米級(jí)光柵玻璃光刻膠精密涂覆方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種米級(jí)光柵玻璃高均勻性光刻膠精密涂覆方法，包括步驟：準(zhǔn)備好光刻膠→將光刻膠投入壓力罐→利用壓縮空氣將壓力罐內(nèi)的光刻膠從噴槍噴嘴中噴出→往復(fù)噴涂在米級(jí)光柵玻璃上形成濕膜→旋轉(zhuǎn)米級(jí)光柵玻璃進(jìn)行甩膠→進(jìn)烘箱烘干。本發(fā)明能在米級(jí)光柵玻璃上進(jìn)行光刻膠高均勻性精密涂覆。
【專利說明】米級(jí)光柵玻璃光刻膠精密涂覆方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及玻璃光刻膠涂膜工藝，特別是米級(jí)大尺寸光學(xué)玻璃光刻膠的高均勻性 精密涂覆方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)有的在玻璃上進(jìn)行光刻膠涂覆工藝，通常采用旋涂、輥涂，對(duì)玻璃尺寸大小和形 狀有要求。一般需要玻璃為圓形或者正方形或長(zhǎng)方形，且尺寸無法達(dá)到米級(jí)大尺寸。采用 旋涂法對(duì)米級(jí)玻璃進(jìn)行光刻膠涂覆，不規(guī)則形狀玻璃會(huì)有邊緣效應(yīng)且在米級(jí)光柵玻璃上無 法高均勻性精密涂覆，粗糙度大。采用輥涂法，光刻膠的厚度均勻性達(dá)不到米級(jí)光柵的精密 度要求（膜厚 5〇〇_7〇〇nm，±3% )


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供一種米級(jí)光柵玻璃高均勻性光刻膠精 密涂覆方法，該工藝簡(jiǎn)單，易操作。
[0004] 本發(fā)明的技術(shù)解決方案如下：
[0005] -種米級(jí)光柵玻璃光刻膠精密涂覆方法，其特征在于，該方法包括如下步驟：
[0006] ①準(zhǔn)備光刻膠，并將其投入壓力罐；
[0007] ②利用壓縮空氣將壓力罐內(nèi)的光刻膠從噴槍噴嘴中噴出，往復(fù)噴涂在米級(jí)光柵玻 璃上形成濕膜；
[0008] ③旋轉(zhuǎn)米級(jí)光柵玻璃進(jìn)行甩膠；
[0009] ④送進(jìn)烘箱烘干。
[0010] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：提高了玻璃光刻膠涂覆在米級(jí)尺度的高 均勻性、同時(shí)保證精密涂覆。

【具體實(shí)施方式】
[0011] 下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做詳細(xì)的說明，本實(shí)施例在以本發(fā)明技術(shù)方案為前提下 進(jìn)行實(shí)施，給出了詳細(xì)的實(shí)施方式和具體的操作過程，但本發(fā)明的保護(hù)范圍不限于下述的 實(shí)施例。
[0012] 本發(fā)明采用的涂覆工藝為：準(zhǔn)備好光刻膠一將光刻膠投入壓力罐一利用壓縮空氣 將壓力罐內(nèi)的光刻膠從噴槍噴嘴中噴出一往復(fù)噴涂在米級(jí)光柵玻璃上形成濕膜一旋轉(zhuǎn)米 級(jí)光柵玻璃進(jìn)行甩膠一進(jìn)烘箱烘干。本發(fā)明能在米級(jí)光柵玻璃上進(jìn)行光刻膠高均勻性精密 涂覆。
[0013] 用壓縮空氣將光刻膠從噴槍噴嘴中噴出，往復(fù)噴涂在米級(jí)玻璃上形成一層濕膜。 平板玻璃上噴涂要獲得膜層均勻性低于±3%，需要加入特殊溶劑及各種流平劑、表面活性 劑等助劑。但是光刻膠對(duì)溶劑要求高，大部分溶劑以引起不溶性顆粒等并且對(duì)光刻膠性能 產(chǎn)生影響。噴涂工序完成后在對(duì)米級(jí)玻璃進(jìn)行旋涂甩膠，達(dá)到濕膜流平的目的。
[0014] 因測(cè)試設(shè)備對(duì)尺寸有限制，用此方法涂覆光刻膠的Φ219_防濺射板上四邊及中 央各處取8個(gè)不同位置，擦除光刻膠形成1 cm直徑左右的空洞，用臺(tái)階儀測(cè)試出的膜厚數(shù)據(jù) 詳見表1。表1數(shù)據(jù)顯示：8個(gè)測(cè)試數(shù)據(jù)最大值512nm，最小值501nm，中間厚度505nm，厚度 均勻性達(dá)到±1. 33%。
[0015] 表1 Φ219·ι防濺射板涂覆光刻膠膜厚
[0016]

【權(quán)利要求】
1. 一種米級(jí)光柵玻璃光刻膠精密涂覆方法，其特征在于，該方法包括如下步驟： ① 準(zhǔn)備光刻膠，并將其投入壓力罐； ② 利用壓縮空氣將壓力罐內(nèi)的光刻膠從噴槍噴嘴中噴出，往復(fù)噴涂在米級(jí)光柵玻璃上 形成濕膜； ③ 旋轉(zhuǎn)米級(jí)光柵玻璃進(jìn)行甩膠； ④ 送進(jìn)烘箱烘干。
【文檔編號(hào)】G03F7/16GK104267579SQ201410472662
【公開日】2015年1月7日 申請(qǐng)日期:2014年9月17日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月17日
【發(fā)明者】熊懷, 唐永興, 沈斌, 陳知亞 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所