專利名稱：正型放射線敏感性組合物、層間絕緣膜及其形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及正型放射線敏感性組合物、由該組合物形成的層間絕緣膜以及該層間絕緣膜的形成方法，該正型放射線敏感性組合物適合作為形成液晶顯示元件(LCD)、有機(jī) EL顯示元件(OLED)等顯示元件的層間絕緣膜的材料。
背景技術(shù)：
在顯示元件中一般基于使層狀地配置的布線間絕緣的目的而設(shè)置層間絕緣膜。作為層間絕緣膜的形成材料廣泛使用正型放射線敏感性組合物，這是因?yàn)榈玫奖匾膱D案形狀的工序數(shù)少，而且具有足夠平整性是優(yōu)選的。形成這種層間絕緣膜時(shí)使用的正型放射線敏感性組合物要求良好的放射線靈敏度和保存穩(wěn)定性，得到的層間絕緣膜要求優(yōu)異的耐熱性和透明性等。作為上述正型放射線敏感性組合物的成分廣泛采用丙烯酸類樹脂，例如在日本特開2004-4669號(hào)公報(bào)中提出了一種正型化學(xué)增幅抗蝕劑組合物，其特征在于具有交聯(lián)劑、 酸產(chǎn)生劑及一種樹脂，該樹脂本身是不溶或難溶于堿水溶液，但是具有能夠由于酸的作用裂解的保護(hù)基團(tuán)，該保護(hù)基團(tuán)斷裂后，能溶于堿水溶液。但是，由該組合物得到的絕緣膜密合性不足，無法滿足制造高品質(zhì)的液晶顯示元件的要求。另外，在日本特開2004-264623號(hào)公報(bào)中提出了一種放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于含有樹脂和酸產(chǎn)生劑，該樹脂含有縮醛和/或縮酮結(jié)構(gòu)以及環(huán)氧基，但是該組合物的放射線靈敏度低，無法滿足要求。另外，隨著近年來的大畫面電視的普及，其制造時(shí)使用的玻璃基板的尺寸也大型化。因此，目前在層間絕緣膜形成工序中采用的旋涂法，難以往大型基板上涂布放射線敏感性組合物。因此，可以采用從狹縫狀的噴嘴噴出放射線敏感性組合物、在玻璃基板上涂布的狹縫涂敷法來代替這種旋涂法。在狹縫涂布法中，具體地是通過真空吸附使基板密合到涂布臺(tái)上后，涂布噴嘴在一定方向上掃過，在基板上形成涂膜，形成涂膜后，通過使收納在真空吸附用孔中的支撐栓上升，基板從涂布臺(tái)被舉起，輸送到之后的工序。這種狹縫涂敷法與旋涂法相比，可以減少涂敷所需要的放射線敏感性組合物的量，同時(shí)可以邊噴出放射線敏感性組合物邊在一定方向上掃過，進(jìn)行涂布，所以還可以縮短涂布時(shí)間，有助于削減顯示元件的制造成本。然而，在這一系列的工序中，有可能在涂布時(shí)產(chǎn)生涂布不勻，或者在涂膜上產(chǎn)生由于真空吸附的孔引起的微細(xì)的凹凸形成的不勻，由于以上原因，成為實(shí)現(xiàn)作為層間絕緣膜的性質(zhì)所要求的高度平整性的障礙。在這種情況下，強(qiáng)烈希望開發(fā)出一種正型放射線敏感性組合物，該組合物可以形成作為層間絕緣膜一般要求的耐熱性和透明性優(yōu)異，而且具有沒有涂布不勻的高度平整性 (膜厚均勻性)的固化膜，而且該組合物可以高速涂布，具有高放射線靈敏度。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1日本特開2004-4669號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2日本特開2004-264623號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是基于上述問題提出的，其目的在于提供一種正型放射線敏感性組合物， 以及提供由該組合物形成的層間絕緣膜、以及該層間絕緣膜的形成方法，該組合物可以形成具有優(yōu)異的耐熱性和透明性，且具有沒有涂布不勻的高度平整性(膜厚均勻性)的層間絕緣膜，而且該組合物可以高速涂布，具有很高的放射線靈敏度。為了解決上述問題而提出的本發(fā)明是一種正型放射線敏感性組合物，其含有[A]在同一或不同的聚合物分子中具有包含下述式(1)所示的基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元和含環(huán)氧基的結(jié)構(gòu)單元的聚合物，[B]光酸產(chǎn)生劑，以及[C]包含具有氟的結(jié)構(gòu)單元和具有硅的結(jié)構(gòu)單元的共聚物。進(jìn)而是一種正型放射線敏感性組合物，其包含的[C]共聚物是至少具有來自下述化合物的結(jié)構(gòu)單元的共聚物(cl)下述式⑵所示的聚合性化合物，(c2)下述式C3)所示的聚合性化合物，以及(c3)具有下述式(4)所示的基團(tuán)的聚合性化合物。
權(quán)利要求
1.一種正型放射線敏感性組合物，該組合物包含[A]在同一或不同的聚合物分子中具有包含下述式(1)所示的基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元和含環(huán)氧基的結(jié)構(gòu)單元的聚合物，[B]光酸產(chǎn)生劑，以及[C]包含具有氟的結(jié)構(gòu)單元和具有硅的結(jié)構(gòu)單元的共聚物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所記載的正型放射線敏感性組合物，其中[C]共聚物是至少具有來自下述聚合性化合物的結(jié)構(gòu)單元的共聚物，(cl)下述式( 所示的聚合性化合物，(c2)下述式C3)所示的聚合性化合物，以及(c3)具有下述式(4)所示的基團(tuán)的聚合性化合物；
3.根據(jù)權(quán)利要求2所記載的正型放射線敏感性組合物，其中[C]共聚物進(jìn)一步包含來自(c4)具有碳原子數(shù)為1 8的非取代的烷基酯基的聚合性化合物的結(jié)構(gòu)單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所記載的正型放射線敏感性組合物，其中[C]共聚物進(jìn)一步包含來自(^)在一分子中具有兩個(gè)以上不飽和鍵的聚合性化合物的結(jié)構(gòu)單元。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所記載的正型放射線敏感性組合物，其中化合物(cl)是下述式(6) 所示的聚合性化合物，化合物(^)是下述式(7)所示的聚合性化合物，[C]共聚物由相對(duì)于聚合性化合物(cl) (^)的總量，包含下述化合物的組合物形成，所述化合物為25 35質(zhì)量％的聚合性化合物(cl)， 20 30質(zhì)量％的聚合性化合物(c2)， 15 20質(zhì)量％的聚合性化合物(c3)， 25 35質(zhì)量％的聚合性化合物(c4)，以及 1 5質(zhì)量％的聚合性化合物(c5)， CH2 = CR4COOC2H4C0 F2 0+1(6)式(6)中，R4和上述式O)中的定義相同，β是1 8的整數(shù)， CH2 = CR5COO (C2H4O) aR6(7)式(7)中，R5和R6分別和上述式C3)中的定義相同，結(jié)構(gòu)單元數(shù)a的數(shù)量平均值是4 12。
6.根據(jù)權(quán)利要求1 5任一項(xiàng)所記載的正型放射線敏感性組合物，其中進(jìn)一步含有[D]密合助劑。
7.根據(jù)權(quán)利要求1 5任一項(xiàng)所記載的正型放射線敏感性組合物，其中進(jìn)一步含有[E]堿性化合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1 5任一項(xiàng)所記載的正型放射線敏感性組合物，其用于形成顯示元件的層間絕緣膜。
9.一種顯示元件用層間絕緣膜的形成方法，該方法包括(1)在基板上形成權(quán)利要求8所記載的正型放射線敏感性組合物的涂膜的工序，(2)對(duì)工序(1)中形成的涂膜的至少一部分照射放射線的工序，(3)將工序O)中照射了放射線的涂膜顯影的工序，以及(4)對(duì)工序(3)中顯影的涂膜加熱的工序。
10.由權(quán)利要求8所記載的正型放射線敏感性組合物形成的顯示元件的層間絕緣膜。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種正型放射線敏感性組合物、層間絕緣膜及其形成方法。本發(fā)明的目的在于提供一種正型放射線敏感性組合物，該組合物可以形成除了具有優(yōu)異的耐熱性和透明性以外，還具有無涂布不勻的高度平整性(膜厚均勻性)的層間絕緣膜，而且該組合物可以高速涂布，具有高的放射線靈敏度。本發(fā)明的正型放射線敏感性組合物包含[A]在同一或不同的聚合物分子中包含具有式(1)所示的基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元和含環(huán)氧基的結(jié)構(gòu)單元的聚合物；[B]光酸產(chǎn)生劑以及[C]具有含氟的結(jié)構(gòu)單元和含硅的結(jié)構(gòu)單元的共聚物。
文檔編號(hào)G03F7/004GK102213918SQ20111008162
公開日2011年10月12日 申請(qǐng)日期2011年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月1日
發(fā)明者一戶大吾 申請(qǐng)人:Jsr株式會(huì)社