專利名稱：自由曲面光學(xué)微鏡陣列的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，是ー種微鏡陣列。
背景技術(shù)：
微透鏡陣列由基片和微透鏡構(gòu)成，微透鏡均勻排列在基片上，目前，關(guān)于微透鏡陣列的研究主要以圓形単元球面微透鏡陣列為主，其主要功能包括光束調(diào)節(jié)、成像、光互聯(lián)、顯示等，在光束調(diào)節(jié)領(lǐng)域傳統(tǒng)圓形単元球面微透鏡陣列受到極大的局限，下面以在光電傳感器光敏陣列中的應(yīng)用的微透鏡陣列為例進(jìn)行說明。光敏陣列是光電傳感器的核心部件，
在光敏陣列中，受光面分“光敏區(qū)”和“間隔區(qū)”。其中光敏區(qū)接受光能量，產(chǎn)生光電效應(yīng)；間隔區(qū)作為讀出電路部分，不能產(chǎn)生光電效應(yīng)。根據(jù)光敏區(qū)和間隔區(qū)比例計(jì)算，光能有效利用率約為60%，光能損失大，影響光電傳感器的感光靈敏度和信噪比。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種能夠有效提高光能利用率的自由曲面光學(xué)微鏡陣列。本實(shí)用新型解決技術(shù)問題的方案是采用基片和微透鏡構(gòu)成自由曲面光學(xué)微鏡陣列，微透鏡為矩形，其表面為自由曲面，微透鏡均勻排列在基片上。本實(shí)用新型減小單元間距，其理論占空比可達(dá)95%以上，光敏面的光能利用率得到極大提尚。

附圖為本實(shí)用新型示意圖。
具體實(shí)施方式
例I、本實(shí)用新型由基片I和微透鏡2構(gòu)成，微透鏡2為長(zhǎng)方形，其表面為自由曲面，微透鏡2均勻排列在基片I上。例2、本實(shí)用新型由基片I和微透鏡2構(gòu)成，微透鏡2為正方形，其表面為自由曲面，微透鏡2均勻排列在基片I上。
權(quán)利要求1.一種自由曲面光學(xué)微鏡陣列，由基片和微透鏡構(gòu)成，其特征在于微透鏡為矩形，其表面為自由曲面，微透鏡均勻排列在基片上。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的自由曲面光學(xué)微鏡陣列，其特征在于微透鏡為長(zhǎng)方形。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的自由曲面光學(xué)微鏡陣列，其特征在于微透鏡為正方形。
專利摘要一種自由曲面光學(xué)微鏡陣列，屬于光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，采用基片和微透鏡構(gòu)成，微透鏡為矩形，其表面為自由曲面，微透鏡均勻排列在基片上。本實(shí)用新型減小單元間距，其理論占空比可達(dá)95%以上，光敏面的光能利用率得到極大提高。
文檔編號(hào)G02B3/00GK202583495SQ20122024730
公開日2012年12月5日 申請(qǐng)日期2012年5月30日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月30日
發(fā)明者孫艷軍, 董連和, 冷雁冰, 陳哲 申請(qǐng)人:長(zhǎng)春理工大學(xué)