光刻膠的去除方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，具體涉及光刻膠的去除方法。
【背景技術(shù)】
[0002]光刻膠又稱光致抗蝕劑，由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。光刻膠應(yīng)該具有比較小的表面張力，使光刻膠具有良好的流動(dòng)性和覆蓋。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。光刻膠廣泛用于印刷電路和集成電路的制造以及印刷制版等過(guò)程。光刻膠的技術(shù)復(fù)雜，品種較多。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機(jī)理和顯影原理，可分負(fù)性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠；反之，對(duì)某些溶劑是不可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。利用這種性能，將光刻膠作涂層，就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。
[0003]基于感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)，光刻膠可以分為三種類型。①光聚合型，采用烯類單體，在光作用下生成自由基，自由基再進(jìn)一步引發(fā)單體聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特點(diǎn)。②光分解型，采用含有疊氮醌類化合物的材料，經(jīng)光照后，會(huì)發(fā)生光分解反應(yīng)，由油溶性變?yōu)樗苄?，可以制成正性膠。③光交聯(lián)型，采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下，其分子中的雙鍵被打開，并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián)，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而起到抗蝕作用，這是一種典型的負(fù)性光刻膠?？逻_(dá)公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類。采用感光膠通過(guò)曝光、顯影和刻蝕等方式在每一層結(jié)構(gòu)面上形成所需要的圖案。在進(jìn)行后一層處理時(shí)，需要將前一次使用后的光刻膠完全去除。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)中，去除光刻膠的方法主要是灰化和全濕法清洗。在去除過(guò)程中，很容易對(duì)光纖面板材料造成損傷，同時(shí)，需要頻繁更換清洗液。另外，現(xiàn)有技術(shù)中使用的濃硫酸，只能去除光刻膠表層，不能徹底去除光刻膠。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的一個(gè)目的是一種光刻膠的去除方法，包括以下步驟:
(1)使用濕法刻蝕去除光刻膠；
(2)使用酸溶液洗滌光纖面板的光刻膠殘留；
(3)加熱堿溶液，使用堿溶液洗滌；
(4)將使用堿溶液洗滌完的光纖面板放入水中，持續(xù)通入臭氧；
(5)放入氯水中洗滌；
(6)使用有機(jī)溶劑浸泡。
[0006]所述酸溶液為次氯酸溶液、高氯酸溶液、氫氟酸溶液或硝酸溶液。
[0007]所述堿溶液為氫氧化鈉溶液、氫氧化鉀溶液和氨水溶液中的一種或幾種。
[0008]加熱堿溶液的溫度為70_90°C，使用堿溶液洗滌10分鐘以上。
[0009]通入臭氧的時(shí)間為20分鐘以上。
[0010]加入氯水后，反應(yīng)10分鐘以上。
[0011 ] 所述有機(jī)溶劑為正己烷和N-N 二甲基甲酰胺(DMF)中的一種或兩種。
[0012]使用有機(jī)溶劑浸泡的時(shí)間為I小時(shí)以上。
[0013]使用有機(jī)溶劑浸泡的溫度為40-55 °C。
[0014]發(fā)明使用了濕法刻蝕去除光刻膠，同時(shí)配合酸洗滌、堿洗滌和氧化去除步驟，然后再使用有機(jī)溶劑浸泡，能夠分別去除光刻膠表層和底層部分，徹底去除光纖面板上的光刻膠。本發(fā)明移除光刻膠效果好，通過(guò)溫度和時(shí)間的設(shè)定，達(dá)到最佳的去除效果，同時(shí)對(duì)纖維面板材料損傷小，洗滌液可以多次反復(fù)使用。
【具體實(shí)施方式】
[0015]實(shí)施例1
(1)使用濕法刻蝕去除光刻膠；
(2)使用濃度為20%的次氯酸溶液洗滌光纖面板的光刻膠殘留；
(3)加熱濃度為9%的氫氧化鈉溶液至70°C，浸泡洗滌；
(4)將使用氫氧化鈉溶液洗滌完的光纖面板放入水中，持續(xù)通入臭氧20分鐘；
(5)放入濃度為26%的氯水中洗滌10分鐘；
(6)使用正己烷于40°C浸泡I小時(shí)，取出使用清水洗凈，烘干。
[0016]實(shí)施例2
(1)使用濕法刻蝕去除光刻膠；
(2)使用濃度為50%的高氯酸溶液洗滌光纖面板的光刻膠殘留；
(3)加熱濃度為的10%氫氧化鉀溶液至90°C，浸泡洗滌；
(4)將使用氫氧化鉀溶液洗滌完的光纖面板放入水中，持續(xù)通入臭氧25分鐘；
(5)放入濃度為25%的氯水中洗滌20分鐘；
(6)使用N-N二甲基甲酰胺于45°C浸泡1.5小時(shí)，取出使用清水洗凈，烘干。
[0017]實(shí)施例3
(1)使用濕法刻蝕去除光刻膠；
(2)使用濃度為20%的氫氟酸溶液洗滌光纖面板的光刻膠殘留；
(3)加熱濃度為的8%氫氧化鉀、氫氧化鈉混合堿溶液至80°C，浸泡洗滌；
(4)將使用混合堿溶液洗滌完的光纖面板放入水中，持續(xù)通入臭氧22分鐘；
(5)放入濃度為20%的氯水中洗滌15分鐘；
(6)使用N-N二甲基甲酰胺于55°C浸泡I小時(shí)，取出使用清水洗凈，烘干。
[0018]實(shí)施例4
(1)使用濕法刻蝕去除光刻膠；
(2)使用濃度為30%的硝酸溶液洗滌光纖面板的光刻膠殘留；
(3)加熱濃度為的30%的氨水溶液至85°C，浸泡洗滌；
(4)將使用氨水溶液洗滌完的光纖面板放入水中，持續(xù)通入臭氧22分鐘；
(5)放入濃度為23%的氯水中洗滌15分鐘；
(6)使用正己烷、N-N二甲基甲酰胺混合溶劑(體積比為1:3)于50°C浸泡光纖面板I小時(shí)，取出使用清水洗凈，烘干。
[0019]上述詳細(xì)說(shuō)明是針對(duì)本發(fā)明其中之一可行實(shí)施例的具體說(shuō)明，該實(shí)施例并非用以限制本發(fā)明的專利范圍，凡未脫離本發(fā)明所為的等效實(shí)施或變更，均應(yīng)包含于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種光刻膠的去除方法，其特征在于，包括以下步驟: 使用濕法刻蝕去除光刻膠； 使用酸溶液洗滌光纖面板的光刻膠殘留； 加熱堿溶液，使用堿溶液洗滌； 將使用堿溶液洗滌完的光纖面板放入水中，持續(xù)通入臭氧； 放入氯水中洗滌； 使用有機(jī)溶劑浸泡。2.如權(quán)利要求1所述的光刻膠的去除方法，其特征在于，所述酸溶液為次氯酸溶液、高氯酸溶液、氫氟酸溶液或硝酸溶液。3.如權(quán)利要求1所述的光刻膠的去除方法，其特征在于，所述堿溶液為氫氧化鈉溶液、氫氧化鉀溶液和氨水溶液中的一種或幾種。4.如權(quán)利要求1所述的光刻膠的去除方法，其特征在于，加熱堿溶液的溫度為70-90°C，使用堿溶液洗滌10分鐘以上。5.如權(quán)利要求1所述的光刻膠的去除方法，其特征在于，通入臭氧的時(shí)間為20分鐘以上。6.如權(quán)利要求1所述的光刻膠的去除方法，其特征在于，加入氯水后，反應(yīng)10分鐘以上。7.如權(quán)利要求1所述的光刻膠的去除方法，其特征在于，所述有機(jī)溶劑為正己烷和N-N二甲基甲酰胺中的一種或兩種。8.如權(quán)利要求1所述的光刻膠的去除方法，其特征在于，使用有機(jī)溶劑浸泡的時(shí)間為I小時(shí)以上。9.如權(quán)利要求1所述的光刻膠的去除方法，其特征在于，使用有機(jī)溶劑浸泡的溫度為40-55。。。
【專利摘要】本發(fā)明公開了光刻膠的去除方法，包括以下步驟：（1）使用濕法刻蝕去除光刻膠；（2）使用酸溶液洗滌光纖面板的光刻膠殘留；（3）加熱堿溶液，使用堿溶液洗滌；（4）將使用堿溶液洗滌完的光纖面板放入水中，持續(xù)通入臭氧；（5）加入氯水；（6）使用有機(jī)溶劑浸泡。本發(fā)明能夠分別去除光刻膠表層和底層部分，徹底去除光纖面板上的光刻膠。
【IPC分類】G03F7/42
【公開號(hào)】CN105045051
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510521796
【發(fā)明人】陳哲, 張睿, 王者馥, 王緒敏, 殷金龍, 任魯風(fēng)
【申請(qǐng)人】北京中科紫鑫科技有限責(zé)任公司
【公開日】2015年11月11日
【申請(qǐng)日】2015年8月24日