及光致變色膜，光致變色膜設(shè)置在襯底基板上，并配置為受光照射后透過率降低，光致變色膜至少包括設(shè)置為圍繞待設(shè)置隔墊物的區(qū)域的防漏光部分，防漏光部分在襯底基板上的正投影與待設(shè)置隔墊物的區(qū)域相接或至少部分重疊。該光致變色膜可在顯示基板發(fā)生漏光時轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜甚至透過率為零的膜，從而可防止漏光的發(fā)生，提高顯示的可靠性和穩(wěn)定性。
【專利說明】
顯示基板及其制作方法以及顯示裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明的實施例涉及一種顯示基板、顯示基板的制作方法以及顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著顯示裝置市場的不斷發(fā)展，液晶顯示器(Liquid Crystal Display ,LCD)因其響應(yīng)速度快、集成度高、功耗小等優(yōu)點，已成為主流的顯示裝置。液晶顯示面板通常包括由陣列基板和與之對盒設(shè)置的顯示基板形成的液晶盒以及填充在液晶盒中的液晶分子層。液晶顯示面板通過電場使液晶分子層中液晶分子的分子排列改變，配合設(shè)置在液晶顯示面板兩側(cè)的偏光片，可形成液晶光閥，從而實現(xiàn)顯示功能。另外，配合形成在陣列基板或顯示基板上的彩色濾光圖案，液晶顯示器可進一步實現(xiàn)彩色顯示。
[0003]在液晶顯示面板的液晶盒內(nèi)，為保持保證液晶盒的盒厚(CellGap)在各個位置的均一性，通常在陣列基板和對置基板之間設(shè)置有具有彈性回復(fù)力的柱狀隔墊物(PostSpacenPS)。柱狀隔墊物處于壓縮狀態(tài)并起到支撐液晶盒的作用，從而保持液晶顯示面板的盒厚穩(wěn)定與均一。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明至少一個實施例提供一種顯示基板及其制作方法以及顯示裝置。該顯示基板包括襯底基板;設(shè)置在襯底基板上的取向膜；以及設(shè)置在襯底基板和取向膜之間的光致變色膜，該光致變色膜配置為受光照射后透過率降低。該光致變色膜可在顯示基板發(fā)生漏光時轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜甚至透過率為零的膜，從而可防止漏光的發(fā)生，提高顯示的可靠性和穩(wěn)定性。
[0005]本發(fā)明至少一個實施例提供一種顯示基板，其包括:襯底基板，所述襯底基板包括待設(shè)置隔墊物的區(qū)域；以及光致變色膜，所述光致變色膜設(shè)置在所述襯底基板上，并配置為受光照射后透過率降低，所述光致變色膜至少包括設(shè)置為圍繞所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域的防漏光部分，所述防漏光部分在所述襯底基板上的正投影與所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域相接或至少部分重疊。
[0006]例如，在本發(fā)明一實施例提供的顯示基板中，所述光致變色膜具有觸發(fā)光照強度，所述光致變色膜配置為受大于等于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后透過率降低，所述觸發(fā)光照強度大于所述顯示基板正常工作情況下透過所述顯示基板的光的最大光照強度。
[0007]例如，在本發(fā)明一實施例提供的顯示基板中，所述光致變色膜配置為受小于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后所述光致變色膜的透過率可恢復(fù)。
[0008]例如，在本發(fā)明一實施例提供的顯示基板中，所述光致變色膜配置為受大于等于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后變?yōu)椴煌缚梢姽獾哪ぁ?br>[0009]例如，在本發(fā)明一實施例提供的顯示基板中，所述光致變色膜在所述襯底基板的正投影具有與所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域相同的形狀。
[0010]例如，在本發(fā)明一實施例提供的顯示基板中，所述光致變色膜在所述襯底基板的正投影與所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域同心設(shè)置。
[0011]例如，本發(fā)明一實施例提供的顯示基板還包括:黑矩陣，所述黑矩陣覆蓋所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域，所述光致變色膜至少包括設(shè)置在所述黑矩陣兩側(cè)的防漏光部分，所述防漏光部分在所述襯底基板上的正投影與所述黑矩陣在所述襯底基板上的正投影相接或至少部分重疊。
[0012]例如，在本發(fā)明一實施例提供的顯示基板中，所述防漏光部分的寬度為1-100μπι。
[0013]例如，在本發(fā)明一實施例提供的顯示基板中，所述光致變色膜的材料包括鹵化銀。
[0014]例如，在本發(fā)明一實施例提供的顯示基板中，所述光致變色膜包括催化劑。
[0015]例如，在本發(fā)明一實施例提供的顯示基板中，所述光致變色膜的厚度為0.1-1μπι。
[0016]例如，本發(fā)明一實施例提供的顯示基板還包括:取向膜，所述取向膜設(shè)置在所述襯底基板上，所述光致變色膜設(shè)置在所述襯底基板和所述取向膜之間。
[0017]例如，本發(fā)明一實施例提供的顯示基板還包括:彩色濾光圖案，所述彩色濾光圖案設(shè)置在襯底基板與所述取向膜之間，所述光致變色膜設(shè)置在所述彩色濾光圖案靠近所述取向膜的一側(cè)。
[0018]本發(fā)明至少一實施例提供一種顯示基板的制作方法，其包括:在襯底基板上沉積光致變色材料；以及圖案化所述光致變色材料以形成具有預(yù)定圖案的光致變色膜，所述光致變色膜配置為受光照射后透過率降低，所述襯底基板包括待設(shè)置隔墊物的區(qū)域，所述光致變色膜至少包括設(shè)置為圍繞所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域的防漏光部分，所述防漏光部分在所述襯底基板上的正投影與所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域相接或至少部分重疊。
[0019]例如，在本發(fā)明一實施例提供的顯示基板的制作方法中，所述光致變色膜具有觸發(fā)光照強度，所述光致變色膜配置為受大于等于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后透過率降低，所述觸發(fā)光照強度大于所述顯示基板正常工作情況下透過所述顯示基板的光的最大光照強度。
[0020]例如，本發(fā)明一實施例提供的顯示基板的制作方法還包括:在所述襯底基板上形成黑矩陣，所述黑矩陣覆蓋所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域，所述光致變色膜至少包括設(shè)置在所述黑矩陣兩側(cè)的防漏光部分，所述防漏光部分在所述襯底基板上的正投影與所述黑矩陣在所述襯底基板上的正投影相接或至少部分重疊。
[0021]例如，本發(fā)明一實施例提供的顯示基板的制作方法還包括:在所述襯底基板上形成取向膜；以及在所述襯底基板上形成彩色濾光圖案，所述光致變色膜形成在所述彩色濾光圖案靠近所述取向膜的一側(cè)。
[0022]本發(fā)明至少一實施例提供一種顯示裝置，包括:陣列基板，所述陣列基板包括取向膜;顯示基板，所述顯示基板與所述陣列基板對盒設(shè)置，且所述顯示基板設(shè)置在顯示裝置的出光側(cè)；以及液晶層，所述液晶層設(shè)置在所述陣列基板和所述顯示基板之間，所述顯示基板包括上述任一項所述的顯示基板。
【附圖說明】
[0023]為了更清楚地說明本公開實施例的技術(shù)方案，下面將對實施例的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅涉及本公開的一些實施例，而非對本公開的限制。
[0024]圖1a為一種液晶顯不面板的平面不意圖；
[0025]圖1b為一種沿圖1a中A-A’方向上的截面示意圖；
[0026]圖1c為另一種沿圖1a中A-A’方向上的截面示意圖；
[0027]圖2a為一種液晶顯示面板受外力后發(fā)生陣列基板與彩膜基板偏移的示意圖；
[0028]圖2b沿圖2a中B-B’方向上的截面示意圖；
[0029]圖2c沿圖2a中C-C’方向上的截面示意圖；
[0030]圖3為一種液晶顯示面板因隔墊物劃傷取向膜引起的像素漏光的顯微圖像；
[0031 ]圖4為本發(fā)明一實施例提供的一種顯示基板的平面示意圖；
[0032]圖5為本發(fā)明一實施例提供的一種顯示基板的橫截面示意圖；
[0033]圖6為本發(fā)明一實施例提供的一種顯示裝置的橫截面示意圖；
[0034]圖7為本發(fā)明一實施例提供的一種顯示裝置取向膜被劃傷后的橫截面示意圖；
[0035]圖8為本發(fā)明一實施例提供的另一種顯示裝置取向膜被劃傷后的橫截面示意圖；
[0036]圖9為本發(fā)明一實施例提供的一種光致變色膜工作原理示意圖；
[0037]圖10為本發(fā)明一實施例提供的一種顯示基板的制作方法示意圖；以及
[0038]圖11為一種液晶在正常顯示區(qū)域和異常顯示區(qū)域的透過率與驅(qū)動電壓的曲線示意圖。
【具體實施方式】
[0039]為使本公開實施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合本公開實施例的附圖，對本公開實施例的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例是本公開的一部分實施例，而不是全部的實施例?；谒枋龅谋竟_的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在無需創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本公開保護的范圍。
[0040]除非另外定義，本公開使用的技術(shù)術(shù)語或者科學(xué)術(shù)語應(yīng)當(dāng)為本公開所屬領(lǐng)域內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本公開中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語并不表示任何順序、數(shù)量或者重要性，而只是用來區(qū)分不同的組成部分。“包括”或者“包含”等類似的詞語意指出現(xiàn)該詞前面的元件或者物件涵蓋出現(xiàn)在該詞后面列舉的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件?！斑B接”或者“相連”等類似的詞語并非限定于物理的或者機械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接的還是間接的。
[0041]圖1a為一種液晶顯示面板的平面示意圖，圖1b和圖1c為沿圖1a中A-A’的剖面示意圖。如圖1a-1c所示，該液晶顯示面板包括陣列基板100、與陣列基板100對盒設(shè)置的彩膜基板300以及設(shè)置在陣列基板100和彩膜基板300之間的液晶分子200和隔墊物210。陣列基板100包括襯底基板101、設(shè)置在襯底基板101上的柵極102、柵線103、柵極絕緣層111、有源層104、源極1051、漏極1052、像素電極108以及取向膜109。彩膜基板300包括襯底基板301、設(shè)置在襯底基板301上的黑矩陣303、彩色濾光圖案302以及取向膜309?？赏ㄟ^摩擦工藝在取向膜109和取向膜309的表面形成定向溝道，從而可誘導(dǎo)液晶分子200進行定向排列。當(dāng)液晶顯示面板顯示暗態(tài)時，如圖1b所示，液晶分子200不發(fā)生偏轉(zhuǎn)，光無法透過液晶顯示面板。當(dāng)液晶顯示面板顯示亮態(tài)時，如圖1c所示，液晶分子200在電場的作用下發(fā)生偏轉(zhuǎn)，光可以透過液晶顯示面板。并且，通過彩色濾光圖案302的作用，液晶顯示面板而可顯示具有與該彩色濾光圖案對應(yīng)顏色的光。
[0042]圖2a為一種液晶面板因受到外力而發(fā)生陣列基板與彩膜基板偏移的示意圖，圖2b為沿圖2a中B-B’方向上的截面示意圖，圖2c為沿圖2a中C-C’方向上的截面示意圖。在研究中，本申請的發(fā)明人發(fā)現(xiàn):如圖2a_2c所示，當(dāng)液晶顯示面板受外力過大或者水平方向切力作用時，陣列基板和彩膜基板發(fā)生位移，隔墊物210會脫離原先因為被壓縮而穩(wěn)定存在的區(qū)域(例如柵線、薄膜晶體管所在的區(qū)域)。取向膜被隔墊物210劃傷的區(qū)域可能會進入未被黑矩陣303遮蓋的顯示區(qū)域。被劃傷的取向膜109失去了誘導(dǎo)液晶分子200定向排列分布的錨定功能，從而使得液晶分子200無法正常配向，導(dǎo)致該顯示區(qū)域的液晶分子200的配向紊亂或異常，進而導(dǎo)致顯示區(qū)域漏光等不良。如圖3所示，顯示區(qū)域因取向膜被劃傷而出現(xiàn)漏光現(xiàn)象。
[0043]為了改善上述不良，本申請的發(fā)明人想到可通過增加黑矩陣的寬度來來遮蓋發(fā)生隔墊物劃傷的區(qū)域。然而，增加黑矩陣的寬度會帶來開口率和透過率降低等不足。另外，還可將隔墊物的周邊設(shè)置阻擋物(Barrier)，例如設(shè)置在源漏電極之間，來防止隔墊物劃傷取向膜。然而，阻擋物(Barrier)可能會導(dǎo)致隔墊物無法恢復(fù)到原來的位置甚至卡在液晶盒之間。
[0044]本發(fā)明至少一個實施例提供一種顯示基板及其制作方法以及顯示裝置。該顯示基板包括襯底基板;設(shè)置在襯底基板上的取向膜；以及設(shè)置在襯底基板和取向膜之間的光致變色膜，該光致變色膜配置為受光照射后從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜。該光致變色膜可在顯示基板發(fā)生漏光時轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜甚至透過率為零的膜，從而可防止漏光的發(fā)生，提高顯示質(zhì)量。
[0045]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明實施例提供的顯示基板、顯示基板的制作方法以及顯示裝置進行說明。
[0046]實施例一
[0047]本實施例提供一種顯示基板，如圖4所示，該顯示基板包括襯底基板301，以及設(shè)置襯底基板301之上的光致變色膜305。光致變色膜305配置為受光照射后透過率降低。襯底基板301包括待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310，光致變色膜305至少包括圍繞所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310的防漏光部分3050，例如，防漏光部分3050可圍繞所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310—周，防漏光部分3050在襯底基板301上的正投影與待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310相接或至少部分重置。
[0048]需要說明的是待設(shè)置隔墊物的區(qū)域包含兩種情況:一種是該襯底基板的該區(qū)域設(shè)置有隔墊物；另一種情況是該襯底基板的該區(qū)域并不設(shè)置隔墊物，隔墊物設(shè)置在與該襯底基板相對設(shè)置的另一個基板上，該襯底基板的待設(shè)置隔墊物的區(qū)域與另一基板上的隔墊物相對應(yīng)。
[0049]在本實施例提供的顯示基板中，光致變色膜受到光照后可從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜。由此，當(dāng)采用本實施例提供的顯示基板的顯示裝置因各種異常(例如隔墊物劃傷取向膜)而導(dǎo)致漏光時，可通過設(shè)置在顯示基板中的光致變色膜迅速轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜甚至透過率為零的膜以防止漏光射出顯示基板，提高顯示的可靠性。另夕卜，由于光致變色薄膜305設(shè)置在待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310的周圍，從而可針對性地遮擋因隔墊物劃傷取向膜而導(dǎo)致的漏光現(xiàn)象。并且，由于光致變色膜305只設(shè)置在待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310的周圍，可減少光致變色膜305的使用量，減少成本。當(dāng)然，本發(fā)明實施例包括但不限于此，例如，光致變色膜可設(shè)置在整個顯示基板上，當(dāng)面板上任意位置處發(fā)生漏光時，該位置對應(yīng)的光致變色膜可轉(zhuǎn)變?yōu)榈屯高^率的膜，從而應(yīng)對整張面板上可能發(fā)生的漏光問題。
[0050]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，光致變色膜可具有觸發(fā)光照強度，當(dāng)光致變色膜受到大于等于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后可從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜。也就是說，光致變色膜在受到光照強度小于觸發(fā)光照強度的光照射后不會發(fā)生轉(zhuǎn)變，仍然具有低透過率。由此，可根據(jù)需要對光致變色膜進行設(shè)置，只有當(dāng)光照強度大于觸發(fā)光照強度的光照射光致變色膜時，光致變色膜才從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜。值得注意的是，當(dāng)采用本實施例提供的顯示基板的顯示裝置在顯示暗態(tài)時，漏光現(xiàn)象比較明顯，而在該顯示裝置顯示亮態(tài)時，當(dāng)設(shè)置光致變色膜的區(qū)域較小時，其對開口率的影響并不大。因此也可不設(shè)置觸發(fā)光照強度。
[0051]例如，觸發(fā)光照強度可設(shè)置為大于顯示基板正常工作情況下透過顯示基板的光的最大光照強度。需要說明的是，顯示基板正常工作情況指的是采用本實施例提供的顯示基板的顯示裝置正常工作的情況，即，顯示裝置正常顯示畫面，沒有因取向膜劃傷等原因?qū)е碌穆┕獾炔涣?。由此，?dāng)采用本實施例提供的顯示基板的顯示裝置在正常顯示亮態(tài)的時候，即使有光照射到光致變色膜上，但由于此時照射到光致變色膜上的光的光照強度小于光致變色薄膜的觸發(fā)光照強度，因此不能觸發(fā)光致變色薄膜從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜。當(dāng)該顯示基板因取向膜劃傷等原因?qū)е碌穆┕獾炔涣紩r，照射到光致變色膜上的光的光照強度大于光致變色膜的觸發(fā)光照強度，從而使得光致變色膜從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜甚至透過率為零的膜，從而可迅速遮擋該區(qū)域的漏光。
[0052]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，所述光致變色膜配置為受大于等于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后變?yōu)椴煌缚梢姽獾哪?。例如，可將光致膜的厚度增加，從而使得光致變色膜受大于等于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后變?yōu)椴煌缚梢姽獾哪ぁ?br>[0053]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，光致變色膜在垂直于襯底基板的方向上的厚度為Ο.Ι-Ιμ??。
[0054]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，觸發(fā)光照強度可通過調(diào)節(jié)光致變色膜中光致變色材料的濃度來調(diào)節(jié)。
[0055]需要說明的是，上述的相接是指防漏光部分在襯底基板上的投影的內(nèi)側(cè)邊緣與待設(shè)置隔墊物的區(qū)域的外側(cè)邊緣相接，它們之間的間距為零;上述的至少部分重疊是指防漏光部分在襯底基板上的投影的內(nèi)側(cè)邊緣落在待設(shè)置隔墊物的區(qū)域內(nèi)。另外，上述的待設(shè)置隔墊物的區(qū)域與待設(shè)置的隔墊物具有相同的尺寸和形狀。當(dāng)隔墊物在沿垂直于陣列基板的方向上的尺寸和形狀不一致時，以隔墊物與顯示基板相接觸的面的大小和尺寸為準(zhǔn)。另外，隔墊物可設(shè)置在顯示基板上，隔墊物也可設(shè)置在陣列基板上并與顯示基板上待設(shè)置隔墊物的區(qū)域相接觸；當(dāng)隔墊物設(shè)置在顯示基板上時，隔墊物可劃傷陣列基板上的取向膜，當(dāng)隔墊物設(shè)置在陣列基板上時，隔墊物可劃傷顯示基板上的取向膜;此兩種情況均在本實施例的保護范圍之中。
[0056]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，如圖4所示，光致變色膜305還可包括覆蓋待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310的部分。即，光致變色膜305為覆蓋待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310且包括防漏光區(qū)域3050的一個整體。
[0057]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，如圖4所示，光致變色膜305在襯底基板301的正投影與待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310同心設(shè)置。例如，當(dāng)待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310為圓形時，光致變色膜305可為與待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310同心設(shè)置的同心圓。當(dāng)然，本發(fā)明實施例包括但不限于此，待設(shè)置隔墊物的區(qū)域可為正方形等其他規(guī)則或不規(guī)則形狀。
[0058]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，光致變色膜305在襯底基板301上的正投影與待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310具有相同的形狀。通過將光致變色膜305與待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310的形狀設(shè)置為相同可使得光致變色膜305的防漏光部分3050在從待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310的中心到該區(qū)域所在平面的任意一點的方向上具有相同的寬度。由此，當(dāng)采用本實施例提供的顯示基板的顯示裝置因來自不同方向的外力導(dǎo)致隔墊物劃傷取向膜時，本實施例提供的顯示基板可保證在不同方向上具有相同的防漏光能力。
[0059]例如，如圖5所示，本實施例一示例提供的顯示基板還包括:取向膜309，取向膜309設(shè)置在襯底基板301上，光致變色膜305設(shè)置在襯底基板301和取向膜309之間。
[0060]例如，如圖6所示，本實施例一示例提供的顯示面板還包括設(shè)置在襯底基板與取向膜之間的彩色濾光圖案，光致變色膜設(shè)置在彩色濾光圖案靠近取向膜的一側(cè)。由此，彩色濾光圖案一方面可實現(xiàn)彩色顯示的功能，另一方面因為環(huán)境光照射到光致變色膜需經(jīng)過彩色濾光圖案過濾，因此可防止因環(huán)境光觸發(fā)光致變色膜的透過率降低。進一步地，本實施例的顯示基板還可設(shè)置其他膜層以防止環(huán)境光誤觸發(fā)光致變色膜，例如偏光片等。
[0061 ]例如，如圖6所不，本實施例一不例提供的顯不基板還包括設(shè)置在襯底基板301和取向膜309之間的黑矩陣303，黑矩陣303覆蓋待設(shè)置隔墊物的區(qū)域(圖中襯底基板301上設(shè)置隔墊物210的區(qū)域)，光致變色膜305至少包括設(shè)置在黑矩陣303兩側(cè)的防漏光部分3050，防漏光部分3050在襯底基板301上的正投影與黑矩陣303在襯底基板301上的正投影相接或至少部分重疊。
[0062]例如，如圖7所示，隔墊物210設(shè)置在黑矩陣303覆蓋的范圍內(nèi)，當(dāng)因外力等其他原因，陣列基板100和顯示基板300發(fā)生位移后，取向膜109被隔墊物210劃傷的區(qū)域失去了誘導(dǎo)液晶分子200進行定向排列的錨定功能。在取向膜被劃傷的區(qū)域，發(fā)生漏光。如圖8所示，采用本實施例提供的顯示面板的顯示裝置的背光可穿過配向紊亂或異常的液晶分子200照射到光致變色膜305上。此時，光致變色膜305受到光照的部分可從具有高透射率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯干渎实哪?。并且，被光照射到的防漏光部?050可在沒有被黑矩陣遮擋區(qū)域?qū)β┕膺M行有效地遮擋。由此，可針對性地在黑矩陣的兩側(cè)設(shè)置光致變色膜的防漏光部分以遮擋因隔墊物劃傷取向膜而導(dǎo)致的漏光現(xiàn)象。當(dāng)然，本發(fā)明實施例包括但不限于此，例如，光致變色膜還可包括覆蓋黑矩陣的部分。
[0063]需要說明的是，由于光致變色膜只設(shè)置在黑矩陣的周圍可減少光致變色膜的使用量。相對于直接加寬黑矩陣以遮擋因隔墊物劃傷取向膜而導(dǎo)致的漏光，本實施例提供的顯示基板中的光致變色膜可只在發(fā)生漏光的區(qū)域轉(zhuǎn)變?yōu)榈屯高^率的膜，而在沒有發(fā)生漏光的區(qū)域，仍然保持高透過率，從而可避免因直接加寬黑矩陣帶來的顯示基板的開口率降低的問題。另外，當(dāng)采用本實施例提供的顯示基板的顯示裝置正常工作，沒有發(fā)生漏光時，本實施例提供的顯示基板不會降低顯示基板的開口率。另一方面，本實施例提供的顯示基板還可針對因黑矩陣對位不準(zhǔn)導(dǎo)致漏光或曲面顯示裝置在彎曲過程中導(dǎo)致的黑矩陣錯位導(dǎo)致的漏光，本發(fā)明實施例在此不作限制。
[0064]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，防漏光部分的寬度為1-100μπι。需要說明的是，當(dāng)防漏光部分為圍繞所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域的防漏光部分時，上述的寬度是指從待設(shè)置隔墊物的區(qū)域的中心到該區(qū)域所在平面的任意一點的方向上的寬度。當(dāng)防漏光部分為設(shè)置在在黑矩陣兩側(cè)的防漏光部分時，上述的寬度是指在黑矩陣所在的平面內(nèi)，垂直于黑矩陣延伸方向的方向上的寬度。
[0065]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，光致變色膜的材料包括鹵化銀，需要說明是的是，光致變色膜的材料還可包括無機光致變色材料，例如三氧化鎢或有機光致變色材料，例如螺吡喃類、二芳基乙烯類、偶氮苯類等。
[0066]例如，光致變色膜的材料包括溴化銀。當(dāng)受到光照射時，溴化銀(鹵化銀的一種)發(fā)生分解，產(chǎn)生銀原子。銀原子能吸收可見光，當(dāng)銀原子聚集到一定數(shù)量或濃度時，照射在光致變色膜的光大部分被吸收，原來具有高透過率的膜這時就會轉(zhuǎn)變成具有低透過率的膜，甚至黑色的膜。
[0067]如圖8所示，具有鹵化銀材料的光致變色膜305設(shè)置在隔墊物210附近周邊區(qū)域，當(dāng)隔墊物210因外力引起附近區(qū)域的取向膜109劃傷時，此區(qū)域的液晶分子200失去光閥功能，背光的強光照射到鹵化銀后，發(fā)生相應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)，形成銀黑色粉末，遮擋該區(qū)域的漏光。而在取向膜109未被隔墊物210的區(qū)域，液晶分子的光閥功能正常，不激發(fā)鹵化銀的化學(xué)反應(yīng)，仍可以正常顯示。
[0068]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，所述光致變色膜配置為受小于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后所述光致變色膜的透過率可恢復(fù)。例如，當(dāng)光致變色膜材料包括溴化銀時，如圖9所示，當(dāng)光致變色膜沒有收到光照時，銀原子和溴原子又會結(jié)合成溴化銀，因為銀離子不吸收可見光，于是，光致變色膜又可從具有低透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂懈咄高^率的膜，即透過率增加。需要說明的是，在一些隔墊物劃傷取向膜的情況下，取向膜并非永久損傷，由于取向膜自身的彈性恢復(fù)力等原因，取向膜可在損傷后一段時間恢復(fù)誘導(dǎo)液晶分子定向排列分布的錨定功能。此時，本實施例提供的顯示基板中的光致變色膜可恢復(fù)到具有高透過率的膜，從而可使顯示基板的開口率跟損傷前保持一致。
[0069]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，光致變色膜還可包括催化劑，以加快光致變色膜的反應(yīng)速率。例如，當(dāng)光致變色膜材料包括溴化銀時，當(dāng)光致變色膜沒有收到光照時，催化劑(例如氧化銅)可加快銀原子和溴原子結(jié)合成溴化銀的速率，從而快速恢復(fù)到低透過率或透明狀態(tài)。
[0070]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，催化劑可包括氧化銅。
[0071]實施例二
[0072]本實施例提供一種顯示基板的制作方法，如圖10所示，該顯示基板的制作方法包括步驟 S210-S220。
[0073]步驟S210:在襯底基板上形成光致變色材料。
[0074]例如，采用磁控濺射工藝在襯底基板上沉積光致變色材料。
[0075]步驟S220:圖案化光致變色材料以形成具有預(yù)定圖案的光致變色膜，光致變色膜配置為受光照射后從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜。
[0076]例如，圖案化光致變色材料以形成具有預(yù)定圖案的光致變色膜包括:在光致變色材料上涂覆光刻膠，例如，光刻膠的厚度可為1_3μπι;使用掩膜板對光刻膠進行曝光顯影以形成光刻膠圖案;通過刻蝕工藝去除不需要的光致變色材料;以及去除光刻膠圖案。
[0077]在本實施例提供的顯示基板的制作方法中，光致變色膜受到光照后可從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜，即透過率降低。由此，當(dāng)采用本實施例提供的顯示基板的制作方法制作的顯示基板的顯示裝置因各種異常(例如隔墊物劃傷取向膜)而導(dǎo)致漏光時，可通過設(shè)置在顯示基板中的光致變色膜迅速轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜甚至透過率為零的膜以防止漏光射出顯示基板，提高顯示的可靠性。
[0078]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，光致變色膜可具有觸發(fā)光照強度，當(dāng)光致變色膜受到大于等于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后可從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜，觸發(fā)光照強度可設(shè)置為大于顯示基板正常工作情況下透過顯示基板的光的最大光照強度。其具體的效果說明可參見實施例一中的相關(guān)描述，在此不再贅述。
[0079]例如，在本實施例提供一中顯示基板的制作方法中，所述光致變色膜配置為受大于等于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后變?yōu)椴煌缚梢姽獾哪ぁ?br>[0080]例如，可通過控制沉積在襯底基板上沉積光致變色材料的濃度來實現(xiàn)對觸發(fā)光照強度的控制。
[0081 ]例如，在本實施例提供一中顯示基板的制作方法中，如圖4所示，襯底基板301包括待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310，光致變色膜305至少包括圍繞所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310的防漏光部分3050，防漏光部分3050在襯底基板301上的正投影與待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310相接或至少部分重疊。由于光致變色薄膜305設(shè)置在待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310的周圍，從而可針對性地遮擋因隔墊物劃傷取向膜而導(dǎo)致的漏光現(xiàn)象。并且，由于光致變色膜305只設(shè)置在待設(shè)置隔墊物的區(qū)域310的周圍，可減少光致變色膜305的使用量，減少成本。當(dāng)然，本發(fā)明實施例包括但不限于此，例如，光致變色膜可設(shè)置在整個顯示基板上，從而應(yīng)對整張面板上可能發(fā)生的漏光問題。
[0082]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，光致變色膜305還可包括覆蓋待設(shè)置隔墊物310的區(qū)域的部分。
[0083]例如，如圖6所示，本實施例一示例提供的顯示基板的制作方法還包括:在襯底基板301上形成黑矩陣303，黑矩陣303覆蓋待設(shè)置隔墊物的區(qū)域，光致變色膜305至少包括設(shè)置在黑矩陣303兩側(cè)的防漏光部分3050，防漏光部分3050在襯底基板301上的正投影與黑矩陣303在襯底基板301上的正投影相接或至少部分重疊。由于隔墊物通常設(shè)置在黑矩陣覆蓋的范圍內(nèi)，因此可針對性地在黑矩陣的兩側(cè)設(shè)置光致變色膜的防漏光部分以遮擋因隔墊物劃傷取向膜而導(dǎo)致的漏光現(xiàn)象。當(dāng)然，本發(fā)明實施例包括但不限于此，例如，光致變色膜還可包括覆蓋黑矩陣的部分。其具體效果說明參見實施例一中的相關(guān)描述，在此不再贅述。
[0084]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，防漏光部分的寬度為1-1OOum0
[0085]例如，如圖6所示，本實施例一示例提供的顯示基板的制作方法還包括:在:襯底基板301上形成取向膜309;以及在襯底基板301上形成彩色濾光圖案302，光致變色膜305形成在彩色濾光圖案302靠近取向膜309的一側(cè)。由此，彩色濾光圖案302—方面可實現(xiàn)彩色顯示的功能，另一方面因為環(huán)境光照射到光致變色膜305需經(jīng)過彩色濾光圖案302的過濾，因此可防止因環(huán)境光觸發(fā)光致變色膜305從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜。進一步地，本實施例提供的顯示基板的制作方法還可包括:在襯底基板上形成其他膜層以防止環(huán)境光誤觸發(fā)光致變色膜，例如偏光片等。
[0086]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，光致變色膜在垂直于襯底基板的方向上的厚度為Ο.Ι-Ιμ??。
[0087]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，光致變色膜的材料包括鹵化銀。
[0088]例如，光致變色膜的材料包括溴化銀。當(dāng)受到光照射時，溴化銀(鹵化銀的一種)發(fā)生分解，產(chǎn)生銀原子。銀原子能吸收可見光，當(dāng)銀原子聚集到一定數(shù)量或濃度時，照射在光致變色膜的光大部分被吸收，原來具有高透過率的膜這時就會轉(zhuǎn)變成具有低透過率的膜。
[0089]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，所述光致變色膜配置為受小于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后所述光致變色膜的透過率可恢復(fù)。例如，當(dāng)光致變色膜材料包括溴化銀時，如圖9所示，當(dāng)光致變色膜沒有收到光照時，銀原子和溴原子又會結(jié)合成溴化銀，因為銀離子不吸收可見光，于是，光致變色膜又可從具有低透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂懈咄高^率的膜，即透過率提高。其具體的效果說明可參見實施例一中的相關(guān)描述，在此不再贅述。
[0090]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，光致變色膜還可包括催化劑，以加快光致變色膜的反應(yīng)速率。例如，當(dāng)光致變色膜材料包括溴化銀時，當(dāng)光致變色膜沒有收到光照時，催化劑(例如氧化銅)可加快銀原子和溴原子結(jié)合成溴化銀的速率，從而快速恢復(fù)到低透過率或透明狀態(tài)。
[0091 ]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，催化劑可包括氧化銅。
[0092]實施例三
[0093]本實施例提供一種顯示裝置，如圖6所示，該顯示裝置包括陣列基板100，陣列基板100包括取向膜109;對置基板300，對置基板300與陣列基板100對盒設(shè)置；以及液晶分子200，液晶分子200設(shè)置在陣列基板100和對置基板300之間，對置基板300可為上述實施例一中任一項的顯示基板，且上述對置基板設(shè)置在顯示裝置的出光側(cè)。顯示基板300的取向膜309與陣列基板100的取向膜109配置為誘導(dǎo)液晶分子200定向排布。
[0094]在本實施例提供的顯示裝置中，光致變色膜受到光照后可從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜。由此，本實施例提供的顯示裝置因各種異常(例如隔墊物劃傷取向膜)而導(dǎo)致漏光時，可通過設(shè)置在顯示基板中的光致變色膜迅速轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜甚至透過率為零的膜以防止漏光射出顯示裝置，及時避免漏光現(xiàn)象的發(fā)生，從而可提高顯示的可靠性。
[0095]例如，在本實施例一示例提供的顯示裝置中，光致變色膜可具有觸發(fā)光照強度，當(dāng)光致變色膜受到大于等于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后透過率降低。由此，可根據(jù)需要對光致變色膜進行設(shè)置，只有當(dāng)光照強度大于觸發(fā)光照強度的光照射光致變色膜時，光致變色膜才從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜。
[0096]例如，觸發(fā)光照強度可設(shè)置為大于顯示裝置正常工作情況下透過顯示裝置的光的最大光照強度。
[0097]例如，圖11是一種液晶在取向膜正常和異常區(qū)域的透過率與驅(qū)動電壓的曲線示意圖。如圖11所示，在取向膜功能正常的區(qū)域，例如，取向膜沒有被劃傷的區(qū)域，隨著液晶的驅(qū)動電壓的上升，顯示裝置的亮度從LO上升到L255，而液晶對應(yīng)的光透過率從0%上升到30%。然而，在取向膜異常的區(qū)域，例如，取向膜被劃傷，失去誘導(dǎo)液晶進行定向排列的錨定功能的區(qū)域，液晶完全陷入紊亂的狀態(tài)，失去光閥調(diào)控功能。此時，液晶的透過率可達到90%以上，背光源的強光可以幾乎完全穿透排布紊亂的液晶層，照射到光致變色膜上。由此，可將觸發(fā)光照強度可設(shè)置為大于顯示裝置正常工作情況下透過顯示裝置的光的最大光照強度L255。在顯示裝置正常工作的情況下，光致變色膜并不會從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜，不會影響正常顯示并且不會降低開口率;而當(dāng)顯示裝置因取向膜被劃傷而產(chǎn)生漏光時，照射到光致變色膜上的光的光照強度超過了顯示裝置正常工作情況下的最大亮度，光致變色膜從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜，從而遮擋住漏光，提高顯示的可靠性和穩(wěn)定性。另外，由于光致變色膜只是在發(fā)生漏光的區(qū)域才從具有高透過率的膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械屯高^率的膜，開口率的損失也相對較小。
[0098]例如，在本實施例一示例提供的顯示裝置中，如圖6所示，陣列基板100和顯示基板300之間還設(shè)置有隔墊物210，隔墊物210支撐由陣列基板100和顯示基板300形成的液晶盒，并維持液晶盒的盒厚均一。光致變色膜305至少包括圍繞襯底基板301上設(shè)置隔墊物210的區(qū)域的防漏光部分3050，例如，防漏光部分3050可圍繞隔墊物210的區(qū)域一周，防漏光部分3050在襯底基板301上的正投影與設(shè)置隔墊物210的區(qū)域相接或至少部分重疊。由于光致變色薄膜305設(shè)置在襯底基板301上設(shè)置隔墊物210的區(qū)域的周圍，從而可針對性地遮擋因隔墊物劃傷取向膜而導(dǎo)致的漏光現(xiàn)象。并且，由于光致變色膜305只設(shè)置在設(shè)置隔墊物210的區(qū)域的周圍，可減少光致變色膜305的使用量，減少成本。當(dāng)然，本發(fā)明實施例包括但不限于此，例如，光致變色膜可設(shè)置在整個顯示基板上，從而應(yīng)對整張面板上可能發(fā)生的漏光問題。
[0099]例如，如圖6所示，隔墊物可為柱狀隔墊物。
[0100]需要說明的是，上述的相接是指防漏光部分在襯底基板上的投影的內(nèi)側(cè)邊緣與待設(shè)置隔墊物的區(qū)域的外側(cè)邊緣相接，它們之間的間距為零;上述的至少部分重疊是指防漏光部分在襯底基板上的投影的內(nèi)側(cè)邊緣落在待設(shè)置隔墊物的區(qū)域內(nèi)。另外，上述的待設(shè)置隔墊物的區(qū)域與待設(shè)置的隔墊物具有相同的尺寸和形狀。當(dāng)隔墊物在沿垂直于陣列基板的方向上的尺寸和形狀不一致時，以隔墊物與顯示基板相接觸的面的大小和尺寸為準(zhǔn)。另外，隔墊物可設(shè)置在顯示基板上，隔墊物也可設(shè)置在陣列基板上并與顯示基板上待設(shè)置隔墊物的區(qū)域相接觸；當(dāng)隔墊物設(shè)置在顯示基板上時，隔墊物可劃傷陣列基板上的取向膜，當(dāng)隔墊物設(shè)置在陣列基板上時，隔墊物可劃傷顯示基板上的取向膜;此兩種情況均在本實施例的保護范圍之中。
[0101]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，如圖6所示，光致變色膜305還可包括覆蓋隔墊物210的部分。即，光致變色膜305為覆蓋隔墊物210且包括防漏光區(qū)域3050的一個整體。
[0102]例如，在本實施例一示例提供的顯示基板中，由于隔墊物通常設(shè)置在黑矩陣覆蓋的范圍內(nèi)，因此可針對性地在黑矩陣的兩側(cè)設(shè)置光致變色膜的防漏光部分以遮擋因隔墊物劃傷取向膜而導(dǎo)致的漏光現(xiàn)象。其具體設(shè)置情況和位置關(guān)系可參見實施例一中相關(guān)的描述，在此不再贅述。
[0103]以上所述，僅為本公開的【具體實施方式】，但本公開的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本公開揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本公開的保護范圍之內(nèi)。因此，本公開的保護范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項】
1.一種顯示基板，包括: 襯底基板，所述襯底基板包括待設(shè)置隔墊物的區(qū)域；以及 光致變色膜，所述光致變色膜設(shè)置在所述襯底基板上，并配置為受光照射后透過率降低，所述光致變色膜至少包括設(shè)置為圍繞所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域的防漏光部分，所述防漏光部分在所述襯底基板上的正投影與所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域相接或至少部分重疊。2.如權(quán)利要求1所述的顯示基板，其中，所述光致變色膜具有觸發(fā)光照強度，所述光致變色膜配置為受大于等于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后透過率降低，所述觸發(fā)光照強度大于所述顯示基板正常工作情況下透過所述顯示基板的光的最大光照強度。3.如權(quán)利要求2所述的顯示面板，其中，所述光致變色膜配置為受小于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后所述光致變色膜的透過率可恢復(fù)。4.如權(quán)利要求2所述的顯示基板，其中，所述光致變色膜配置為受大于等于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后變?yōu)椴煌缚梢姽獾哪ぁ?.如權(quán)利要求1所述的顯示基板，其中，所述光致變色膜在所述襯底基板的正投影具有與所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域相同的形狀。6.如權(quán)利要求1所述的顯示基板，其中，所述光致變色膜在所述襯底基板的正投影與所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域同心設(shè)置。7.如權(quán)利要求1所述的顯示基板，還包括:黑矩陣，所述黑矩陣覆蓋所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域，所述光致變色膜至少包括設(shè)置在所述黑矩陣兩側(cè)的防漏光部分，所述防漏光部分在所述襯底基板上的正投影與所述黑矩陣在所述襯底基板上的正投影相接或至少部分重置。8.如權(quán)利要求1-7任一項所述的顯示基板，其中，所述防漏光部分的寬度為1-100μπι。9.如權(quán)利要求1-7任一項所述的顯示基板，其中，所述光致變色膜的材料包括鹵化銀。10.如權(quán)利要求9所述的顯示基板，其中，所述光致變色膜還包括催化劑。11.如權(quán)利要求1-7任一項所述的顯示基板，其中，所述光致變色膜的厚度為0.1-1μπι。12.如權(quán)利要求1-7任一項所述的顯示基板，還包括:取向膜，所述取向膜設(shè)置在所述襯底基板上，所述光致變色膜設(shè)置在所述襯底基板和所述取向膜之間。13.如權(quán)利要求12任一項所述的顯示基板，還包括:彩色濾光圖案，其中，所述彩色濾光圖案設(shè)置在襯底基板與所述取向膜之間，所述光致變色膜設(shè)置在所述彩色濾光圖案靠近所述取向膜的一側(cè)。14.一種顯示基板的制作方法，包括: 在襯底基板上形成光致變色材料；以及 圖案化所述光致變色材料以形成具有預(yù)定圖案的光致變色膜， 其中，所述光致變色膜配置為受光照射后透過率降低，所述襯底基板包括待設(shè)置隔墊物的區(qū)域，所述光致變色膜至少包括設(shè)置為圍繞所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域的防漏光部分，所述防漏光部分在所述襯底基板上的正投影與所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域相接或至少部分重疊。15.如權(quán)利要求14所述的顯示基板的制作方法，其中，所述光致變色膜具有觸發(fā)光照強度，所述光致變色膜配置為受大于等于具有觸發(fā)光照強度的光的照射后透過率降低，所述觸發(fā)光照強度大于所述顯示基板正常工作情況下透過所述顯示基板的光的最大光照強度。16.如權(quán)利要求15所述的顯示基板的制作方法，還包括: 在所述襯底基板上形成黑矩陣，所述黑矩陣覆蓋所述待設(shè)置隔墊物的區(qū)域， 其中，所述光致變色膜至少包括設(shè)置在所述黑矩陣兩側(cè)的防漏光部分，所述防漏光部分在所述襯底基板上的正投影與所述黑矩陣在所述襯底基板上的正投影相接或至少部分重疊。17.如權(quán)利要求14-16任一項所述的顯示基板的制作方法，還包括: 在所述襯底基板上形成取向膜；以及 在所述襯底基板上形成彩色濾光圖案， 其中，所述光致變色膜形成在所述彩色濾光圖案靠近所述取向膜的一側(cè)。18.—種顯示裝置，包括: 陣列基板，所述陣列基板包括取向膜； 顯示基板，所述顯示基板與所述陣列基板對盒設(shè)置，且所述顯示基板設(shè)置在顯示裝置的出光側(cè)；以及 液晶層，所述液晶層設(shè)置在所述陣列基板和所述顯示基板之間， 其中，所述顯示基板包括上述權(quán)利要求1-13任一項所述的顯示基板。
【文檔編號】G02F1/1335GK105867012SQ201610483697
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年6月27日
【發(fā)明人】江亮亮, 蔣松陽, 郭磊, 戴珂
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 合肥鑫晟光電科技有限公司