光調(diào)制器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本文公開的實施方式涉及光調(diào)制器。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來隨著光通信系統(tǒng)的速度和容量增加，已研宄改進光調(diào)制器的調(diào)制效率。作為用于改進光調(diào)制器的調(diào)制效率的配置，已知有這樣一種配置，其中用于支撐電極的突出部從基板的平坦部突出，并且對待調(diào)制光進行引導的光波導形成在突出部的內(nèi)部。根據(jù)此配置，通過光波導進行引導的光的模場被限制在突出部內(nèi)。因此，當電壓施加到突出部上的電極時，通過該電壓有效地調(diào)制被限制在突出部內(nèi)的光。需要注意的是，光模場是指通過光波導進行引導的光所分布的區(qū)域。
[0003]專利文獻1:國際公開第2010/095333號被介紹作為現(xiàn)有技術(shù)文獻。
[0004]然而，根據(jù)傳統(tǒng)配置，沒有考慮在改進調(diào)制效率的同時抑制光傳播損耗。
[0005]換言之，為了進一步改進調(diào)制效率，在傳統(tǒng)配置中可考慮增大突出部的頂端距基板的平坦部的高度。然而，隨著突出部的頂端的高度增大，從突出部上的電極延伸的電力線的長度增加。隨著從突出部上的電極延伸的電力線的長度增加，形成在突出部內(nèi)部的光波導中所生成的電場變?nèi)?。因此，存在調(diào)制效率降低的風險。
[0006]另一方面，隨著突出部的頂端的高度減小，從突出部上的電極延伸的電力線的長度減小。然而，隨著突出部的頂端的高度減小，在垂直于形成在突出部內(nèi)部的光波導的方向上的電場分量變?nèi)?。因此，存在調(diào)制效率降低的風險。
[0007]另外，為了進一步改進調(diào)制效率，在傳統(tǒng)配置中可考慮減小突出部的頂端的寬度。然而，如果突出部的頂端的寬度過度減小，則從形成在突出部內(nèi)部的光波導朝著突出部的側(cè)表面?zhèn)鞑サ墓庥捎谕怀霾康膫?cè)表面上的表面粗糙度而被散射。因此，當突出部的頂端的寬度過度減小時，存在光傳播損耗增加的風險。
[0008]鑒于以上內(nèi)容而做出所公開的技術(shù)，所公開的技術(shù)的目的是在改進調(diào)制效率的同時抑制光傳播損耗。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]根據(jù)實施方式的一方面，一種光調(diào)制器包括:基板，其具有平坦部以及從該平坦部突出的突出部；電極，其由所述突出部支撐；以及光波導，其形成在所述突出部內(nèi)部，并且對要利用施加到所述電極的電壓進行調(diào)制的光進行引導，其中，所述突出部包含由所述光波導進行引導的光所分布的光分布區(qū)域的存在于所述電極一側(cè)的部分，所述突出部具有頂端，該頂端距所述平坦部的高度小于所述光分布區(qū)域沿著所述突出部的突出方向的寬度，并且所述突出部的所述頂端的寬度小于所述光分布區(qū)域沿著與所述突出部的所述突出方向垂直的方向的寬度。
【附圖說明】
[0010]圖1是示出包括根據(jù)本實施方式的光調(diào)制器的光傳輸裝置的配置示例的示圖；
[0011]圖2是圖1所示的光調(diào)制器中的沿線A-A截取的截面圖；
[0012]圖3是表不突出部尚度H與調(diào)制效率之間的關(guān)系的不圖；
[0013]圖4是用于說明隨著突出部高度H增加，調(diào)制效率降低的現(xiàn)象的示圖；
[0014]圖5是用于說明隨著突出部高度H減小，調(diào)制效率降低的現(xiàn)象的示圖；
[0015]圖6是表示突出部寬度W與調(diào)制效率之間的關(guān)系的示圖；以及
[0016]圖7是用于說明突出部的形狀與光傳播損耗之間的關(guān)系的示圖。
【具體實施方式】
[0017]將參照【附圖說明】本發(fā)明的優(yōu)選實施方式。需要注意的是，所公開的技術(shù)不受此實施方式限制。
[0018]圖1是示出包括根據(jù)本實施方式的光調(diào)制器的光傳輸裝置的配置示例的示圖。如圖1所示，根據(jù)本實施方式的光傳輸裝置I包括光纖2、光調(diào)制裝置10和光纖3。
[0019]光纖2將光源(未示出)所發(fā)射的光輸入到光調(diào)制裝置10中。
[0020]光調(diào)制裝置10包括殼體11、光調(diào)制器12、連接構(gòu)件13和連接構(gòu)件14。殼體11是用于容納光調(diào)制器12、連接構(gòu)件13和連接構(gòu)件14的殼體。光調(diào)制器12調(diào)制從光纖2經(jīng)由連接構(gòu)件13輸入的光以生成調(diào)制光。光調(diào)制器12將所生成的調(diào)制光經(jīng)由連接構(gòu)件14輸出給光纖3。光調(diào)制器12的配置將稍后詳細描述。連接構(gòu)件13是將光纖2與光調(diào)制器12光學連接的構(gòu)件。連接構(gòu)件14是將光調(diào)制器12與光纖3光學連接的構(gòu)件。
[0021]光纖3將從光調(diào)制裝置10輸入的調(diào)制光傳輸給后續(xù)階段。
[0022]參照圖2，接下來將詳細描述圖1所示的光調(diào)制器12的配置。圖2是在圖1所示的光調(diào)制器中沿線A-A截取的截面圖。如圖2所示，光調(diào)制器12包括基板121、電極122和光波導123。
[0023]基板121是由LiNb03、LiTaOjP PLZT中的任一種形成的基板?；?21包括:平坦部121a ;從平坦部121a突出的突出部121b ;以及覆蓋平坦部121a和突出部121b的緩沖層121c。緩沖層121c例如由S12形成。緩沖層121c阻擋從光波導123朝著電極122傳播的光。以下，平坦部121a和緩沖層121c被統(tǒng)稱為“平坦部121a”，突出部121b和緩沖層121c被統(tǒng)稱為“突出部121b”。
[0024]電極122由突出部121b支撐。電壓源(未示出)連接到電極122。該電壓源將預定電壓施加到電極122。當電壓施加到電極122時，由光波導123進行引導的光被調(diào)制，從而獲得調(diào)制光。
[0025]光波導123形成在突出部121b內(nèi)部。光波導123對待調(diào)制光進行引導。由光波導123進行引導的光分布在預定區(qū)域上。由光波導123進行引導的光所分布的區(qū)域稱為模場。光模場是光分布區(qū)域的示例。在圖2所示的示例中，示出由光波導123進行引導的光的模場M0
[0026]現(xiàn)在將描述在本實施方式中光模場M與突出部121b的形狀之間的關(guān)系。在圖2中，假設(shè)突出部121b的突出方向?qū)?yīng)于y軸方向，垂直于突出部121b的突出方向的方向?qū)?yīng)于X軸方向。
[0027]如圖2所示，突出部121b包含由光波導123進行引導的光的模場M的存在于電極122 —側(cè)的那部分。換言之，突出部121b僅包含由光波導123進行引導的光的模場M的存在于電極122 —側(cè)的那部分，而使光模場M的除上述部分以外的其它部分泄漏到基板121的內(nèi)側(cè)。突出部121b的這種形狀減少了從形成在突出部121b內(nèi)部的光波導123朝著突出部121b的側(cè)表面?zhèn)鞑サ墓?。結(jié)果，抑制了由于突出部121b的側(cè)表面上的表面粗糙度引起的光散射。
[0028]突出部121b的頂端距平坦部121a的高度H(以下稱作“突出部高度”)小于模場M沿著I軸方向的寬度Wy。優(yōu)選地，突出部高度H小于模場M沿著y軸方向的寬度Wy的0.6倍。更優(yōu)選地，突出部高度H小于模場M沿著y軸方向的寬度Wy的0.6倍并且大于O。下面將參照圖3至圖5描述使突出部高度H小于模場M沿著y軸方向的寬度Wy的原因。
[0029]圖3是表示突出部高度H與調(diào)制效率之間的關(guān)系的示圖。在圖3中，水平軸表示突出部高度Η[ μ m]，垂直軸表示光調(diào)制器12的調(diào)制效率[自然單位]。需要注意的是，圖3中表示的光調(diào)制器12的調(diào)