適用于圓片光刻工藝的感應裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種半導體加工裝置，尤其是一種適用于圓片光刻工藝的感應裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]光刻加工過程中，往往需要對待加工圓片的位置進行判斷，方可進行加工。傳統(tǒng)的圓片位置感應均采用光電感應裝置，即采用兩個成對稱分布的光線發(fā)生器與接收器，通過光在圓片表面的反射對圓片的位置進行感應。然而，由于圓片，尤其是待加工的圓片表面粗糙，其使得反射角度存在不確定性，從而使得感應精度難以得到保證，進而導致加工過程中時常出現(xiàn)碎片現(xiàn)象。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其可使得感應精度得以改善。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明涉及一種適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其包括有用于對圓片進行傳輸?shù)纳狭涎b置；所述上料裝置的前端部設(shè)置有感應支架，感應支架之上設(shè)置有接近開關(guān)，接近開關(guān)與上料裝置彼此相對。
[0005]作為本發(fā)明的一種改進，所述感應支架與上料裝置的相對端面之上設(shè)置有安置槽體，安置槽體的上端面設(shè)置有安置孔，所述接近開關(guān)通過安置孔連接至感應支架之上，接近開關(guān)的下端部延伸至安置槽體內(nèi)部。采用上述設(shè)計，其可通過感應支架中安置槽體的設(shè)置，使之形成與接近開關(guān)相對應的安裝位置，從而使得接近開關(guān)在組裝過程中的布局更為合理；安置孔的設(shè)置則使得接近開關(guān)的安裝穩(wěn)定性得以改善。
[0006]作為本發(fā)明的一種改進，所述接近開關(guān)的下端部連接有傳輸線纜，所述安置槽體的下端部設(shè)置有延伸孔，其與安置孔同軸延伸；所述傳輸線纜經(jīng)由延伸孔延伸至外部。采用上述設(shè)計，其可通過延伸孔對傳輸線纜進行安置，避免其發(fā)生損壞。
[0007]作為本發(fā)明的一種改進，所述接近開關(guān)與安置孔上端部與下端部的連接位置分別設(shè)置有橡膠減震圈，其可避免接近開關(guān)因機械振動等因素發(fā)生跌落甚至損壞，從而使得感應裝置的使用壽命得以提升。
[0008]采用上述技術(shù)方案的圓片光刻工藝的感應裝置，其可通過接近開關(guān)替代傳統(tǒng)圓盤感應裝置所采用的光電感應，從而使得感應裝置不受圓片表面粗糙度的影響，使得感應精度得以改善，以使得加工過程中的碎片現(xiàn)象得以顯著改善。
【附圖說明】
[0009]圖1為本發(fā)明示意圖；
附圖標記列表:
1 一上料裝置、2—感應支架、3—接近開關(guān)、4 一安置槽體、5—安置孔、6—傳輸線纜、7—延伸孔、8—橡I父減震圈。
【具體實施方式】
[0010]下面結(jié)合【具體實施方式】，進一步闡明本發(fā)明，應理解下述【具體實施方式】僅用于說明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍。需要說明的是，下面描述中使用的詞語“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附圖中的方向，詞語“內(nèi)”和“外”分別指的是朝向或遠離特定部件幾何中心的方向。
[0011]實施例1
如圖1所示的一種適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其包括有用于對圓片進行傳輸?shù)纳狭涎b置1 ;所述上料裝置1的前端部設(shè)置有感應支架2，感應支架2之上設(shè)置有接近開關(guān)3，接近開關(guān)3與上料裝置1彼此相對。
[0012]作為本發(fā)明的一種改進，所述感應支架2與上料裝置1的相對端面之上設(shè)置有安置槽體4，安置槽體4的上端面設(shè)置有安置孔5，所述接近開關(guān)3通過安置孔4連接至感應支架2之上，接近開關(guān)3的下端部延伸至安置槽體4內(nèi)部。采用上述設(shè)計，其可通過感應支架中安置槽體的設(shè)置，使之形成與接近開關(guān)相對應的安裝位置，從而使得接近開關(guān)在組裝過程中的布局更為合理；安置孔的設(shè)置則使得接近開關(guān)的安裝穩(wěn)定性得以改善。
[0013]作為本發(fā)明的一種改進，所述接近開關(guān)3的下端部連接有傳輸線纜6，所述安置槽體4的下端部設(shè)置有延伸孔7，其與安置孔5同軸延伸；所述傳輸線纜6經(jīng)由延伸孔7延伸至外部。采用上述設(shè)計，其可通過延伸孔對傳輸線纜進行安置，避免其發(fā)生損壞。
[0014]采用上述技術(shù)方案的圓片光刻工藝的感應裝置，其可通過接近開關(guān)替代傳統(tǒng)圓盤感應裝置所采用的光電感應，從而使得感應裝置不受圓片表面粗糙度的影響，使得感應精度得以改善，以使得加工過程中的碎片現(xiàn)象得以顯著改善。
[0015]實施例2
作為本發(fā)明的一種改進，所述接近開關(guān)3與安置孔5上端部與下端部的連接位置分別設(shè)置有橡膠減震圈8，其可避免接近開關(guān)因機械振動等因素發(fā)生跌落甚至損壞，從而使得感應裝置的使用壽命得以提升。
[0016]本實施例其余特征與優(yōu)點均與實施例1相同。
【主權(quán)項】
1.一種適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其包括有用于對圓片進行傳輸?shù)纳狭涎b置，其特征在于，所述上料裝置的前端部設(shè)置有感應支架，感應支架之上設(shè)置有接近開關(guān)，接近開關(guān)與上料裝置彼此相對。2.按照權(quán)利要求1所述的適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其特征在于，所述感應支架與上料裝置的相對端面之上設(shè)置有安置槽體，安置槽體的上端面設(shè)置有安置孔，所述接近開關(guān)通過安置孔連接至感應支架之上，接近開關(guān)的下端部延伸至安置槽體內(nèi)部。3.按照權(quán)利要求2所述的適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其特征在于，所述接近開關(guān)的下端部連接有傳輸線纜，所述安置槽體的下端部設(shè)置有延伸孔，其與安置孔同軸延伸；所述傳輸線纜經(jīng)由延伸孔延伸至外部。4.按照權(quán)利要求3所述的適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其特征在于，所述接近開關(guān)與安置孔上端部與下端部的連接位置分別設(shè)置有橡膠減震圈。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其包括有用于對圓片進行傳輸?shù)纳狭涎b置；所述上料裝置的前端部設(shè)置有感應支架，感應支架之上設(shè)置有接近開關(guān)，接近開關(guān)與上料裝置彼此相對；采用上述技術(shù)方案的圓片光刻工藝的感應裝置，其可通過接近開關(guān)替代傳統(tǒng)圓盤感應裝置所采用的光電感應，從而使得感應裝置不受圓片表面粗糙度的影響，使得感應精度得以改善，以使得加工過程中的碎片現(xiàn)象得以顯著改善。
【IPC分類】G03F7/20
【公開號】CN105319870
【申請?zhí)枴緾N201510806229
【發(fā)明人】史進, 伍志軍
【申請人】蘇州賽森電子科技有限公司
【公開日】2016年2月10日
【申請日】2015年11月20日