例包括酮和醚。酮為例如，甲基乙基酮。另外，醚的實(shí)例包括四氫吡喃、四氫呋喃和 1，3-二氧戊環(huán)?？筛鶕?jù)如涂布速度和干燥條件等條件適當(dāng)選擇的由式（3)表示的一元醇與 其它溶劑的混合比（由式（3)表示的一元醇/其它溶劑）為例如，2/8以上（質(zhì)量比）。
[0044] 另外，為了減緩?fù)磕じ稍飼r的干燥速度的目的或者為了防止由于涂料渣滓引起的 黑點(diǎn)的產(chǎn)生的目的，沸點(diǎn)高于由式（3)表示的一元醇的沸點(diǎn)的溶劑可用作其它溶劑。特別 是，優(yōu)選使用沸點(diǎn)高于由式（3)表示的一元醇的沸點(diǎn)的醚。由式（3)表示的一元醇與沸點(diǎn) 高于由式（3)表示的一元醇的沸點(diǎn)的醚的混合質(zhì)量比可根據(jù)如涂布速度和干燥條件等條 件來適當(dāng)?shù)剡x擇。特別是，上述比例（由式（3)表示的一元醇/沸點(diǎn)高于由式（3)表示的 一元醇的沸點(diǎn)的醚）優(yōu)選為2/8以上，更優(yōu)選5/5以上。
[0045] 關(guān)于由式（3)表示的一元醇與根據(jù)需要引入的其它溶劑引入至底涂層用涂布液 中的比例，由式（3)表示的一元醇與其它溶劑的總量為例如，20質(zhì)量％ -80質(zhì)量％，優(yōu)選40 質(zhì)量％ -55質(zhì)量％。
[0046] 從抑制干涉條紋的觀點(diǎn)，氧化鈦顆粒的數(shù)均粒徑優(yōu)選為0. 1 μπι以上且I. 0 μπι 以下。此外，為了改進(jìn)通過其遮蔽支承體的缺陷的性質(zhì)的目的，可組合使用數(shù)均粒徑小于 〇. 1 μπι的氧化鈦顆粒。氧化鈦的晶系優(yōu)選為金紅石型晶體或銳鈦礦型晶體，更優(yōu)選金紅石 型晶體。
[0047] 數(shù)均粒徑為0. 1 μπι以上且I. 0 μπι以下的氧化鈦顆粒的實(shí)例包括：全部由Tayca Corporation 制造的 JR、JR-301、JR-403、JR-405、JR-600A、JR-605、JR-600E、JR-603、 JR-805、JR-806、JR-701、JRNC、JR-800、JR-1000、JA-1、JA-C、JA-3 和 TITANIXJA-1 ;全部由 Ishihara Sangyo Kaisha，Ltd.制造的R-550、R-580、R-630、R-670、R-680、R-780、R-780-2、 R-820、R-830、R-850、R-855、R-930、R-980、CR-50、CR-50-2、CR-57、CR-58、CR-58-2、CR-60、 CR-60-2、CR-63、CR-67、CR-Super 70、CR-80、CR-85、CR-90、CR-90-2、CR-93、CR-95、CR-953、 CR-97、CR-EL、PC-3、S-305、PF-690、PF-691、PF-711、PF-736、PF-737、PF-739、PF-740、 PF-742、PT-301、PT-501A、PT-501R、UT771、A-100、A-220、W-IO 和 ST-41 ;和全部由 Sakai Chemical Industry Co.，Ltd.制造的 SR-I、R-42、R-45M、R-650、R-32、R-5N、GTR-100、 R-62N、R-7E、R-3L、R-11P、R-21、R-25、TCR-52、R-310、D-918、FTR-700、R_39、FPT-UA-110、 TCA-123E、A-190、A-197、SA-I 和 SA-1L。
[0048] 數(shù)均粒徑小于0.1 ym的氧化鈦顆粒的實(shí)例包括：全部由Tayca Corporation制 造的 MT-01、MT-10EX、MT-05、MT-150A、MT-100S、MT-100TV、MT-100Z、MT-150EX、MT-150W、 MT-100AQ、MT-100WP、MT-100SA、MT-100HD、MT-300HD、MT-500HD、MT-500B、MT-500SA、 MT-600B、MT-600SA、MT-700B、MT-700HD、MTY-02、MTY-110M3S、MT-500SAS、MTY-700BS、 JMT-150IB、JMT-150A0、JMT-150FI、JMT-150AN0、AMT-100、AMT-600、TKP-101 和 TKP-102 ; 和全部由 Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd 制造的 TT0-51 (A)、TT0-51 (C)、TT0-55 (A)、 TT0-55 (B)、TT0-55(C)、TT0-55 (D)、TT0-F-2、TT0-F-6、ST-01、ST-21、ST-31、ST-30L、 PT-401M、MC-50、MC-90 和 MC-150。
[0049] 引入至底涂層用涂布液的氧化鈦顆粒的質(zhì)量（Mm)與具有特定結(jié)構(gòu)的封端異氰酸 酯化合物和多元醇樹脂的總質(zhì)量（Mu)的比（Mm/Mu)優(yōu)選為1/1以上（質(zhì)量比）。滿足該比 例改進(jìn)電特性（當(dāng)重復(fù)使用制造的電子照相感光構(gòu)件時通過其抑制亮區(qū)電位的變動）。此 外，該比例更優(yōu)選為2/1以上（質(zhì)量比）。同時，從抑制底涂層的裂紋的產(chǎn)生的觀點(diǎn)，該比 例（Mm/Mu)優(yōu)選為4/1以下（質(zhì)量比）。因此，該比例（Mm/Mu)優(yōu)選為2/1以上且4/1以下 (質(zhì)量比）。
[0050] 另外，從調(diào)節(jié)底涂層的表面粗糙度的觀點(diǎn)和從抑制底涂層的裂紋的產(chǎn)生的觀點(diǎn)， 有機(jī)樹脂顆粒和流平劑等可引入至底涂層用涂布液中。
[0051] 如硅顆粒等疏水性有機(jī)樹脂顆?；蛉缃宦?lián)型聚甲基丙烯酸酯樹脂（PMMA)顆粒等 親水性有機(jī)樹脂顆?？捎米饔袡C(jī)樹脂顆粒。特別是，PMMA顆粒是優(yōu)選的，因為底涂層的表 面粗糙度可調(diào)節(jié)為落入合適的范圍內(nèi)。關(guān)于底涂層的表面粗糙度的優(yōu)選范圍，底涂層的 十點(diǎn)平均粗糙度（Rzjis)為0.6 μπι-2. O μπι，以及其表面的凹凸之間的平均間隔（RSm)為 0.0 lOmm-0.0 24mm。特別是，當(dāng)RSm落入該范圍時，產(chǎn)生微小間距表面粗糙度。因此，底涂 層與該層上形成的電荷產(chǎn)生層等之間的粘合性改進(jìn)，因此，可抑制電位的變動。應(yīng)當(dāng)注意的 是，十點(diǎn)平均粗糙度和凹凸之間的平均間隔按照J(rèn)IS B0601-1994的表面粗糙度標(biāo)準(zhǔn)用表面 粗糙度-測量機(jī)"SE_3500"（商品名，由Kosaka Laboratory Ltd.制造）來測量。十點(diǎn)平 均粗糙度為在底涂層的六個任意位點(diǎn)測量的值的平均值。另外，如下計算凹凸之間的平均 間隔：在六個任意的位點(diǎn)的各處測量凹凸之間的間隔，求得測量值的平均值，并且計算凹凸 之間的平均間隔為"六個位點(diǎn)的各平均值"的平均值。在所述測量時，截止值（cutoff)設(shè) 定為0. 8mm和評價長度設(shè)定為2. 5mm。
[0052] 另外，為了例如，改進(jìn)底涂層的電特性、改進(jìn)膜的形狀穩(wěn)定性和改進(jìn)圖像質(zhì)量的目 的，各種添加劑可引入至底涂層用涂布液。
[0053] 添加劑的實(shí)例包括如鋁顆粒或銅顆粒等金屬顆粒，如炭黑等導(dǎo)電性顆粒，醌化合 物，荷酮化合物，噁二唑系化合物，聯(lián)苯醌（diphenoquinone)化合物，茜素化合物，二苯甲 酮化合物，多環(huán)稠合化合物，偶氮化合物，金屬螯合化合物和硅烷偶聯(lián)劑。
[0054] 通過形成此類底涂層用涂布液的涂膜，并且使涂膜干燥和固化獲得底涂層。當(dāng)加 熱底涂層用涂布液的涂膜時，由式（3)表示的一元醇揮發(fā)（干燥），并且異氰酸酯化合物與 多元醇樹脂彼此反應(yīng)（固化）以制得聚氨酯樹脂。底涂層用涂布液的涂膜干燥和固化的溫 度（加熱溫度）優(yōu)選為l〇〇°C以上且190°C以下。當(dāng)該溫度落入上述范圍內(nèi)時，抑制底涂層 中的裂紋，因此，具有特定結(jié)構(gòu)的封端異氰酸酯化合物與多元醇樹脂之間的固化反應(yīng)容易 進(jìn)行。此外，該溫度更優(yōu)選130°C以上且160°C以下。另外，底涂層用涂布液的涂膜的干燥時 間（加熱時間）優(yōu)選為10分鐘以上且120分鐘以下，更優(yōu)選10分鐘以上且60分鐘以下。
[0055] 如上所述，本發(fā)明中，使用具有特定構(gòu)成的底涂層用涂布液，并且?guī)缀醪话l(fā)生底涂 層用涂布液的粘度的提高。因此，抑制在例如，底涂層用涂布液的貯存時或底涂層用涂布液 的涂膜形成時粘度的提高，因此，形成的底涂層可以為均勻的。另外，用于本發(fā)明的底涂層 用涂布液生產(chǎn)性優(yōu)異，因為該涂布液可在低溫下固化。
[0056] 通過本發(fā)明的制造方法制造的電子照相感光構(gòu)件（以下，有時稱為"本發(fā)明的電 子照相感光構(gòu)件"）為包括以下的電子照相感光構(gòu)件：支承體、支承體上的底涂層和底涂層 上的感光層。電子照相感光構(gòu)件優(yōu)選為包括以下的電子照相感光構(gòu)件：作為感光層的具有 設(shè)置在底涂層上的電荷產(chǎn)生層和設(shè)置在電荷產(chǎn)生層上的電荷輸送層的層壓型感光層。
[0057] 通過本發(fā)明的制造方法制造的電子照相感光構(gòu)件的層構(gòu)造的實(shí)例示于圖IA和圖 IB。圖IA和圖IB中，支承體由附圖標(biāo)記101表示，底涂層由附圖標(biāo)記102表示，和感光層 由附圖標(biāo)記103表示。
[0058] 感光層優(yōu)選為通過從底涂層側(cè)以規(guī)定的順序?qū)訅喊姾僧a(chǎn)生物質(zhì)的電荷產(chǎn)生 層和包含電荷輸送物質(zhì)的電荷輸送層獲得的層壓型感光層。另外，引入至電荷輸送層的電 荷輸送物質(zhì)優(yōu)選為空穴輸送物質(zhì)。
[0059] 支承體優(yōu)選為具有導(dǎo)電性的支承體（導(dǎo)電性支承體）。其實(shí)例包括由如鋁、鋁合 金、不銹鋼、銅、鎳和鋅等金屬制成（或由合金制成）的支承體。另外，當(dāng)使用由鋁制成的支 承體或由鋁合金制成的支承體時，可使用ED管或EI管等。
[0060] 另外，通過在由金屬制成的支承體或由樹脂制成的支承體上形成如鋁、鋁合金或 氧化銦-氧化錫合金等導(dǎo)電材料的薄膜獲得的產(chǎn)品也可用作支承體。
[0061] 另外，為了例如，抑制由于激光的散射引起的干涉條紋的目的，可以使支承體的表 面進(jìn)行切削處理、粗糙化處理、氧化鋁膜處理、電解復(fù)合研磨處理、濕式珩磨處理或干式珩 磨處理等。電解復(fù)合研磨包括：用具有電解作用的電極和電解液電解；和用具有研磨作用 的磨石研磨。
[0062] 為了例如，抑制由于激光的散射引起的干涉條紋和遮蔽（覆蓋）支承體的缺陷的 目的，可在支承體與底涂層之間形成導(dǎo)電層。
[0063] 導(dǎo)電層可通過以下來形成：涂布通過使炭黑、如金屬顆粒和金屬氧化物顆粒等導(dǎo) 電性顆粒、粘結(jié)劑樹脂和溶劑進(jìn)行分散處理獲得的導(dǎo)電層用涂布液，以形成涂膜；和使所得 涂膜干燥和/或固化。
[0064] 用于導(dǎo)電層的粘結(jié)劑樹脂的實(shí)例包括聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚乙烯醇縮醛樹 月旨、丙烯酸系樹脂、