專利名稱：光學(xué)玻璃及抑制光譜透過率劣化的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)玻璃及抑制該光學(xué)玻璃的光譜透過率劣化的方法。
背景技術(shù)：
近年來，使用光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)備的數(shù)碼化和高精細(xì)化迅速發(fā)展，以數(shù)碼相機(jī)和攝像機(jī)等攝影設(shè)備為首，對用于各種光學(xué)設(shè)備的球面透鏡等光學(xué)元件的高精度化、輕量化及小型化的要求也越來越高。在制作光學(xué)元件的光學(xué)玻璃中，尤其非常需求能達(dá)到光學(xué)元件輕量化及小型化的、具有1. 70以上2. 20以下的高折射率(IId)的、具有10以上25以下的阿貝數(shù)(ν d)的且具有高折射率及高分散的玻璃。作為這種高折射率高分散玻璃，例如作為折射率( )在 1. 91以上、具有21以下的阿貝數(shù)的光學(xué)玻璃，已知以專利文獻(xiàn)1為代表的那樣的玻璃。并且，作為折射率(nd)在1. 65以上、具有17. 2以上33. 1以下的阿貝數(shù)的光學(xué)玻璃，已知以專利文獻(xiàn)2為代表的那樣的玻璃。然而，專利文獻(xiàn)1和2中公布的玻璃存在著由太陽光等中所含有的紫外線引起光譜透過率降低的過度曝光問題。過度曝光大的玻璃由于紫外線長時間照射而著色，因此，很難保持制造時希望達(dá)到的光譜透過率?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1 日本特開2005-206433號公報專利文獻(xiàn)2 日本特開平06-345481號公報

發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述問題，本發(fā)明的目的是提供一種可抑制光譜透過率隨時間推移而劣化的光學(xué)玻璃。為了解決上述問題，本申請的發(fā)明人專心致力于反復(fù)試驗和研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，在含有Nb2O5成分的光學(xué)玻璃中，通過調(diào)整光學(xué)玻璃中所含有的Pt成分和/或狗成分的含量， 光學(xué)玻璃的過度曝光會降低，至此完成了本發(fā)明。具體地，本發(fā)明提供了以下的內(nèi)容(1) 一種光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計含有合計為5. 0%以上且40. 0 %以下的選自由P2O5成份、SiO2成份和化03成份組成的組中的一種以上的成份、以及10. 0 %以上且60. 0%以下的Nb2O5成份，過度曝光即在波長 450nm下的光譜透過率的劣化量在5. 0%以下。(2)根據(jù)⑴所述的光學(xué)玻璃，其中，Pt成份的含量在15ppm以下。(3)根據(jù)⑴或⑵所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，F(xiàn)e成份的含量在50ppm以下。(4)根據(jù)⑴至(3)的任何一項所述的光學(xué)玻璃，其中，以對以氧化物為標(biāo)準(zhǔn)的質(zhì)量的外比例質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計，Sb2O3成份不到以質(zhì)量計0. 5%。(5)根據(jù)⑴至(4)的任何一項所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計還含有5. 0%以上且45. 0%以下的TW2成份。(6)根據(jù)(1)至(5)的任何一項所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計還含有0% 20. 0%的Bi2O3成份和/或0% 20. 0%的 WO3成份的各成份。(7)根據(jù)(1)至(6)的任何一項所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，質(zhì)量和P205+SiA+B203+Nb205+TiA+Bi203+W03在50. 0%以上且95. 0%以下。(8)根據(jù)(1)至(7)的任何一項所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計還含有0 % 20. 0 %的Li2O成份和/或0 % 35. 0 %的Na2O 成份和/或0 % 20. 0 %的K2O成份和/或0 % 10. 0 %的Cs2O成份的各成份。(9)根據(jù)(8)所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，質(zhì)量和 Li20+N￡i20+K20+Cs20 在 35. 0% 以下。(10)根據(jù)⑶或(9)所述的光學(xué)玻璃，其中，含有I^n2O成份中至少一種作為必要成份，且Na2OAn2O的換算成氧化物組成的質(zhì)量比大于0且小于1，其中，1 是選自由Li、Na、 K和Cs組成的組中的一種以上的元素。(11)根據(jù)(1)至(10)的任何一項所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計還含有0% 5. 0%的MgO成份和/或0% 10. 0%的 CaO成份和/或0% 10. 0%的SrO成份和/或0% 20. 0%的BaO成份的各成份。(12)根據(jù)(11)所述的光學(xué)玻璃，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，質(zhì)量和 MgO+CaO+SrO+BaO 在 20. 0% 以下。(13)根據(jù)(1)至(1 的任何一項所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計還含有0% 10. 0%的AO3成份和/或0% 10. 0%的 La2O3成份和/或0% 10. 0%的Gd2O3成份的各成份。(14)根據(jù)(1 所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量， 質(zhì)量和 103+L￡i203+Gd203 在 20. 0% 以下。(15)根據(jù)(1)至(14)的任何一項所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計還含有0^-40.0 ^^ SiA成份和/或0% 40. 0%的 B2O3成份和/或0 % 10. 0 %的GeR成份和/或0 % 10. 0 %的^O2成份和/或0 % 10. 0 %的ZnO成份和/或0 % 10. 0 %的Al2O3成份和/或0 % 10. 0 %的Ta2O5成份和/ 或0% 10.0%的(勸2成份的各成份。(16)根據(jù)(1)至(1 的任何一項所述的光學(xué)玻璃，其中，所述光學(xué)玻璃具有1. 70 以上且2. 20以下的折射率nd，具有10以上且40以下的阿貝數(shù)ν d，顯示70%光譜透過率的波長λ7(1在500nm以下。(17) 一種包括(1)至(16)任何一項所述的光學(xué)玻璃的光學(xué)器件。(18) 一種包括(1)至(16)任何一項所述的光學(xué)玻璃的精密壓制成形用預(yù)成形品。(19) 一種將(18)所述的精密沖壓成形用預(yù)成形品精密壓制成形而得的光學(xué)器件。(20) 一種玻璃成形體的制造方法，其中，使用(1)至(16)任何一項所述的光學(xué)玻璃，并在模具內(nèi)對軟化的所述光學(xué)玻璃進(jìn)行壓制成形。根據(jù)本發(fā)明，通過減少含有Nb2O5成分的光學(xué)玻璃中所含有的Sb2O3成分的含量，更加優(yōu)選調(diào)整光學(xué)玻璃中混入的Pt成分及!^e成分的含量，可獲得長時間紫外線照射所引起的光學(xué)玻璃的過度曝光降低了的光學(xué)玻璃以及抑制光譜透過率劣化的方法。
具體實施例方式在本發(fā)明的光學(xué)玻璃中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，以質(zhì)量百分比計含有合計在5. 0%以上40. 0%以下的選自由P2O5成分、S^2成分及B2O3成分組成的組中的一種以上的成分、以及10. 0%以上60. 0%以下的Nb2O5成分，過度曝光(在波長450nm下的光譜透過率的劣化量)在5.0%以下。通過減少光學(xué)玻璃中所含有的Sb2O3成分的含量， 玻璃的過度曝光會降低。由此，可得到抑制光譜透過率隨時間推移而劣化的光學(xué)玻璃及光學(xué)元件。下面，就本發(fā)明光學(xué)玻璃的實施方式作詳細(xì)說明。本發(fā)明并不限定于以下的實施方式，只要在本發(fā)明的目的范圍內(nèi)，可以加以適當(dāng)?shù)母淖兊貙嵤?。另外，對于說明出現(xiàn)重復(fù)的部分，有的地方適當(dāng)?shù)厥÷粤苏f明，但并不限制發(fā)明的宗旨。[光學(xué)玻璃]下面，就構(gòu)成本發(fā)明光學(xué)玻璃的各成分的組成范圍作說明。在本說明書中，如果沒有特別講明，各成分的含量全部都是指以質(zhì)量百分比來表示的相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量的含量。這里所說的“換算成氧化物組成”是在假定作為本發(fā)明的玻璃構(gòu)成成分的原料而使用的氧化物、復(fù)合鹽、金屬氟化物等在熔融時全部被分解而變?yōu)檠趸锏那闆r下、將該生成氧化物的總質(zhì)量作為以質(zhì)量計100%來表示玻璃中含有的各成分而得的組成。<含量應(yīng)受抑制的成分>首先，就本發(fā)明的光學(xué)玻璃中含量應(yīng)受抑制的成分作說明。Pt成分是制造光學(xué)玻璃時，從例如鉬坩堝等部件混入光學(xué)玻璃中的成分，是紫外線照射引起光學(xué)玻璃的過度曝光升高的一個原因。特別是，如果使光學(xué)玻璃的Pt成分含量在15ppm以下，過度曝光就容易降低，可很容易得到即便長期使用光譜透過率也難以變化的光學(xué)玻璃。因此，光學(xué)玻璃中Pt成分的含量的上限優(yōu)選15ppm，較優(yōu)選lOppm，更優(yōu)選 7ppm,最優(yōu)選5ppm。而另一方面，如果使Pt成分的含量大于Oppm，則比起完全不含Pt成分的情況，由于難以形成波筋，就可以難得到不能測定光譜透過率的玻璃，這樣就可得到具有希望的光譜透過率的玻璃。因此，光學(xué)玻璃的Pt成分的含量優(yōu)選大于0. lppm，較優(yōu)選大于 0. 5ppm,最優(yōu)選大于1. Oppm0這里，Pt成分是即使不含有Pt成分作為原料也會由于Pt成分從鉬坩堝等鉬部件溶出而包含在光學(xué)玻璃中的成分，所以，通過縮短在鉬坩堝中的玻璃的熔化時間或者降低玻璃的熔化溫度，可降低混入光學(xué)玻璃中的Pt成分的量。這時，除了抑制Pt成分的含量，同時還抑制下述SId2O3成分的含量，這樣可使光學(xué)玻璃的過度曝光變得更加容易降低。這個時候，通過使Sb2O3成分的含量大于0%，比起不含Sb2O3成分時，也可使過度曝光降低。!^e成分是在制造光學(xué)玻璃時，如作為光學(xué)玻璃原料中的雜質(zhì)而混入光學(xué)玻璃中的成分，是紫外線照射引起光學(xué)玻璃過度曝光升高的一個原因。特別是，通過使狗成分的含量在50ppm以下，能使過度曝光較易降低至5. 0%以下，這樣就可容易獲得即使長期使用光譜透過率也難發(fā)生變化的光學(xué)玻璃。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，狗成分的含量的上限優(yōu)選50ppm，較優(yōu)選lOppm，最優(yōu)選5ppm。關(guān)于!^e成分，通過例如選?。成分少的光學(xué)玻璃原料，可使其混入光學(xué)玻璃的量降低。另外，作為玻璃原料的雜質(zhì)，狗成分多為含0. Ippm以上，具體地說是0. 5ppm以上，更具體地說含Ippm以上。這時，除了抑制狗成分的含量，同時還抑制上述Pt成分及下述Sb2O3成分中的至少一種的含量，這樣可使光學(xué)玻璃的過度曝光變得比較容易降低。Sb2O3成分是熔化玻璃時具有脫氣效果的成分，是紫外線照射引起光學(xué)玻璃的過度曝光升高的一個原因。特別是，如果使Sb2O3成分的含量在0. 5%以下，過度曝光就容易降低至5. 0%以下，因此可容易得到即便長期使用光譜透過率也難以劣化的光學(xué)玻璃。而且， 因為變得容易從熔化的玻璃除去氣泡，所以，可減少將玻璃原料熔化到注入模具所需的時間。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，Sb2O3成分的含量的上限優(yōu)選0. 5%，較優(yōu)選0. 4%，最優(yōu)選不到0. 3%。Sb2O3成分的含量只要在這個范圍內(nèi)，技術(shù)上就沒有什么特別不利，而通過使Sb2O3成分的含量大于0%，與完全不含Sb2O3成分時相比，可使過度曝光降低。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，Sb2O3成分的含量優(yōu)選大于0. 001%, 較優(yōu)選大于0. 05 %，最優(yōu)選大于0. 01 %。Sb2O3成分可使用例如Sb2O3成分、Sb2O5成分、 Na2H2Sb2O7 · 5H20 等作為原料。<關(guān)于必要成分、任意成分>P2O5成分是玻璃的形成成分，是降低玻璃熔解溫度的成分，也是本發(fā)明的光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過將P2O5成分的含量降到40. 0%以下，可得到希望的高折射率， 同時不易使玻璃的磨損度低至規(guī)定以上，從而可提高研磨加工的加工效率。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，P2O5成分的含量上限優(yōu)選40. 0%，較優(yōu)選35. 0%，最優(yōu)選 32.0%o P2O5 成分可使用例如 Al (PO3) 3、Ca (PO3) 2、Ba (PO3) 2、BPO4、H3PO4 等作為原料。SiO2成分是一種不僅降低著色、提高對短波長可見光的透過率同時還促進(jìn)形成穩(wěn)定的玻璃、提高玻璃的耐脫?；缘某煞?，也是本發(fā)明的光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使SW2成分的含量在40.0%以下，能抑制由SiA成分引起的折射率降低，可較易達(dá)到希望的高折射率。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，SiO2成分的含量上限優(yōu)選 40.0%,較優(yōu)選30.0%,更優(yōu)選10.0%,最優(yōu)選5.0%。SiO2成分可使用例如SiO2、K2SiF6, Na2SiF6等作為原料而含在玻璃中。化03成分是一種促進(jìn)形成穩(wěn)定的玻璃、提高耐脫玻化性的成分，也是本發(fā)明的光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使化03成分的含量在40. 0%以下，能抑制折射率降低，容易得到希望的高折射率，同時可抑制平均線膨脹系數(shù)(α)增加。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，B2O3成分的含量的上限優(yōu)選40. 0%，較優(yōu)選30. 0%，更優(yōu)選10. 0%， 最優(yōu)選5. 0%。B2O3成分可使用例如H3B03、Na2B4O7^ Na2B4O7 · IOH2O, BPO4等作為原料而含在玻璃中。在本發(fā)明的光學(xué)玻璃中，優(yōu)選使選自由I32O5成分、SiO2成分及化03成分組成的組中的一種以上的成分的合計含量在5. 0%以上。由此，能提高玻璃在可見光區(qū)的透過率，同時不易使玻璃的磨損度高至規(guī)定以上，從而可降低由研磨加工引起的損傷的發(fā)生。而另一方面，通過使該合計含量在40. 0%以下，能達(dá)到希望的高折射率，同時使玻璃的磨損度難以降低規(guī)定以上，從而提高研磨加工的加工效率。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，選自由P2O5成分、SiO2成分及化03成分組成的組中的一種以上的成分的合計含量的下限優(yōu)選5.0%，較優(yōu)選7.0%，最優(yōu)選9. 0 % ；上限優(yōu)選40. 0 %，較優(yōu)選35.0%，最優(yōu)選32.0%。Nb2O5成分是提高玻璃折射率及分散的成分。特別是通過使Nb2O5成分的含量在 30.0%以上，可得到希望的高折射率及高分散。然而，Nb2O5成分本身是會使過度曝光升高的成分，所以，Nb2O5成分的含量優(yōu)選60. 0%以下。而且，通過使Nb2O5成分的含量在60. 0% 以下，可提高玻璃的穩(wěn)定性并提高耐脫?；?。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，Nb2O5成分的含量下限優(yōu)選30. 0%，較優(yōu)選35. 0%，最優(yōu)選37. 0%;上限優(yōu)選60.0%, 優(yōu)選55. 0%，更優(yōu)選50. 0%，最優(yōu)選不到49. 0%。Nb2O5成分可使用例如Nb2O5等作為原料而含在玻璃中。TiO2成分是提高玻璃的折射率及分散、并提高玻璃的化學(xué)耐久性的成分，也是本發(fā)明的光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使TW2成分的含量在45. 0%以下，可提高玻璃的穩(wěn)定性并提高耐脫?；?。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，TiO2成分的含量上限優(yōu)選45. 0 %，較優(yōu)選40. 0 %，最優(yōu)選30. 0 %。這里，從在獲得高折射率和分散的同時還能特別地提高玻璃對可見光的透明性的方面出發(fā)，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，TiO2成分的含量上限優(yōu)選25. 0%，較優(yōu)選22. 0%，最優(yōu)選20. 0 %。另外，如果不含 TiO2成分，雖可獲得過度曝光更加降低的光學(xué)玻璃，但通過使TiO2成分含5. 0%以上，能更加提高玻璃的折射率和分散，因此較易得到希望的高折射率和高分散。并且，因為能提高玻璃的耐酸性，所以可減少玻璃加工時的變色。因此，此時相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，TiO2成分的含量下限優(yōu)選5.0%，較優(yōu)選8.0%，最優(yōu)選10.0%。TiO2成分可使用例如TW2等作為原料而含在玻璃中。Bi2O3成分是升高玻璃的折射率并提高玻璃分散的成分，也是本發(fā)明的光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使Bi2O3成分的含量在20. 0%以下，可提高玻璃的穩(wěn)定性、抑制耐脫玻化性的降低，可抑制玻璃透過率的降低。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，Bi2O3成分的含量上限優(yōu)選20.0%，較優(yōu)選15.0%，最優(yōu)選10.0%。WO3成分是升高玻璃折射率并提高分散的成分，也是本發(fā)明光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使WO3成分的含量在20.0%以下，可提高玻璃的耐脫玻化性，同時可抑制玻璃對短波長可見光的透過率降低。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，WO3成分的含量上限優(yōu)選20. 0%，較優(yōu)選15. 0%，最優(yōu)選10. 0%。WO3成分可使用例如WO3等作為原料而含在玻璃中。在本發(fā)明的光學(xué)玻璃中，選自由P2O5成分、SiO2成分、化03成分、Nb2O5成分、TiO2 成分、Bi2O3成分及WO3成分組成的組的一種以上的成分的含量的質(zhì)量和優(yōu)選50. 0%以上 95.0%以下。特別是通過該質(zhì)量和在50.0%以上，能提高玻璃的分散，所以，可容易獲得希望的高分散的光學(xué)玻璃。另一方面，通過該質(zhì)量和在95. 0%以下，玻璃的液相溫度會變低， 可更加提高玻璃的耐脫玻化性。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，選自由P2O5 成分、SW2成分、B2O3成分、Nb2O5成分、TW2成分、Bi2O3成分及WO3成分組成的組的一種以上的成分的含量的質(zhì)量和的下限優(yōu)選50. 0%，較優(yōu)選60. 0%，更優(yōu)選65. 0%，最優(yōu)選72. 0%; 上限優(yōu)選95.0%，較優(yōu)選92.0%，最優(yōu)選91.0%。Li2O成分是降低玻璃熔解溫度的成分，同時也是提高玻璃形成時的耐脫?；缘某煞?，也是本發(fā)明光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使Li2O成分的含量在20. 0%以下， 可較易得到希望的高折射率，抑制平均線膨脹系數(shù)(α)增加、提高玻璃穩(wěn)定性并減少脫玻化等的發(fā)生。并且，過度曝光變得難以升高，所以，可容易獲得過度曝光降低的光學(xué)玻璃。 因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，Li2O成分的含量上限優(yōu)選20.0%，較優(yōu)選 15. 0%，最優(yōu)選10.0%o Li2O成分可使用例如Li2C03、LiN03、LiF等而含在玻璃中。Na2O成分是降低玻璃熔解溫度的成分，同時也是提高玻璃形成時的耐脫?；缘某煞?，也是本發(fā)明光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使Na2O成分的含量在35.0%以下，可容易得到希望的高折射率，提高玻璃穩(wěn)定性并降低脫玻化等的發(fā)生。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，Na2O成分的含量上限優(yōu)選35. 0%，較優(yōu)選30. 0%，最優(yōu)選25. 0%。 另外，雖然不含Na2O成分也可獲得具備所希望特性的光學(xué)玻璃，但如果含有0. 1 %以上的 Na2O成分，玻璃的液相溫度就會變低，這樣可更加提高玻璃的耐脫玻化性。因此，此時相對于換算成氧化物組成的玻璃總物質(zhì)量，Na2O成分的含量下限優(yōu)選0. 1%，較優(yōu)選0. 5%，最優(yōu)選1. 0%。Na2O成分可使用例如Na2C03、NaNO3> NaF, Na2SiF6等作為原料而含在玻璃中。K2O成分是降低玻璃熔解溫度的成分，同時也是提高玻璃形成時的耐脫?；缘某煞郑彩潜景l(fā)明光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使K2O成分的含量在20. 0%以下， 可容易得到希望的高折射率、增強(qiáng)玻璃穩(wěn)定性并降低脫?；鹊陌l(fā)生。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，K2O成分的含量上限優(yōu)選20. 0%，較優(yōu)選10. 0%，最優(yōu)選5. 0%。 K2O成分可使用例如K2C03、KNO3> KF、KHF2, K2SiF6等作為原料而含在玻璃中。Cs2O成分是降低玻璃熔解溫度的成分，同時也是提高玻璃形成時的耐脫玻化性的成分，也是本發(fā)明光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使Cs2O成分的含量在10.0%以下， 可容易得到希望的高折射率，增強(qiáng)玻璃穩(wěn)定性并降低脫?；鹊陌l(fā)生。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，Cs2O成分的含量上限優(yōu)選10. 0%，較優(yōu)選8. 0%，最優(yōu)選5. 0%。 Cs2O成分可使用例如Cs2C03、CsNO3等作為原料而含在玻璃中。在本發(fā)明的光學(xué)玻璃中，Rn2O成分(分子式中的1 是選自由Li、Na、K及Cs組成的組的一種以上)的含量的質(zhì)量和優(yōu)選35.0%以下。由此，能抑制玻璃折射率降低，所以， 可容易獲得希望的高折射率。而且，玻璃穩(wěn)定性提高了，可降低耐脫玻化等的發(fā)生。因此， 相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，Rn2O成分的含量的質(zhì)量和的上限優(yōu)選35. 0%，較優(yōu)選30. 0 %，最優(yōu)選25.0%。另外，雖然不含任何I^n2O成分也可獲得過度曝光降低了的光學(xué)玻璃，但是，如果至少含有某一種I^n2O成分，則玻璃的液相溫度會降低，可更加提高玻璃的耐脫?；?。因此，此時相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，I^n2O成分的含量的質(zhì)量和的下限優(yōu)選0. 1%，較優(yōu)選1.0%，最優(yōu)選3.0%。并且，在本發(fā)明的光學(xué)玻璃中，Na2O成分的含量相對于I^n2O成分含量的比例優(yōu)選大于0小于1。特別是通過使Na2CVfoi2O大于0，則由于可帶來由含有Na2O成分所產(chǎn)生的作用，所以會使玻璃的液相溫度降低，可更加提高玻璃的耐脫?；浴６硪环矫?，通過使 Na20/Rn20小于1，能有效含有I^n2O成分中的兩種以上的成分，降低光學(xué)玻璃的玻璃轉(zhuǎn)移點(diǎn) (Tg)，這樣就可降低壓制成形溫度。也就是說，可更加減少進(jìn)行壓制成形后表面的凹凸和模糊。而且，通過使Na2CVfoi2O小于1，能更加提高光學(xué)玻璃的耐脫玻化性，因此可更穩(wěn)定地制作具有希望的光學(xué)特性的光學(xué)玻璃。因此，換算成氧化物組成的質(zhì)量比Na2CVfoi2O的下限優(yōu)選大于0，較優(yōu)選0. 1，最優(yōu)選0. 2 ；而換算成氧化物組成的質(zhì)量比Na2CVfoi2O的上限優(yōu)選小于1，較優(yōu)選0. 98，最優(yōu)選0. 96。MgO成分是降低玻璃的液相溫度、提高玻璃的耐脫?；缘某煞?，也是本發(fā)明的光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使MgO成分的含量在5.0%以下，可容易得到希望的高折射率和高分散。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，MgO成分的含量上限優(yōu)選 5.0%,較優(yōu)選4. 0%，最優(yōu)選3. 0%。MgO成分可使用例如MgC03、MgF2等作為原料而含在玻璃中。CaO成分是降低玻璃的液相溫度、提高玻璃的耐脫?；缘某煞郑彩潜景l(fā)明的光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使CaO成分的含量在10.0%以下，可容易得到希望的高折射率和高分散，抑制耐脫?；院突瘜W(xué)耐久性的降低。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，CaO成分的含量上限優(yōu)選10. 0%，較優(yōu)選8. 0%，最優(yōu)選6. 0%。CaO成分可使用例如CaC03、CaF2等作為原料而含在玻璃中。SrO成分是降低玻璃的液相溫度、提高玻璃的耐脫?；缘某煞?，也是玻璃中的任意成分。特別是通過使SrO成分的含量在10.0%以下，可容易得到希望的高折射率和高分散，抑制耐脫玻化性和化學(xué)耐久性的降低。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，SrO成分的含量上限優(yōu)選10.0%，較優(yōu)選8.0%，最優(yōu)選5.0%。SrO成分可使用例如 Sr (NO3) 2、SrF2等作為原料而含在玻璃中。BaO成分是提高玻璃的折射率并提高耐脫?；缘某煞?，也是本發(fā)明的光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使BaO成分的含量在20.0%以下，可容易得到希望的高折射率，抑制耐脫?；院突瘜W(xué)耐久性降低，抑制平均線膨脹系數(shù)(α)增加。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，BaO成分的含量上限優(yōu)選20.0%，較優(yōu)選18.0%，最優(yōu)選 15.0%。在此，特別是在能得到分散大(阿貝數(shù)小)的玻璃這一點(diǎn)，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，BaO成分的含量上限優(yōu)選13. 0%，較優(yōu)選12. 0%，最好不到10. 0%。BaO 成分可使用例如BaC03、Ba (NO3) 2和BaF2等作為原料而含在玻璃中。在本發(fā)明的光學(xué)玻璃中，RO成分(式中，R是選自由Mg、Ca、Sr、Ba組成的組的一種以上)的含量的質(zhì)量和優(yōu)選20.0%以下。由此，因RO成分引起的折射率及分散的降低能受到抑制，可容易獲得希望的高折射率及高分散。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，RO成分的含量的質(zhì)量和上限優(yōu)選20. 0%，較優(yōu)選17. 0%，最優(yōu)選15. 0%。IO3成分是提高玻璃折射率、同時提高玻璃的化學(xué)耐久性的成分，也是本發(fā)明的光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使IO3成分的含量在10.0%以下，可容易得到希望的高分散，還可提高玻璃的耐脫?；浴Ｒ虼?，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，IO3成分的含量上限優(yōu)選10. 0%，較優(yōu)選8. 0%，最優(yōu)選5.0%o Y2O3成分可使用例如Y2O3 > YF3等作為原料而含在玻璃中。La2O3成分是提高玻璃折射率、同時提高玻璃的化學(xué)耐久性的成分，也是本發(fā)明的光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使La2O3成分的含量在10. 0%以下，可容易得到希望的高分散，還可提高玻璃的耐脫?；?。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，La2O3 成分的含量上限優(yōu)選10. 0 %，較優(yōu)選8. 0 %，最優(yōu)選5. 0 %。La2O3成分可使用例如La203、 La(NO3)3 · XH2O (X表示任意整數(shù))等作為原料而含在玻璃中。Gd2O3成分是提高玻璃折射率、同時提高玻璃的化學(xué)耐久性的成分，也是本發(fā)明的光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使Gd2O3成分的含量在10. 0%以下，可容易得到希望的高分散，還可提高玻璃的耐脫?；?。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，Gd2O3 成分的含量上限優(yōu)選10. 0 %，較優(yōu)選8. 0 %，最優(yōu)選5. 0 %。Gd2O3成分可使用例如Gd203、GdF3等作為原料而含在玻璃中。在本發(fā)明的光學(xué)玻璃中，Ln2O3成分(式中，Ln是選自由Y、La、Gd組成的組的一種以上)的含量的質(zhì)量和優(yōu)選20.0%以下。通過使該質(zhì)量和在20.0%以下，能抑制因Ln2O3 成分引起的阿貝數(shù)的升高，所以可容易得到希望的高分散。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，Ln2O3成分的含量的質(zhì)量和上限優(yōu)選20. 0%，較優(yōu)選18. 0%，最優(yōu)選15. 0%oGeO2成分是在提高玻璃折射率的同時促進(jìn)穩(wěn)定的玻璃形成并提高玻璃的耐脫玻化性的成分，也是本發(fā)明的光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使GeO2成分的含量在 10.0%以下，可降低玻璃的原材料成本。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量， GeO2成分的含量上限優(yōu)選10. 0%，較優(yōu)選8. 0%，最優(yōu)選5. 0%。成分可使用例如等作為原料而含在玻璃中。成分是在降低著色、提高對短波長可見光的透過率同時促進(jìn)穩(wěn)定的玻璃形成并提高玻璃的耐脫玻化性的成分，也是本發(fā)明光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使成分的含量在10. 0%以下，能抑制因^O2成分引起的折射率降低，可容易得到希望的高折射率。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，ZiO2成分的含量上限優(yōu)選10. 0%，較優(yōu)選8. 0%，最優(yōu)選5. 0%。^O2成分可使用例如&02、ZrF4等作為原料而含在玻璃中。ZnO成分是降低玻璃的液相溫度、提高玻璃的耐脫?；缘某煞郑彩潜景l(fā)明光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使ZnO成分的含量在10.0%以下，可容易得到希望的高折射率及高分散。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，ZnO成分的含量上限優(yōu)選 10. 0%，較優(yōu)選8. 0%，最優(yōu)選5. 0%。ZnO成分可使用例如SiO、ZnF2等為原料而含在玻璃中。Al2O3成分是提高玻璃的化學(xué)耐久性和玻璃熔化時的粘度的成分，也是本發(fā)明光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使Al2O3成分的含量在10.0%以下，可以提高玻璃的熔化性，并抑制平均線膨脹系數(shù)(α)的增加，可減弱玻璃的脫玻化趨勢。因此相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，Al2O3成分的含量上限優(yōu)選10. 0%，較優(yōu)選8. 0%，最優(yōu)選5. 0%。 Al2O3成分可使用例如A1203、Al (OH) 3、AlF3等作為原料而含在玻璃中。Ta2O5成分是提高玻璃折射率的成分，也是本發(fā)明光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使Ta2O5成分的含量在10.0%以下，可使玻璃難以脫?；?。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，Ta2O5成分的含量上限優(yōu)選10. 0%，較優(yōu)選8. 0%，最優(yōu)選4. 0%。Tii2O5 成分可使用例如Ta2O5等作為原料而含在玻璃中。CeO2成分是調(diào)整玻璃的光學(xué)常數(shù)的成分，也是本發(fā)明光學(xué)玻璃中的任意成分。特別是通過使CeO2成分的含量在10.0%以下，可降低玻璃著色。因此，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，CeO2成分的含量上限優(yōu)選10.0%，較優(yōu)選5.0%，更優(yōu)選1.0%。CeO2 成分可使用例如( 等作為原料而含在玻璃中。使玻璃清澈并脫泡的成分不僅限于上述Sb2O3成分和( 成分，可使用在玻璃制造領(lǐng)域公知的澄清劑和脫泡劑或者它們的組合?！床辉摵械某煞帧迪旅妫f明本發(fā)明光學(xué)玻璃中不該含有的成分及不優(yōu)選含有的成分。在本發(fā)明的光學(xué)玻璃中可根據(jù)需要在不損害玻璃特性的范圍內(nèi)添加其他成分。然而，對于船、0、1111、(0、附、48丄6、01、11、￥及1 11各成分，哪怕只含有少量的這些成分中的一種以上的成分，過度曝光都會變大，所以優(yōu)選要降低這些成分的含量。因此，從使過度曝光更降低的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選在能獲得希望的玻璃折射率及分散的范圍內(nèi)降低T^2 成分。因此，從進(jìn)一步降低過度曝光的觀點(diǎn)來看，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量， TiO2成分的含量上限優(yōu)選15. 0%，較優(yōu)選10. 0%，最優(yōu)選5.0%。并且，Mo、Cr、Mn、Co、Ni、 As、Ce、Cu、V及Ru各成分的含量，除了作為玻璃原料的雜質(zhì)而含有的，優(yōu)選不含這些成分。 因此，光學(xué)玻璃中的Mo、Cr、Mn、Co、Ni、As、Ce、Cu、V及Ru各成分的合計量上限優(yōu)選15ppm， 較優(yōu)選lOppm，最優(yōu)選7ppm。然而，除了上述Ti、Zr、Nb以外，對于V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Ag及Mo等各過渡金屬成分，即使分別單獨(dú)或復(fù)合含有少量的這些過渡金屬成分，玻璃也會著色，從而具有在可見光區(qū)域的特定波長處產(chǎn)生吸收的性質(zhì)，因此，對于使用可見光區(qū)域的波長的光學(xué)玻璃，優(yōu)選基本上不含有這些成分。另外，本發(fā)明中的“基本上不含有”是指除了作為玻璃原料的雜質(zhì)而含有的部分之外不要含有。而且，對于PbO等鉛化合物及As203等砷化合物以及Th、Cd、Tl、Os、Be、Se各成分，近年被作為有害的化學(xué)物質(zhì)而有控制其使用的趨勢，不僅在玻璃的制造工序，在加工工序以至于制成成品后的處理上，都必須采取環(huán)保措施。因此，如果重視在環(huán)境上的影響，則除了不可避免的混入外，優(yōu)選基本上不含有這些成分。由此，光學(xué)玻璃中基本上就不含有污染環(huán)境的物質(zhì)了。因此，即便不采取特別的環(huán)境保護(hù)措施，也可制造、加工及廢棄這種光學(xué)玻璃。對于作為本發(fā)明光學(xué)玻璃而優(yōu)選使用的玻璃，由于其組成是用相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量的質(zhì)量百分比來表示的，所以并非直接用摩爾百分比的形式來表示， 但對于滿足在本發(fā)明中所要求的各特性的玻璃組合物中存在的各成分，其基于摩爾百分比表示的組成在換算成氧化物組成時大致取以下的值。P2O5 成分 5. Omol % 40. Omol %及
Nb2O5 成分 5. Omol% 30. 0% mol%
以及
TiO2成分Omol % -60. Omo 禾口/或
Bi2O3 成分 Omol一 8. Omol %禾口,/或
WO3成分Omol % 15. Omol %禾口 /或
LiO2成分Omol % -50. Omo 禾口/或
Nei2O 成分 Omol % -50. Omo 禾口/或
K2O成分Omol % 30. Omo 禾口 /或
C&0成分Omol% -5. Omol %禾口 /或
MgO成分Omol % 20. Omo 禾口 //或
CaO成分Omol % 30. Omo 禾口 //或
SrO成分Omol % 15. Omol %禾口 //或
BaO成分Omol % 20. Omo 禾口 //或
IO3成分Omol % 5. Omol %禾口 /或
Lei2O3 成分 Omol一 5. Omol %禾口 ,/或
Gd2O3 成分 OmoH-4. Omol %禾口 ,/或
SiO2 成分 Omol % 50. Omol %和 / 或化03成分 Omol% 45. Omol%和 / 或GeO2 成分 Omol % 15. Omol %和 / 或成分 Omol% 10. Omol%和 / 或ZnO 成分 Omol % 20. Omol %和 / 或Al2O3 成分 Omol % 15. Omol %和 / 或Tei2O5 成分 Omol % 3. Omol %和 / 或CeO2 成分 Omol % 3. Omol %〈物性〉本發(fā)明光學(xué)玻璃的過度曝光優(yōu)選5.0%以下。這樣，裝入了光學(xué)玻璃的設(shè)備即使經(jīng)長期使用色彩平衡也難以變差。特別是由于使用溫度越高則過度曝光降低越多，所以，在車載用等在高溫下使用時，本發(fā)明的光學(xué)玻璃特別有效。因此，本發(fā)明光學(xué)玻璃的過度曝光上限優(yōu)選5. O %，較優(yōu)選4. 8 %，最優(yōu)選4. 5 %。另外，本說明書中的“過度曝光”是表示玻璃受紫外線照射時在450nm的光譜透過率的劣化量，具體根據(jù)日本光學(xué)硝子工業(yè)協(xié)會標(biāo)準(zhǔn) J0GIS04-1994 “光學(xué)玻璃的過度曝光的測定方法”，通過分別測定用高壓水銀燈的光照射前后的光譜透過率來求得。并且，本發(fā)明的光學(xué)玻璃不僅要有高折射率(nd)，同時還需要具有高分散。特別是本發(fā)明光學(xué)玻璃的折射率( )下限優(yōu)選1.70，較優(yōu)選1.75，最優(yōu)選1.80。并且，本發(fā)明的光學(xué)玻璃的阿貝數(shù)(vd)上限優(yōu)選40，較優(yōu)選30，最優(yōu)選25。這樣，光學(xué)設(shè)計的自由度變大， 即便進(jìn)一步謀求元件的薄型化也可獲得高的光折射率。對本發(fā)明光學(xué)玻璃的折射率(nd)的上限不作特別限定，根據(jù)本發(fā)明所得的玻璃的折射率(nd)大約在2. 20以下，具體是在2. 15 以下，再具體地說多在2. 10以下。并且，對本發(fā)明光學(xué)玻璃的阿貝數(shù)(Vd)的下限也不作特別限定，根據(jù)本發(fā)明所得的玻璃的阿貝數(shù)(vd)大約在10以上，具體是在12以上，再具體說多在15以上。并且，本發(fā)明的光學(xué)玻璃優(yōu)選著色少的。特別是，本發(fā)明的光學(xué)玻璃如果用玻璃的透過率表示，以厚度IOmm的樣品來說，呈現(xiàn)70%光譜透過率的波長(λ 70)優(yōu)選500nm以下， 較優(yōu)選480nm以下，最優(yōu)選460nm以下。這樣，玻璃的吸收端處在紫外區(qū)域附近，能提高可見光區(qū)的玻璃透明性，因此，可將該光學(xué)玻璃作為透鏡等光學(xué)元件的材料來使用。[玻璃及玻璃成形體的制造]本發(fā)明的光學(xué)玻璃例如是如下地制造的。也就是說，將原料混合均勻，使各成分在規(guī)定含量的范圍內(nèi)，根據(jù)需要將制好的混合物投入石英坩堝或氧化鋁坩堝進(jìn)行粗熔化后， 投入由石英、鉬、鉬合金及銥之中的一種以上制成的坩堝中，在規(guī)定溫度范圍內(nèi)按規(guī)定時間熔化，在攪拌勻質(zhì)化并去除氣泡等后，降低熔化玻璃的溫度，將其注入模具，通過慢慢冷卻， 就制成了光學(xué)玻璃。這里，從能均勻加熱熔化的玻璃的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使用與熔化的玻璃接觸的部分中至少有一部分使用了鉬的坩堝(鉬坩堝)來熔化材料，然而Pt成分卻容易從鉬坩堝溶出至玻璃中。因此，特別是在使用鉬坩堝時，為了使Pt成分向玻璃的溶出降低至上述范圍內(nèi)，玻璃在鉬坩堝內(nèi)存積時的熔化玻璃的最高溫度上限優(yōu)選1350°c，較優(yōu)選 1300°C，更優(yōu)選1200°C，最優(yōu)選1100°C。而且，熔化玻璃存積在鉬坩堝內(nèi)的時間優(yōu)選10小時，較優(yōu)選8小時，最優(yōu)選5小時。熔化玻璃的溫度是指用于熔化玻璃的坩堝的上部的熔化玻璃的溫度與熔化玻璃的坩堝的下部的熔化玻璃的溫度的平均，該平均可通過例如設(shè)置在用于熔化玻璃的坩堝的內(nèi)部和壁面上的熱電偶來求得。用例如再加熱壓制成形或精密壓制成形等方法，可以由制成的光學(xué)玻璃制造玻璃成形體。也就是說，可以由光學(xué)玻璃制作用于模具壓制成形的透鏡毛坯，對該透鏡毛坯進(jìn)行再加熱壓制成形后，進(jìn)行研磨加工，制成玻璃成形體，或例如先進(jìn)行研磨加工，對制成的透鏡毛坯進(jìn)行精密壓制成形而制成玻璃成形體。另外，制造壓制成形體的方法不僅限于這些方法。這樣制成的玻璃成形體對各種光學(xué)元件都有用，其中，特別優(yōu)選用于透鏡和棱鏡等光學(xué)元件用途。由此能抑制光學(xué)元件的光譜透過率隨時間推移而劣化，即使長期使用，光學(xué)元件的色彩平衡也不易變差。[實施例]本發(fā)明的實施例(No. 1 No. 12)和比較例(No. 1)的組成以及這些玻璃的Pt成分和狗成分的濃度、折射率(nd)、阿貝數(shù)(vd)、光照射前后波長450nm的光譜透過率、過度曝光及呈現(xiàn)70%光譜透過率的波長(λ7(ι)如表1和表2所示。而且，下面的實施例完全是以舉例說明為目的，并不僅限于這些實施例。對于本發(fā)明的實施例(No. 1 No. 12)的光學(xué)玻璃和比較例(No. 1)的光學(xué)玻璃， 作為其各成分的原料，都是從各相當(dāng)?shù)难趸?、氫氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽、氟化物、氫氧化物、偏磷酸化合物等通常被用于光學(xué)玻璃的高純度原料中選定。為了達(dá)到表1和表2所示的各實施例及比較例的組成比例，先稱量再混合均勻，然后投入與熔化玻璃接觸的部分是石英及鉬形成的坩堝(石英·鉬坩堝)。這里，就實施例(No. 1 No. 5)和比較例(No. 1) 來說，是按照玻璃組成的熔化難易度，用電爐在1000°C 1300°C溫度范圍內(nèi)熔化，在攪拌勻質(zhì)化并去除氣泡等后，將溫度降至KKKTC 1250°C，在攪拌勻質(zhì)化后，注入模具，慢慢冷卻，制成玻璃。另一方面，就本發(fā)明的實施例(No. 6 No. 12)來說，是按照玻璃組成的熔化難易度，用電爐在1200°C 1350°C溫度范圍內(nèi)熔解2小時至4小時，在攪拌勻質(zhì)化并除掉氣泡等后，將溫度降至1100°C 1200°C，在攪拌勻質(zhì)化后，注入模具，慢慢冷卻，制成玻璃。 在此，在本發(fā)明的實施例(No. 1 No. 12)中，從將玻璃原料在石英 鉬坩堝中熔解到注入模具所需要的時間是2小時至30小時。而本發(fā)明的比較例(No. 1)中，從將玻璃原料投入與實施例(No. 1 No. 12)相同的石英·鉬坩堝中熔解到注入模具所需要的時間是30小時。在此，對于實施例(No. 1 No. 12)的光學(xué)玻璃和比較例(No. 1)的玻璃的Pt成分和狗成分的含量，是將具有實施例和比較例的組成的玻璃制成粉末狀，并進(jìn)行酸處理，用 ICP發(fā)射光譜儀(日本精工電子(Seiko instruments)有限公司生產(chǎn)Vista-PRO)對該通過酸處理而得的溶液進(jìn)行測定。并且，對于實施例(No. 1 No. 12)的光學(xué)玻璃和比較例(No. 1)的玻璃的過度曝光，是根據(jù)日本光學(xué)硝子工業(yè)協(xié)會標(biāo)準(zhǔn)J0GIS04-1994 “光學(xué)玻璃的過度曝光的測定方法”， 測定光照射前后的波長450nm的光透過率的變化(％ )。這里，光的照射是通過將光學(xué)玻璃樣品加熱到100°C并用超高壓水銀燈照射4小時波長450nm的光來進(jìn)行。并且，實施例(No. 1 No. 12)的光學(xué)玻璃和比較例(No. 1)的玻璃的折射率(nd) 及阿貝數(shù)(vd)，是根據(jù)日本光學(xué)硝子工業(yè)協(xié)會標(biāo)準(zhǔn)J0GIS01-2003測定的。另外，作為本測定所使用的玻璃，使用的是以慢慢冷卻降溫速度為_25°C /h為退火條件而在徐冷爐內(nèi)進(jìn)行了處理的玻璃。并且，對于實施例(No. 1 No. 12)和比較例(No. 1)的玻璃的透過率，是根據(jù)日本光學(xué)硝子工業(yè)協(xié)會標(biāo)準(zhǔn)J0GIS02測定的。另外，在本發(fā)明中，通過測定玻璃的透過率來獲知玻璃著色的有無及程度。具體而言，是根據(jù)JISZ8722標(biāo)準(zhǔn)對厚度IOmm士0. Imm的對面平行研磨品測定200nm SOOnm的光譜透過率，求得λ 7(1(透過率70%時的波長)。[表1]
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計含有合計為5. 0%以上且40. 0%以下的選自由P2O5成份、SW2成份和化03成份組成的組中的一種以上的成份、以及10. 0%以上且60. 0%以下的Nb2O5成份，過度曝光即在波長450nm下的光譜透過率的劣化量在5. 0%以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃，其中，Pt成份的含量在15ppm以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，F(xiàn)e 成份的含量在50ppm以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃，其中，以對以氧化物為標(biāo)準(zhǔn)的質(zhì)量的外比例質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計，Sb2O3成份不到以質(zhì)量計0. 5%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計還含有5. 0%以上且45. 0%以下的TW2成份。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計還含有0^-20.0 ^^ Bi2O3成份和/或0% 20. 0%的WO3成份的各成份。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，質(zhì)量和 P205+SiA+B203+Nb205+TiA+Bi203+W03 在 50. 0% 以上且 95. 0% 以下。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量， 以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計還含有0 % 20. 0 %的Li2O成份和/或0 % 35. 0 %的Na2O成份和/或 0% 20. 0%的K2O成份和/或0% 10.0%的Cs2O成份的各成份。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，質(zhì)量和 Li20+N￡i20+K20+Cs20 在 35. 0% 以下。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)玻璃，其中，含有I^n2O成份中至少一種作為必要成份， 且Na2OAn2O的換算成氧化物組成的質(zhì)量比大于0且小于1，其中，1 是選自由Li、Na、K和 Cs組成的組中的一種以上的元素。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量， 以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計還含有0 % 5. 0 %的MgO成份和/或0 % 10. 0 %的CaO成份和/或 0 % 10. 0 %的SrO成份和/或0 % 20. 0 %的BaO成份的各成份。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量， 質(zhì)量和 MgO+CaO+SrO+BaO 在 20. 0% 以下。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量， 以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計還含有O^-lO.O^m AO3成份和/或0% 10. 0%的La2O3成份和/或 O^-lO.O^m Gd2O3成份的各成份。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量， 質(zhì)量和 103+L￡i203+Gd203 在 20. 0% 以下。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃，其中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量， 以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計還含有0% 40. 0%的SW2成份和/或0% 40. 0%的化03成份和/或 0 % 10. 0 %的Geh成份和/或0 % 10. 0 %的^O2成份和/或0 % 10. 0 %的SiO成份和/或0% 10. 0%的Al2O3成份和/或0% 10. 0%的Ta2O5成份和/或0% 10.0% 的( 成份的各成份。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃，其中，所述光學(xué)玻璃具有1.70以上且2.20以下的折射率nd，具有10以上且40以下的阿貝數(shù)vd，顯示70%光譜透過率的波長λ 7(1在 500nm以下。
17.—種包括權(quán)利要求1至16中任一項所述的光學(xué)玻璃的光學(xué)器件。
18.—種包括權(quán)利要求1至16中任一項所述的光學(xué)玻璃的精密壓制成形用預(yù)成形品。
19.一種將權(quán)利要求18所述的精密沖壓成形用預(yù)成形品精密壓制成形而得的光學(xué)器件。
20.一種玻璃成形體制造方法，其中，使用權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃，并在模具內(nèi)對軟化的所述光學(xué)玻璃進(jìn)行壓制成形。
全文摘要
本發(fā)明提供了光譜透過率隨時間推移的劣化被抑制了的光學(xué)玻璃、包括該光學(xué)玻璃的光學(xué)器件以及玻璃成形體制造方法。在該光學(xué)玻璃中，相對于換算成氧化物組成的玻璃總質(zhì)量，以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計含有合計為5.0％以上且40.0％以下的選自由P2O5成份、SiO2成份和B2O3成份組成的組中的一種以上的成份、以及10.0％以上且60.0％以下的Nb2O5成份，過度曝光即在波長450nm下的光譜透過率的劣化量在5.0％以下。上述玻璃成形體制造方法使用該光學(xué)玻璃，并在模具內(nèi)對軟化的所述光學(xué)玻璃進(jìn)行壓制成形。
文檔編號G02B1/00GK102241478SQ201110088659
公開日2011年11月16日 申請日期2011年4月8日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月9日
發(fā)明者土淵菜那, 荻野道子 申請人:株式會社小原