液晶面板的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及液晶顯示器的制造領(lǐng)域，特別是涉及一種液晶面板的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 液晶顯示器的主要制程包括液晶面板（liquid crystal panel)的制作以及液晶 顯示模塊（liquid crystal module,LCM)的組裝。液晶面板的制作方法主要是將液晶封存 于作為上基板的彩色濾光板以及作為下基板的薄膜晶體管陣列基板之間。對于液晶顯示器 而言，讓液晶分子的長軸方向與基板表面有均勻傾斜角度的配向是相當(dāng)重要的，而可使液 晶分子排列成均勻預(yù)傾角（pre-tilt angle)的配向材料稱為配向膜（alignment layer)。 現(xiàn)有的液晶面板制造方法中，一般選取光敏感性高分子化合物作為配向液來制造配向膜， 并利用一定波長的光源去照射光敏感性高分子化合物使其發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)進(jìn)而誘導(dǎo)液晶 分子朝特定方向排列，由于能用于制造配向膜的光敏感性高分子化合物有多種類型，并且 不同種類的光敏感性高分子化合物在結(jié)構(gòu)上存在差異，若不同類型的光敏感性高分子化合 物仍然采用同樣的方法制造，會導(dǎo)致制得的配向膜出現(xiàn)輝點(diǎn)，進(jìn)而導(dǎo)致液晶面板的顯示效 果不佳。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 有鑒于此，有必要提供一種能克服上述不足的液晶面板的制造方法。
[0004] -種液晶面板的制造方法，包括：提供第一基板、第二基板、第一工作線及第二工 作線，該第一工作線用于實(shí)現(xiàn)預(yù)固化、固化以及曝光的制程工藝，該第二工作線用于實(shí)現(xiàn)清 洗與干燥的制程工藝；涂布第一配向液于該第一基板上，涂布第二配向液于該第二基板上， 該第一配向液為光分解型高分子化合物，該第二配向液為光異構(gòu)化高分子化合物；將涂布 有該第一配向液的第一基板及涂布有該第二配向液的第二基板同時提供給該第一工作線， 在該第一工作線上同步進(jìn)行預(yù)固化、固化、曝光步驟，再僅將曝光后的第一基板提供至該第 二工作線進(jìn)行清洗與干燥步驟，從而形成具有配向膜的該第一基板與該第二基板；形成框 膠于該第一基板與該第二基板其中之一上；封裝液晶材料及利用框膠貼合該第一基板與第 二基板以形成液晶面板。
[0005] -種液晶面板的制造方法，包括：提供第一基板、第二基板、第一工作線及第二工 作線，該第一工作線用于實(shí)現(xiàn)預(yù)固化、固化以及曝光的制程工藝，該第二工作線用于實(shí)現(xiàn)清 洗與干燥的制程工藝；涂布第一配向液于該第一基板上，涂布第三配向液于該第二基板上， 該第一配向液為光分解型高分子化合物，該第二配向液為光二聚體化高分子化合物；對涂 布有該第一配向液的第一基板及涂布有該第三配向液的第二基板同時提供給該第一工作 線，在該第一工作線上同步進(jìn)行預(yù)固化；并在該第一工作線上對第一基板進(jìn)行固化、曝光步 驟，再將曝光后的第一基板提供至該第二工作線進(jìn)行清洗與干燥步驟，形成具有配向膜的 該第一基板，在該第一工作線上對該第二基板進(jìn)行曝光、固化形成具有配向膜的該第二基 板；形成框膠于該第一基板與該第二基板其中之一上；封裝液晶材料及利用框膠貼合該第 一基板與第二基板以形成液晶面板。
[0006] -種液晶面板的制造方法，包括：提供第一基板、第二基板及第一工作線，該第一 工作線用于實(shí)現(xiàn)預(yù)固化、固化以及曝光的制程工藝；涂布第二配向液于該第一基板上，涂布 第三配向液于該第二基板上，該第二配向液為光異構(gòu)化高分子化合物，該第三配向液為光 二聚體化高分子化合物；在該第一工作線上對涂布有該第二配向液的第一基板、涂布有該 第三配向液的第二基板進(jìn)行預(yù)固化；在該第一工作線上對第一基板進(jìn)行固化、曝光步驟，形 成具有配向膜的該第一基板，在該第一工作線上對該第二基板進(jìn)行曝光、固化形成具有配 向膜的該第二基板；形成框膠于該第一基板與該第二基板其中之一上；封裝液晶材料及利 用框膠貼合該第一基板與第二基板以形成液晶面板。
[0007] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的液晶面板的制造方法，對于光分解型高分子化合物在 曝光之后增加了清洗與干燥的步驟；而對于光二聚體化高分子化合物與光異構(gòu)化高分子化 合物，曝光之后不進(jìn)行清洗；從而克服了光二聚體化高分子化合物與光異構(gòu)化高分子化合 物形成配向膜時與溶劑接觸，避免配向膜出現(xiàn)的輝點(diǎn)現(xiàn)象，改善了液晶面板的顯示效果。
【附圖說明】
[0008] 圖1為本發(fā)明第一實(shí)施例提供的一種液晶面板的制造方法的流程圖。
[0009] 圖2為本發(fā)明第二實(shí)施例提供的一種液晶面板的制造方法的流程圖。
[0010] 圖3為本發(fā)明第三實(shí)施例提供的一種液晶面板的制造方法的流程圖。
[0011] 圖4為圖1-圖3提供的液晶面板制造方法的工作線路圖。
[0012] 主要元件符號說明
如下【具體實(shí)施方式】將結(jié)合上述附圖進(jìn)一步說明本發(fā)明。
【具體實(shí)施方式】
[0013] 下面將結(jié)合附圖，對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
[0014] 請參閱圖1與圖4,本發(fā)明第一實(shí)施例提供的液晶面板的制造方法，圖1為液晶面 板制造方法的流程圖100,圖4是與圖1流程圖相對應(yīng)的生產(chǎn)線工作站示意圖，箭頭的方向 代表整個生產(chǎn)流程的走向，本實(shí)施例的制造方法包括以下步驟： SlO :提供第一基板、第二基板、第一工作線10及第二工作線20,該第一工作線10用 于實(shí)現(xiàn)預(yù)固化、固化以及曝光的制程工藝，該第二工作線20用于實(shí)現(xiàn)清洗與干燥的制程工 藝；在本實(shí)施方式中該第一基板與該第二基板分別為TFT (Thin Film Transistor)基板與 CF (color filter)基板。
[0015] 該第一工作線10包括預(yù)固化工作站12、固化工作站14與曝光工作站16,具體地， 固化工作站14與曝光工作站16正對設(shè)置，從而預(yù)固化步驟后可以實(shí)現(xiàn)先固化、再曝光或 者先曝光、再固化的步驟，也即可以根據(jù)實(shí)際需要，選擇先進(jìn)行曝光步驟還是先進(jìn)行固化步 驟。
[0016] 該第二工作線20包括清洗站21與干燥站22,分別用于實(shí)現(xiàn)對基板的清洗與以及 清洗后的干燥步驟。
[0017] Sll :涂布第一配向液于該第一基板上，涂布第二配向液于該第二基板上，該 第一配向液為光分解型（photo decomposition)高分子化合物，該第二配向液為光異 構(gòu)化（photo isomerization)高分子化合物；該光分解型高分子化合物可以為聚酰胺 (polyamide, PA)或聚酰亞胺（polyimide, PI)或者是二者的混合物,該光異構(gòu)化高分子化 合物是指含有疊氮苯（azobenzene)的高分子化合物。在本實(shí)施方式中，涂布第一配向液與 該第二配向液是在圖4所示的涂布站101進(jìn)行。
[0018] S12 :對涂布有該第一配向液的第一基板、涂布有該第二配向液的第二基板同時提 供給該第一工作線10,在該第一工作線10上利用預(yù)固化工作站12進(jìn)行預(yù)固化（pre-cure)、 固化工作站14進(jìn)行固化（main-cure)、曝光工作站16進(jìn)行曝光（irradiation)步驟，再僅 將曝光后的該第一基板提供至該第二工作線20,利用清洗站22進(jìn)行清洗及利用干燥站24 進(jìn)行干燥步驟，從而形成具有配向膜的該第一基板與該第二基板。預(yù)固化的作用是使配向 液初步固化于該第一基板與該第二基板上。對光分解型高分子化合物形成的配向液以及該 光異構(gòu)化高分子化合物形成的配向液預(yù)固化的溫度均為80°C，預(yù)固化的時間均為105S。
[0019] 對配向液進(jìn)行固化的作用是揮發(fā)掉配向液中所含的溶劑（solvent)，并排列有機(jī) 高分子。在本實(shí)施方式中，對光分解型高分子化合物進(jìn)行固化的溫度為230°C，時間為30分 鐘；對光異構(gòu)化高分子化合物固化的溫度為230°C，時間為40分鐘。
[0020] 對該配向液進(jìn)行曝光的具體方法為提供紫外（UV)光，利用該紫外光照射該第一 基板與該第二基板上的該配向液。對光分解型高分子化合物進(jìn)行曝光的紫外光的能量為 I. 5J，波長為254nm。在此能量以及波長的光照下時，光分解型高分子化合物發(fā)生分解，導(dǎo)致 聚酰亞胺鍵結(jié)不均向的斷裂，從而在第一基板上，形成對液晶起配向排列作用的配向結(jié)構(gòu)。 對光異構(gòu)化高分子化合物進(jìn)行曝光的紫外光的能量為40mJ，紫外光波長介于300-320nm， 優(yōu)先為313nm ;在此波長的紫外光照射下，導(dǎo)致光異構(gòu)化高分子化合物的順式反式結(jié)構(gòu)互 變（cis-trans transition)，利用這樣的構(gòu)形轉(zhuǎn)變造成異向性而誘導(dǎo)液晶分子排列，固化 與曝光完成之后即形成配向膜。
[0021] 對該第一基板表面的配向膜進(jìn)行清洗所用的溶劑為異丙醇與水的混合溶液。該混 合溶液中異丙醇與水的比例介于〇. 5:9. 5與5:5之間。采用異丙醇與水的混合溶液可以清 洗掉曝光后未完全反應(yīng)的化合物以及聚亞酰胺殘留物。對該第一基板洗凈之后緊接著進(jìn)行 干燥化處理，干燥的溫度為80°C，時間為5分鐘。
[0022] S13 :形成框膠于該第一基板與該第二基板其中之一上；優(yōu)選地，形成框膠是在真 空環(huán)境中進(jìn)行，從而可以進(jìn)一步的防止空氣中的水分與第二基板接觸，避免第二基板上的 配向膜與空氣中的水分接觸形成輝點(diǎn)。在本實(shí)施方式中，利用框膠形成站30來形成框膠于 該第一基板與該第二基板的其中之一上。
[0023] S14:封裝液晶材料及利用框膠貼合上述該第一基板與第二基板以形成液晶面板。 在本實(shí)施方式中，利用液晶提供站40來提供液晶于該第一基板與該第二基板的其中之一 上。
[0024] 請參閱圖2與圖4,本發(fā)明第二實(shí)施例提供的液晶面板的制造方法，圖2為液晶面 板制造方法的流程圖200,圖4是與圖2流程圖相對應(yīng)的生產(chǎn)線工作站，箭頭的方向代表整 個流程的走向，本實(shí)施例的制造方法包括以下步驟： S20 :提供第一基板、第二基板、第一工作線10及第二工作線20,該第一工作線10用 于實(shí)現(xiàn)預(yù)固化、固化以及曝光的制程工藝，該第二工作線20用于實(shí)現(xiàn)清洗與干燥的制程工 藝；在本實(shí)施方式中該第一基板與該第二基板分別為TFT (Thin Film Transistor)基板與 CF (color filter)基板。
[0025] 該第一工作線10包括預(yù)固化工作站12、固化工作站14與曝光工作站16,具體地， 該第一工作線10可以設(shè)置為弧形，固化工作站14與曝光工作站16正對設(shè)置，該預(yù)固化工 作12站設(shè)置在弧形的頂點(diǎn)位置，從而預(yù)固化步驟后可以實(shí)現(xiàn)先固化、再曝光或者先曝光、 再固化的步驟，也即可以根據(jù)實(shí)際需要，選擇先進(jìn)行曝光步驟還是先進(jìn)行固化步驟。
[0026] 該第二工作線20包括清洗站21與干燥站22,分別用于實(shí)現(xiàn)對基板的清洗與干燥。
[0027] S21 :涂布第一配向液于該第一基板上及涂布第三配向液于該第二基板上，該第一 配向液為光分解型高分子化合物，該第三配向液為光二聚體化高分子化合物；該光分解型