本發(fā)明涉及的實(shí)施方式涉及輔助曝光裝置。

背景技術(shù)：

當(dāng)前，對(duì)涂敷在被處理基板上的抗蝕劑膜，已知有與例如轉(zhuǎn)印掩模的圖案的通常的曝光裝置不同的，進(jìn)行局部的曝光處理的輔助曝光裝置。根據(jù)該輔助曝光裝置，能夠提高光光刻中的顯影處理后的抗蝕劑圖案的膜厚、線寬度的均勻性。

例如，專利文獻(xiàn)1公開的輔助曝光裝置具有將多個(gè)led(lightemittingdiode)元件排列為線狀的光源單元。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2013-186191號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明想要解決的技術(shù)問題

但是，使用led元件的情況的曝光解像度受到led元件主體的尺寸(例如5mm左右)的制約。因此，在上述現(xiàn)有技術(shù)中，在提高曝光解像度的方面具有進(jìn)一步改善的余地。實(shí)施方式的一個(gè)方式的目的在于提供能夠提高曝光解像度的輔助曝光裝置。

用于解決技術(shù)問題的技術(shù)方案

實(shí)施方式的一個(gè)方式所涉及的輔助曝光裝置配置在對(duì)被處理基板進(jìn)行曝光處理的曝光裝置的前級(jí)側(cè)或者后級(jí)側(cè)，對(duì)被處理基板進(jìn)行局部曝光處理，包括搬送部和光源單元。搬送部將被處理基板在掃描方向上搬送。光源單元對(duì)在掃描方向上被搬送的被處理基板，照射以與掃描方向交叉的方向?yàn)殚L邊方向的線狀的光。另外，光源單元構(gòu)成為包含將多個(gè)可動(dòng)式微反射鏡排列而成的數(shù)字微反射鏡器件。

發(fā)明效果

根據(jù)實(shí)施方式的一個(gè)方式，能夠提高曝光解像度。

附圖說明

圖1是表示實(shí)施方式所涉及的基板處理系統(tǒng)的構(gòu)成的圖。

圖2是表示對(duì)基板處理系統(tǒng)中的1個(gè)玻璃基板的全部工序的處理順序的流程圖。

圖3a是表示在實(shí)施方式中將玻璃基板上的產(chǎn)品區(qū)域分區(qū)為矩陣狀的格式的圖。

圖3b是表示在玻璃基板上的矩陣分區(qū)的各單位區(qū)域的每一個(gè)中對(duì)抗蝕劑圖案的膜厚、線寬度的測(cè)定值進(jìn)行演算并制圖的結(jié)構(gòu)的圖。

圖3c是表示在玻璃基板上的矩陣分區(qū)的各單位區(qū)域的每一個(gè)中對(duì)補(bǔ)正曝光量進(jìn)行演算并制圖的結(jié)構(gòu)的圖。

圖3d是表示在玻璃基板上的矩陣分區(qū)的各單位區(qū)域的每一個(gè)中對(duì)照度的目標(biāo)值進(jìn)行演算并制圖的結(jié)構(gòu)的圖。

圖4是表示實(shí)施方式所涉及的輔助曝光裝置的構(gòu)成的圖。

圖5是表示從光源單元照射的紫外線的照射區(qū)域的圖。

圖6是表示光源單元的構(gòu)成的圖。

附圖標(biāo)記說明

11輔助曝光裝置

12顯影裝置

17控制部

20曝光裝置

30平流搬送部

32光源單元

38照度測(cè)定部

46輥搬送路

100基板處理系統(tǒng)

325dmd。

具體實(shí)施方式

以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明公開的輔助曝光裝置的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。此外，本發(fā)明不限于以下所示實(shí)施方式。

[基板處理系統(tǒng)的構(gòu)成]

圖1所示的基板處理系統(tǒng)100設(shè)置在潔凈室內(nèi)，例如以lcd(liquidcrystaldisplay)用的玻璃基板g為被處理基板，在lcd制造處理中進(jìn)行光刻工序中的清洗、抗蝕劑涂敷、預(yù)烘培、顯影和后烘培等的一系列的處理。曝光處理在與基板處理系統(tǒng)100相鄰設(shè)置的外部的曝光裝置20(exp)中進(jìn)行。

基板處理系統(tǒng)100包括盒站1、搬入部2(inpass)、清洗裝置3(scr)、第1干燥部4(dr)、第1冷卻部5(col)、涂敷裝置6(cot)、第2干燥部7(dr)、預(yù)烘培部8(prebake)、第2冷卻部9(col)和接口站10。另外，基板處理系統(tǒng)100包括輔助曝光裝置11(ae)、顯影裝置12(dev)、后烘培部13(postbake)、第3冷卻部14(col)、檢查部15(ip)、搬出部16(outpass)和控制部17。

在盒站1和接口站10之間設(shè)置有將玻璃基板g從盒站1向接口站10搬送的搬送去路，在該搬送去路上從盒站1向接口站10依次設(shè)置有搬入部2、清洗裝置3、第1干燥部4、第1冷卻部5、涂敷裝置6、第2干燥部7、預(yù)烘培部8和第2冷卻部9。

另外，在盒站1和接口站10之間設(shè)置有用于將玻璃基板g從接口站10向盒站1搬送的搬送回路，在該搬送回路上從接口站10向盒站1依次設(shè)置有輔助曝光裝置11、顯影裝置12、后烘培部13、第3冷卻部14、檢查部15和搬出部16。此外，搬送去路和搬送回路例如由輥搬送路徑等構(gòu)成。

盒站1是搬入搬出盒c的端口，盒c中將玻璃基板g以多層地重疊的方式收納多個(gè)。盒站1包括在水平的一個(gè)方向(y軸方向)上例如能夠并排載置4個(gè)的盒載置臺(tái)1a和對(duì)盒載置臺(tái)1a上的盒c進(jìn)行玻璃基板g的放入取出的搬送裝置1b。搬送裝置1b具有保持玻璃基板g的搬送臂，能夠在x、y、z、θ的4個(gè)軸上動(dòng)作，在相鄰的盒載置臺(tái)1a、搬入部2和搬出部16之間進(jìn)行玻璃基板g的交接。

接口站10包括搬送裝置10a。搬送裝置10a具有保持玻璃基板g的搬送臂，能夠在x、y、z、θ的4個(gè)軸上動(dòng)作，能夠在相鄰的第2冷卻部9、輔助曝光裝置11和曝光裝置20之間進(jìn)行玻璃基板g的交接。此外，接口站10，除了搬送裝置10a之外，例如可以配置有周邊曝光裝置、字幕拍錄裝置等的裝置。周邊曝光裝置用來對(duì)在顯影時(shí)去除的附著在玻璃基板g的周邊部的抗蝕劑進(jìn)行曝光處理。字幕拍錄裝置在玻璃基板g上的規(guī)定的部位記錄規(guī)定的信息。

控制部17例如是cpu(centralprocessingunit)，通過讀取存儲(chǔ)在未圖示的存儲(chǔ)部的未圖示的程序進(jìn)行執(zhí)行，來控制基板處理系統(tǒng)100整體?？刂撇?7可以不使用程序而僅由硬件構(gòu)成。

圖2是表示對(duì)基板處理系統(tǒng)100中的1個(gè)玻璃基板g的全部工序的處理順序的流程圖。首先，在盒站1中，搬送裝置1b從盒載置臺(tái)1a上的任一盒c取出玻璃基板g，將取出的玻璃基板g搬入至搬入部2(步驟s101)。

被搬入至搬入部2的玻璃基板g在搬送去路上被搬送，被搬入清洗裝置3實(shí)施清洗處理(步驟s102)。在此，清洗裝置3對(duì)在搬送去路上水平移動(dòng)的玻璃基板g，實(shí)施刷清洗、吹清洗，從而從基板表面去除粒子狀的污垢，之后，實(shí)施漂洗處理。當(dāng)清洗裝置3中的一系列的清洗處理結(jié)束時(shí)，玻璃基板g被搬入第1干燥部4。

接著，玻璃基板g在第1干燥部4中被實(shí)施了規(guī)定的干燥處理后(步驟s103)，被搬入第1冷卻部5，被冷卻至規(guī)定的溫度。之后，玻璃基板g被搬入涂敷裝置6。

在涂敷裝置6中，玻璃基板g例如通過使用狹縫噴嘴的非旋轉(zhuǎn)法在基板上表面(被處理面)上涂敷抗蝕劑液(步驟s105)。之后，玻璃基板g被搬入第2干燥部7，受到例如在減壓下的常溫的干燥處理(步驟s106)。

從第2干燥部7搬出的玻璃基板g被搬入預(yù)烘培部8，在預(yù)烘培部8中被以規(guī)定的溫度加熱(步驟s107)。通過該處理，殘留在玻璃基板g上的抗蝕劑膜中的溶劑蒸發(fā)而被去除，對(duì)玻璃基板g的抗蝕劑膜的緊貼性被強(qiáng)化。

接著，玻璃基板g被搬入第2冷卻部9，在第2冷卻部9中被冷卻至規(guī)定的溫度(步驟s108)。之后，玻璃基板g由接口站10的搬送裝置10a搬入曝光裝置20。此外，玻璃基板g可以在被搬入曝光裝置20前被搬入未圖示的周邊曝光裝置。

在曝光裝置20中，在玻璃基板g上的抗蝕劑上曝光規(guī)定的電路圖案(步驟s109)。而且，結(jié)束了圖案曝光的玻璃基板g被接口站10的搬送裝置10a從曝光裝置20搬出，被搬入輔助曝光裝置11。此外，玻璃基板g可以在被搬入輔助曝光裝置11前被搬入未圖示的字幕拍錄裝置。

在輔助曝光裝置11中，對(duì)曝光處理后的玻璃基板g，進(jìn)行用于提高在顯影處理后所獲得的抗蝕劑圖案的膜厚、線寬度的均勻性的后述的特殊的輔助曝光處理(步驟s110)。結(jié)束了輔助曝光處理的玻璃基板g被搬入顯影裝置12，在顯影裝置12中被實(shí)施顯影、漂洗和干燥的一系列的顯影處理(步驟s111)。

結(jié)束了顯影處理的玻璃基板g被搬入后烘培部13，在后烘培部13中被實(shí)施顯影處理后的熱處理(步驟s112)。由此，殘存在玻璃基板g的抗蝕劑膜中的顯影液、清洗液蒸發(fā)而被去除，能夠強(qiáng)化抗蝕劑圖案對(duì)基板的緊貼性。之后，玻璃基板g被搬入第3冷卻部14，在第3冷卻部14被冷卻至規(guī)定的溫度(步驟s113)。

接著，玻璃基板g被搬入檢查部15。在檢查部15中，對(duì)玻璃基板g上的抗蝕劑圖案進(jìn)行非接觸的線寬度檢查、膜質(zhì)·膜厚檢查等(步驟s114)。檢查部15中的檢查結(jié)果被輸出至控制部17，由控制部17存儲(chǔ)在未圖示的存儲(chǔ)部。

搬出部16從檢查部15接收結(jié)束了檢查的玻璃基板g，并將其交接到盒站1的搬送裝置1b。搬送裝置1b將從搬出部16接收的處理完的玻璃基板g收納在盒c(步驟s115)。通過以上，對(duì)1個(gè)玻璃基板g的基板處理的全部工序結(jié)束。

輔助曝光裝置11通過對(duì)曝光處理后的玻璃基板g上的膜厚、線寬度偏離所期望的膜厚、線寬度的部位進(jìn)行局部的曝光處理，由此，能夠提高在顯影處理后所獲得的抗蝕劑圖案的膜厚、線寬度的均勻性。該輔助曝光裝置11的動(dòng)作由控制部17控制。

控制部17基于從檢查部15取得的檢查結(jié)果控制輔助曝光裝置11的動(dòng)作。在此，參照?qǐng)D3a～圖3d說明根據(jù)檢查部15的檢查結(jié)果生成輔助曝光裝置11的控制數(shù)據(jù)的方法的一個(gè)例子。

圖3a是表示在實(shí)施方式中將玻璃基板g上的產(chǎn)品區(qū)域劃分為矩陣狀的格式的圖。圖3b是表示在玻璃基板g上的矩陣分區(qū)的各單位區(qū)域的每一個(gè)中，對(duì)抗蝕劑圖案的膜厚、線寬度的測(cè)定值進(jìn)行演算并制圖的結(jié)構(gòu)的圖。圖3c是表示在玻璃基板g上的矩陣分區(qū)的各單位區(qū)域的每一個(gè)中對(duì)補(bǔ)正曝光量進(jìn)行演算并制圖的結(jié)構(gòu)的圖。圖3d是表示在玻璃基板g上的矩陣分區(qū)的各單位區(qū)域的每一個(gè)中對(duì)照度的目標(biāo)值進(jìn)行演算并制圖的結(jié)構(gòu)的圖。

檢查部15例如在玻璃基板g上的若干(例如數(shù)十部位)的代表點(diǎn)測(cè)定在后烘培后的玻璃基板g上獲得的抗蝕劑圖案的膜厚、線寬度。另外，控制部17對(duì)于抗蝕劑圖案的膜厚、線寬度，以由檢查部15取得的玻璃基板g上的代表點(diǎn)中的測(cè)定值為基礎(chǔ)，由規(guī)定的插值處理演算玻璃基板g上的其它的位置或者區(qū)域中的測(cè)定值(準(zhǔn)確地說是推測(cè)值)。

例如如圖3a所示，控制部17將玻璃基板g上的產(chǎn)品區(qū)域pa劃分為矩陣狀，在矩陣分區(qū)的各單位區(qū)域(i,j)的每一個(gè)中對(duì)抗蝕劑圖案的膜厚、線寬度的測(cè)定值(或者，通過插值處理得到的推定值)ai,j進(jìn)行演算，在存儲(chǔ)器內(nèi)構(gòu)成的表上，如圖3b所示進(jìn)行制圖。此外，在附圖中，為了容易理解，用9列(j＝1～9)表示矩陣分區(qū)。實(shí)際上，矩陣分區(qū)的行數(shù)和列數(shù)的都至少在數(shù)十以上，在fpd用的大型基板中為一百以上。

接著，控制部17在玻璃基板g上的矩陣分區(qū)的各單位區(qū)域(i,j)的每一個(gè)中對(duì)補(bǔ)正曝光量bi,j進(jìn)行演算，在存儲(chǔ)器內(nèi)構(gòu)成的表上如圖3c所示進(jìn)行制圖。在此，補(bǔ)正曝光量bi,j是對(duì)各單位區(qū)域(i,j)內(nèi)的抗蝕劑圖案的膜厚、線寬度而言使測(cè)定值和設(shè)定值的差(誤差)接近零的曝光量。

接著，控制部17在玻璃基板g上的矩陣分區(qū)的各單位區(qū)域(i,j)的每一個(gè)中對(duì)照度的目標(biāo)值ci,j進(jìn)行演算，在存儲(chǔ)器內(nèi)構(gòu)成的表上如圖3d所示進(jìn)行制圖。在此，在輔助曝光裝置11中矩陣分區(qū)的各單位區(qū)域(i,j)的每一個(gè)中的紫外線照射時(shí)間為ts時(shí)，為ci,j＝bi,j/ts。

[輔助曝光裝置的構(gòu)成]

接著，參照?qǐng)D4和圖5說明實(shí)施方式所涉及的輔助曝光裝置11的構(gòu)成。圖4是表示實(shí)施方式所涉及的輔助曝光裝置11的構(gòu)成的圖。另外，圖5是表示從光源單元32照射的紫外線的照射區(qū)域的圖。

如圖4所示，輔助曝光裝置11包括：平流搬送部30和光源單元32，該平流搬送部30將玻璃基板g在掃描方向(x軸負(fù)方向)上搬送；該光源單元32對(duì)由該平流搬送部30搬送的玻璃基板g上的抗蝕劑照射光、具體而言是照射規(guī)定波長的紫外線(uv)。另外，輔助曝光裝置11包括：照度測(cè)定部38，其測(cè)定由光源單元32照射的光的照度；控制部17，其用于控制裝置內(nèi)的各部；和存儲(chǔ)器42，其積蓄或保存在控制部17中使用的各種程序和數(shù)據(jù)。

平流搬送部30包括：輥搬送路46，其是例如將多個(gè)輥44在搬送方向上鋪設(shè)而成的；掃描驅(qū)動(dòng)部50，其在該輥搬送路46上為了搬送玻璃基板g而對(duì)各輥44經(jīng)由例如具有傳送帶、齒輪等的傳送機(jī)構(gòu)48進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。輥搬送路46在圖1所示的基板處理系統(tǒng)100中，構(gòu)成從接口站10向盒站1的搬送回路的一部分。

平流搬送部30將曝光處理后的玻璃基板g平向流動(dòng)地搬入輔助曝光裝置11內(nèi)，在輔助曝光裝置11內(nèi)為了進(jìn)行掃描輔助曝光處理而將玻璃基板g平向流動(dòng)地搬送，將結(jié)束了輔助曝光處理的玻璃基板g平向流動(dòng)地搬出到顯影裝置12。此外，控制部17通過配置在輥搬送路46的各處的位置傳感器(未圖示)而能夠檢測(cè)甚至掌握玻璃基板g的當(dāng)前的位置。

光源單元32配置在輥搬送路46的上方，由未圖示的支承部件支承。如圖5所示，光源單元32的與掃描方向交叉的方向(y軸方向)的寬度比玻璃基板g短，配置在該方向(y軸方向)上的玻璃基板g的(換言之是輥搬送路46的)中央部。該光源單元32對(duì)在掃描方向(x軸負(fù)方向)上被搬送的玻璃基板g，照射以與掃描方向交叉的方向(y軸方向)為長邊方向的線狀的光。

如圖4所示，本實(shí)施方式所涉及的光源單元32包括數(shù)字微反射鏡器件(以下記載為dmd)325。

dmd325是具備多個(gè)可動(dòng)式微反射鏡(以下記載為反射鏡)的空間光轉(zhuǎn)換器。一個(gè)反射鏡的鏡面尺寸例如是十幾μm，dmd325上配置有矩陣狀的幾十～幾百萬個(gè)該反射鏡。

各反射鏡能夠在使光反射向玻璃基板g上的打開角度和使光反射向玻璃基板g以外的場(chǎng)所的關(guān)閉角度之間轉(zhuǎn)換。

控制部17控制dmd325的各反射鏡的動(dòng)作，通過調(diào)整每個(gè)反射鏡的打開角度和關(guān)閉角度的時(shí)間比率，調(diào)整照射到與各反射鏡對(duì)應(yīng)的玻璃基板g上的各個(gè)單位區(qū)域的該單位區(qū)域的光的照度。

具體來說，控制部17通過調(diào)整每個(gè)反射鏡對(duì)經(jīng)過光源單元32的玻璃基板g上的單位區(qū)域(i,j)的打開角度和關(guān)閉角度的時(shí)間比率，以使各單位區(qū)域(i,j)的照度成為目標(biāo)值ci,j?？刂撇?7通過與利用輥搬送路46進(jìn)行的玻璃基板g向掃描方向的移動(dòng)同步地，在與掃描方向交叉的方向上排列的單位區(qū)域的每一列中進(jìn)行上述處理，對(duì)1個(gè)玻璃基板g中的全單位區(qū)域進(jìn)行輔助曝光處理。

在該dmd325中，能夠使極小的反射鏡一個(gè)一個(gè)地與玻璃基板g上的單位區(qū)域?qū)?yīng)。換言之，通過使用dmd325，能夠根據(jù)反射鏡的尺寸來減小設(shè)定在玻璃基板g上的單位區(qū)域的尺寸。所以，根據(jù)本實(shí)施方式所涉及的輔助曝光裝置11，與受到led元件主體的尺寸(5mm程度)制約的現(xiàn)有的輔助曝光裝置相比，能夠提高曝光解像度。

[光源單元的構(gòu)成]

接著，參照?qǐng)D6說明具有上述dmd325的光源單元32的構(gòu)成的一個(gè)例子。圖6是表示光源單元32的構(gòu)成的圖。此外，光源單元32的構(gòu)成不限于圖6所示的構(gòu)成。

如圖6所示，光源單元32包括光源321、第1透鏡322、反射鏡323、第2透鏡324、dmd325、投射透鏡326和光阱327。

光源321出射紫外線(uv)。作為光源321能夠使用例如led、激光束發(fā)生器等。第1透鏡322配置在光源321和dmd325間的光路上，使從光源321出射的光擴(kuò)大。反射鏡323配置在第1透鏡322和dmd325間的光路上，使由第1透鏡322擴(kuò)大的光反射向dmd325。此外，該反射鏡323的角度是固定的。

第2透鏡324配置在反射鏡323和dmd325間的光路上，使由反射鏡323反射的光的分布均勻化。dmd325具有多個(gè)矩形狀的反射鏡m，按照控制部17的控制驅(qū)動(dòng)各反射鏡m，在每個(gè)單位區(qū)域調(diào)整向玻璃基板g上照射的光的照度。

投射透鏡326配置在dmd325和玻璃基板g間的光路上，通過將dmd325反射向玻璃基板g的光呈線狀擴(kuò)大投射至玻璃基板g上。光阱327配置在由關(guān)閉角度的反射鏡m反射的光的光路上，吸收該光。

如上所述，實(shí)施方式所涉及的輔助曝光裝置11是具備具有單一光源321的單一光源單元32。所以，與將多個(gè)led元件用作光源的現(xiàn)有的輔助曝光裝置相比，例如，考慮從不同的光源照射的光彼此的重合調(diào)整各光源的照度等的復(fù)雜的處理變得不需要。

此外，輔助曝光裝置11可以具有多個(gè)光源單元32。在該情況下，具有光源單元32的dmd325能夠通過矩形狀的反射鏡m將光反射為矩形狀，因此，例如與具有將光照射為圓形的led元件的現(xiàn)有的輔助曝光裝置相比，從不同的光源單元32照射的光彼此難以重合。所以，考慮光彼此的重合調(diào)整各光源的照度等的復(fù)雜的處理變得不需要。

另外，如圖1所示，本實(shí)施方式所涉及的輔助曝光裝置11配置在曝光裝置20的后級(jí)側(cè)且顯影裝置12的前級(jí)。即，假設(shè)曝光處理的精度高，在之后進(jìn)行的顯影處理的精度低的情況下，有時(shí)在膜厚、線寬度產(chǎn)生偏差。所以，為了適當(dāng)?shù)匦拚ず?、線寬度的偏差，優(yōu)選如本實(shí)施方式所涉及的輔助曝光裝置11的方式，在結(jié)束了顯影處理前的所有的工序后、即在緊靠顯影裝置12之前配置輔助曝光裝置11。根據(jù)本實(shí)施方式所涉及的基板處理系統(tǒng)100，由檢查部15檢測(cè)顯影處理后的玻璃基板g上的膜厚、線寬度，將該檢查結(jié)果反饋到緊靠顯影處理之前的輔助曝光處理，能夠適當(dāng)?shù)匦拚ず?、線寬度。

但是，輔助曝光裝置11的配置不限于上述的例子，只要是在涂敷裝置6的后級(jí)側(cè)且顯影裝置12的前級(jí)側(cè)，就能夠配置在任意的位置。

[照度分布調(diào)整處理]

此外，在將dmd325的反射光擴(kuò)大至玻璃基板g的寬度為止的情況下，有時(shí)照度分布不均勻化。具體來說，有在從光源單元32照射的線狀的光中的、距dmd325遠(yuǎn)的端部側(cè)的照度與距dmd325近的中央部的照度相比降低的擔(dān)憂。特別是，如本實(shí)施方式所涉及的輔助曝光裝置11的方式，在使用單一光源單元32的情況下，容易產(chǎn)生上述那樣的照度分布的不均勻化。

所以，也可以在輔助曝光裝置11中，預(yù)先具備照度測(cè)定部38且進(jìn)行使用該照度測(cè)定部38測(cè)定從光源單元32照射的線狀的光的照射分布的處理，根據(jù)其結(jié)果決定輔助曝光處理中的對(duì)光源單元32的指令值。

照度測(cè)定部38包括例如用于測(cè)定紫外線的照度的照度計(jì)和用于使該照度計(jì)在光源單元32的正下方、向照射線方向(y軸方向)移動(dòng)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)。照度計(jì)在其頂部附近具有光電轉(zhuǎn)換元件例如光電二極管，生成與入射其受光面的紫外線的光強(qiáng)度對(duì)應(yīng)的電信號(hào)(照度測(cè)定信號(hào))。從照度計(jì)輸出的照度測(cè)定信號(hào)例如經(jīng)由模擬-數(shù)字轉(zhuǎn)換器被發(fā)送到控制部17。

移動(dòng)機(jī)構(gòu)以成為與照度計(jì)的受光部在輥搬送路46上移動(dòng)時(shí)的玻璃基板g的表面相同高度方式將照度計(jì)搭載在運(yùn)載裝置，在與光源單元32平行(y軸方向)延伸的導(dǎo)軌上通過例如線性電動(dòng)機(jī)使運(yùn)載裝置和照度計(jì)在雙方向上任意移動(dòng)，使照度計(jì)在導(dǎo)軌上的任意的位置停止或靜止。

控制部17控制dmd325，使各反射鏡m以相同的時(shí)間比率(例如，打開角度：關(guān)閉角度＝1：1)驅(qū)動(dòng)，控制照度測(cè)定部38，使照度計(jì)在照射線方向(y軸方向)上移動(dòng)并測(cè)定各位置的照度。由此，能夠取得由光源單元32照射的線狀的光的照度分布?？刂撇?7將取得的照度分布收納在存儲(chǔ)器42。

控制部17在輔助曝光處理前，參照如圖3d所示的照射圖和收納在存儲(chǔ)器42的表的照度分布，在玻璃基板g上的矩陣分區(qū)的各單位區(qū)域(i,j)的每一個(gè)中演算出指令值vi,j，例如在存儲(chǔ)器42內(nèi)構(gòu)建的表上進(jìn)行制圖。

而且，控制部17控制光源單元32和輥搬送路46，進(jìn)行用于輔助曝光處理的玻璃基板g和光源單元32間的掃描。在該掃描中，玻璃基板g的上的矩陣分區(qū)的第i行的單位區(qū)域(i,1)～(i,9)通過光源單元32的正下方時(shí)，對(duì)光源單元32施加第i行的各指令值vi,1～vi,9。由此，對(duì)第i行的單位區(qū)域(i,1)～(i,9)，從光源單元32在每一個(gè)單位區(qū)域中以獨(dú)立的照度照射線狀的光一定時(shí)間。

這樣一來，在玻璃基板g通過光源單元32的正下方時(shí)，在照射線(矩陣分區(qū)的各行)上在每一個(gè)單位區(qū)域(i,j)進(jìn)行獨(dú)立的照度或者曝光量的輔助的曝光。

如上所述，輔助曝光裝置11的控制部17可以基于顯影處理后的玻璃基板g中的膜厚和線寬度的至少一個(gè)測(cè)定結(jié)果和在將多個(gè)反射鏡m均勻控制的情況下從光源單元32照射的線狀的光的照度分布，控制各反射鏡m的動(dòng)作。如上所述，能夠抑制因照度分布的不均勻而產(chǎn)生的輔助曝光處理的精度降低。

此外，在上述的實(shí)施方式中，對(duì)使一個(gè)反射鏡m與一個(gè)單位區(qū)域?qū)?yīng)的情況的例子進(jìn)行了說明，但是，也可以使對(duì)應(yīng)的反射鏡m的數(shù)量在每一個(gè)單位區(qū)域不同。

例如，在輔助曝光裝置11具有單一光源單元32的情況下，有可能因光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成，使得從一個(gè)反射鏡m向線方向上的玻璃基板g的端部照射的光的照射范圍大于從一個(gè)反射鏡m向線方向上的玻璃基板g的中央(即光源單元32的正下方)照射的光的照射范圍。

所以，輔助曝光裝置11使1個(gè)或多個(gè)反射鏡m與線方向端部側(cè)的單位區(qū)域?qū)?yīng)，并且，也可以使比線方向端部側(cè)的單位區(qū)域多的反射鏡m與線方向中央部側(cè)的單位區(qū)域?qū)?yīng)。即，假設(shè)從一個(gè)反射鏡m向線方向端部側(cè)照射的光的照射范圍為從一個(gè)反射鏡m向線方向中央部側(cè)照射的光的照射范圍的2倍的大小的情況下，使一個(gè)反射鏡m與線方向端部側(cè)的單位區(qū)域?qū)?yīng)，并且，使兩個(gè)反射鏡m與線方向中央部側(cè)的單位區(qū)域?qū)?yīng)。這樣一來，能夠抑制因照射范圍的差導(dǎo)致的輔助曝光處理的精度降低。

另外，dmd325有因熱而反射特性變化的擔(dān)憂。所以，輔助曝光裝置11可以具備調(diào)整dmd325溫度的溫度調(diào)整部。作為溫度調(diào)整部例如能夠使用熱片、貝爾模塊等。

另外，在上述的實(shí)施方式中，具備將玻璃基板g平向流動(dòng)搬送的平流搬送部30，將光源單元32在掃描方向上固定在一定位置。但，是也能夠是，將玻璃基板g固定在例如載置臺(tái)上，僅在載置臺(tái)上使光源單元32在掃描方向上移動(dòng)的掃描方式、使玻璃基板g和光源單元32的雙方移動(dòng)的掃描方式。

另外，在上述的實(shí)施方式中，被處理基板可以為fpd用的玻璃基板，但是不限于此，可以為其它的平板顯示器用基板、半導(dǎo)體晶片、有機(jī)el、太陽能電池用的各種基板、cd基板、光掩模、印刷基板等。

如上述方式，實(shí)施方式所涉及的輔助曝光裝置是配置在對(duì)被處理基板進(jìn)行曝光處理的曝光裝置的前級(jí)側(cè)或者后級(jí)側(cè)，對(duì)被處理基板進(jìn)行局部的曝光處理，包括搬送部和光源單元。搬送部將被處理基板在掃描方向上搬送。光源單元對(duì)在掃描方向上被搬送的被處理基板，照射以與掃描方向交叉的方向?yàn)殚L邊方向的線狀的光。另外，光源單元包含將多個(gè)可動(dòng)式微反射鏡排列而成的數(shù)字微反射鏡器件。所以，根據(jù)實(shí)施方式所涉及的輔助曝光裝置，能夠提高曝光解像度。

進(jìn)一步的效果和變形例，能夠由本領(lǐng)域技術(shù)人員容易導(dǎo)出。因此，本發(fā)明的更寬泛的方式，不限于以上方式表示且記載的特定的詳細(xì)和代表的實(shí)施方式。所以，不脫離由附加的專利申請(qǐng)的范圍及其均等物定義的統(tǒng)一發(fā)明的概念的精神或范圍，能夠進(jìn)行各種變更。