視結(jié)構(gòu)示意圖，如圖2所示，在本發(fā)明實(shí)施例中，該透明基板00的兩側(cè)中的至少一側(cè)可以形成有兩層電致變色薄膜圖形101和102，即該透明基板00的一側(cè)形成有下透明電極a，該下透明電極a上形成有第一電致變色薄膜圖形101，該第一電致變色薄膜圖形101上形成有共用透明電極b，該共用透明電極b上形成有第二電致變色薄膜圖形102，該第二電致變色薄膜圖形102上形成有上透明電極C，該共用透明電極b上加載的電壓小于該下透明電極a上加載的電壓和該上透明電極c上加載的電壓，例如該共用透明電極b可以與電源的負(fù)極連接，通過在兩層電致變色薄膜圖形之間形成共用透明電極，可以減少掩膜板中所需要形成的透明電極的個數(shù)，進(jìn)而簡化了掩膜板的制造工藝，降低了掩膜板的制造成本。
[0044]可選的，如圖2所示，每個電致變色薄膜圖形可以包括至少兩個間隔設(shè)置的電致變色薄膜單元11，該至少兩個間隔設(shè)置的電致變色薄膜單元11的間隙形成有透明絕緣層30，其中，該至少兩個間隔設(shè)置的電致變色薄膜單元11的間隙包括透明電極20上該電致變色薄膜單元11未覆蓋的區(qū)域。該透明絕緣層30可以保護(hù)電致變色薄膜圖形10，并能夠提高掩膜板表面的平整度。
[0045]需要說明的是，在本發(fā)明實(shí)施例中，該掩膜板兩側(cè)中的任一側(cè)還可以形成兩層以上的電致變色薄膜圖形，示例的，如圖3所示，該掩膜板的一側(cè)形成有三層電致變色薄膜圖形101至103，其中，每層電致變色薄膜圖形的上下兩側(cè)分別形成有上透明電極和下透明電極，例如，電致變色薄膜圖形101的上下兩側(cè)分別形成有上透明電極Ia和下透明電極lb，電致變色薄膜圖形103的上下兩側(cè)分別形成有上透明電極3a和下透明電極3b，且相鄰的兩個透明電極之間形成有透明絕緣層，例如，透明電極Ib和2a之間形成有透明絕緣層12，透明電極2b和3a之間形成有透明絕緣層23，該透明絕緣層可以避免相鄰兩個透明電極之間互相干擾，從而保證每層電致變色薄膜圖形上下兩側(cè)的透明電極可以獨(dú)立控制該層電致變色薄膜圖形的透光狀態(tài)。
[0046]圖4本發(fā)明實(shí)施例提供的再一種掩膜板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖，該掩膜板還包括:設(shè)置在該透明基板00外圍的控制模塊40，該控制模塊40可以分別與每層電致變色薄膜圖形上下兩側(cè)形成的透明電極電連接，用于控制每層電致變色薄膜圖形的電壓，以調(diào)節(jié)每層電致變色薄膜圖形的透光狀態(tài)，該透光狀態(tài)可以包括可透光狀態(tài)和不透光狀態(tài)。由于該控制模塊40位于該透明基板00的外圍，因此不會對該掩膜板在顯示基板上形成的掩膜圖形造成影響。
[0047]在實(shí)際應(yīng)用中，可以通過控制模塊調(diào)節(jié)至少兩層電致變色薄膜圖形中的目標(biāo)電致變色薄膜圖形的透光狀態(tài)為不透光狀態(tài)，除該目標(biāo)電致變色薄膜圖形之外的其他電致變色薄膜圖形的透光狀態(tài)為可透光狀態(tài)，然后即可采用該目標(biāo)電致變色薄膜圖形，在顯示基板的襯底基板上形成一種掩膜圖形。其中，該目標(biāo)電致變色薄膜圖形為顯示基板上待形成的掩膜圖形所對應(yīng)的電致變色薄膜圖形，在顯示基板的制造過程中，可以由操作人員根據(jù)顯示基板的制造進(jìn)度，在掩膜板的至少兩層電致變色薄膜圖形中選取不同的電致變色薄膜圖形作為目標(biāo)電致變色薄膜圖形，并通過控制模塊將該目標(biāo)電致變色薄膜圖形的透光狀態(tài)調(diào)節(jié)為不透光狀態(tài)。
[0048]需要說明的是，上述實(shí)施例中的電致變色薄膜圖形可以為由普魯士藍(lán)薄膜通過一次構(gòu)圖工藝所形成的圖形，上述實(shí)施例中的透明基板可以為石英玻璃基板，透明電極可以為氧化銦錫(英文:Indium Tin Oxide;簡稱:ITO)膜層，透明絕緣層可以為氧化娃膜層或者氮化娃膜層。
[0049]綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩膜板包括:透明基板以及形成在該透明基板上的至少兩層電致變色薄膜圖形，該至少兩層電致變色薄膜圖形能夠在透明電極的作用下在顯示基板上形成至少兩種不同的掩膜圖形。而相關(guān)技術(shù)中每張掩膜板上的圖形是固定不變的，即每張掩膜板唯一對應(yīng)一種圖形。由于顯示基板的制造過程需要在襯底基板上依次形成柵極掃描線圖形、有源層圖形、和鈍化層圖形等多個圖形，因此需要購買與要形成的圖形相對應(yīng)的多個掩膜板。而采用本發(fā)明實(shí)施例提供的掩膜板，可以使用一張掩膜板在顯示基板上形成至少兩種圖形，因此可以減少顯示基板制造過程中所需要使用的掩膜板的個數(shù)，進(jìn)而簡化了 TFT-1XD的制造工藝，降低了 TFT-1XD的制造成本。
[0050]圖5-1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩膜板的制造方法的流程圖，以制造如圖1所示的掩膜板為例，該掩膜板的制造方法可以包括:
[0051]步驟501、在透明基板的一側(cè)形成第一下透明電極。
[0052]示例的，如圖5-2所示，可以在透明基板00的一側(cè)形成第一下透明電極201，該第一下透明電極201可以為ITO膜層。
[0053]步驟502、在形成有該第一下透明電極的透明基板上形成第一電致變色薄膜圖形。
[0054]如圖5-3所示，可以在形成有第一下透明電極201的透明基板00上沉積電致變色薄膜層，例如，普魯士藍(lán)薄膜，然后通過一次構(gòu)圖工藝形成第一電致變色薄膜圖形101，該第一電致變色薄膜圖形101可以在顯示基板上形成第一掩膜圖形。
[0055]步驟503、在第一電致變色薄膜圖形包括的至少兩個間隔設(shè)置的電致變色薄膜單元的間隙形成透明絕緣層。
[0056]進(jìn)一步的，如圖5-4所示，該第一電致變色薄膜圖形101可以包括至少兩個間隔設(shè)置的電致變色薄膜單元U，為了保證掩膜板表面的平整度以及保護(hù)該第一電致變色薄膜圖形101，可以在該至少兩個間隔設(shè)置的電致變色薄膜單元11的間隙形成透明絕緣層30，其中，該至少兩個間隔設(shè)置的電致變色薄膜單元11的間隙還可以包括第一下透明電極201上該電致變色薄膜單元11未覆蓋的區(qū)域。
[0057]步驟504、在形成有第一電致變色薄膜圖形的透明基板上形成第一上透明電極。
[0058]如圖5-5所示，在形成有第一電致變色薄膜圖形101的透明基板00上形成第一上透明電極202后，即完成該掩膜板一側(cè)的圖形的制造。
[0059]步驟505、在該透明基板的另一側(cè)形成第二下透明電極。
[0060]步驟506、在形成有該第二下透明電極的透明基板上形成第二電致變色薄膜圖形。
[0061]步驟507、在該第二電致變色薄膜圖形包括的至少兩個間隔設(shè)置的電致變色薄膜單元的間隙形成透明絕緣層。
[0062]步驟508、在形成有該第二電致變色薄膜圖形的透明基板上形成第二上透明電極。
[0063]上述步驟505至步驟508為在掩膜板的另一側(cè)形成第二電致變色薄膜圖形的過程，上述過程可以參考步驟501至步驟504，本發(fā)明實(shí)施例不再重復(fù)贅述。
[0064]步驟509、在該透明基板的外圍設(shè)置控制模塊，并將該控制模塊分別與每層電致變色薄膜圖形上下兩側(cè)形成的透明電極電連接。
[0065]如圖4所示，在透明基板00的外圍設(shè)置控制模塊40，該控制模塊可以分別與每層電致變色薄膜圖形上下兩側(cè)形成的透明電極電連接，從而控制每層電致變色薄膜圖形的電壓，進(jìn)而調(diào)節(jié)該每層電致變色薄膜圖形的透光狀態(tài)。
[0066]需要說明的是，上述掩膜板的制造方法的步驟的先后順序可以進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整，步驟也可以根據(jù)情況進(jìn)行相應(yīng)增減。示例的，上述掩膜板的制造方法的步驟的執(zhí)行順序可以為:步驟501，步驟505，步驟502，步驟506，步驟503，步驟507，步驟504，步驟508，步驟509。任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化的方法，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)，因此不再贅述。
[0067]還需要說明的是，本發(fā)明實(shí)施例提供的掩膜板的制造方法還可以用于制造如圖2至圖4任一所示的掩膜板，其具體制造過程可以參考上述步驟501至步驟508。
[0068]綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的掩膜板的制造方法，可以在掩模板兩側(cè)分別形成一層電致變色薄膜圖形，采用該掩膜板能夠在顯示基板上形成兩種不同的掩膜圖形，因此減少了制造顯示基板時所需要使用的掩膜板的數(shù)量，簡化了TFT-LCD的制造工藝，降低了TFT-LCD的制造成本。
[0069]圖6-1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示基板的制造方法的流程圖，以采用如圖