專利名稱：微鏡器件的篩選方法、微鏡器件篩選裝置以及無(wú)掩膜曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在顯示設(shè)備用面板或半導(dǎo)體掩膜上、復(fù)制燒制圖案的無(wú)掩膜曝光裝置 中配備的微鏡器件的篩選方法及微鏡器件篩選裝置，特別是涉及微鏡器件的微鏡的平坦性 的檢測(cè)。
背景技術(shù)：
通過(guò)把描畫(huà)在掩膜上的電路圖案印制在基板上來(lái)制造液晶或有機(jī)EL (電致發(fā)光) 等面板。作為工序，在玻璃基板上堆積薄膜之后涂敷光刻膠，將電路圖案曝光，進(jìn)行顯影。接 著經(jīng)由光刻膠圖案對(duì)底層的薄膜進(jìn)行蝕刻，形成薄膜圖案。多次重復(fù)該工序來(lái)層疊薄膜圖 案，由此生成能夠控制各像素的明暗的電路圖案。為了進(jìn)行彩色顯示，將彩色濾波器制作在與電路圖案的玻璃基板不同的玻璃基板 上。首先，最初形成劃分紅、綠、藍(lán)的區(qū)域的被稱為黑陣(black matrix)的遮光帶。接著涂 敷包含紅色顏料的光刻膠，進(jìn)行曝光、顯影，由此作成紅色的彩色濾波器。綠色、藍(lán)色也重復(fù)同樣的工序。最后通過(guò)薄膜層疊、光刻膠涂敷、曝光、顯影、刻蝕 形成公共的透明電極圖案，由此制造紅綠藍(lán)(RGB)的彩色濾波器。在液晶面板中，通過(guò)形成 了電路圖案的玻璃基板和彩色濾波器包圍液晶，在照明側(cè)設(shè)置光源和偏振板，在出射側(cè)設(shè) 置與光源垂直的方向的偏振板，液晶顯示面板完成。如上述那樣，在制造工序中，頻繁使用在光刻膠上印制圖案的曝光。在曝光中使用 掩膜，但是在開(kāi)發(fā)新的顯示裝置時(shí)掩膜的交貨期成為短期開(kāi)發(fā)的瓶頸。另外，在制造大型電 視機(jī)用面板時(shí)，如果在成為廢棄的多余的空間中根據(jù)市場(chǎng)情況分割成小型面板，能夠有效 使用資源。如果是不使用掩膜的無(wú)掩膜曝光裝置，則能夠應(yīng)對(duì)這些。例如在美國(guó)專利第 6493867號(hào)說(shuō)明書(shū)(專利文獻(xiàn)1)中公開(kāi)了一種無(wú)掩膜曝光裝置。在無(wú)掩膜曝光裝置中，通過(guò)微鏡器件(以下稱為MMD)代替掩膜來(lái)形成圖案。通過(guò) 晶體管來(lái)控制二維排列的鏡組中的每一個(gè)反射鏡的傾角，由此進(jìn)行反射光角度的切換。MMD經(jīng)由投影透鏡在基板上成像，形成透過(guò)投影透鏡的反射角的像素為白色、無(wú)法 透過(guò)的發(fā)射角的像素為黑色的圖案。與配備有基板的平臺(tái)的移動(dòng)連動(dòng)控制MMD的各微鏡的 傾角，由此在基板上復(fù)制圖案。相對(duì)平臺(tái)移動(dòng)方向傾斜1/M弧度來(lái)設(shè)置MMD，由此能夠以像 素間距的1/M的分辨率來(lái)控制圖案復(fù)制位置。另外，關(guān)于掩膜的復(fù)制圖案像的仿真，例如在Y. Yoshitake et al、 “Multispotscanning exposure system for excimer laser stepper，，、 SPIE、1463、 (1991)678(非專利文獻(xiàn)1)中進(jìn)行了公開(kāi)。專利文獻(xiàn)1美國(guó)專利第6493867號(hào)說(shuō)明書(shū)非專利文獻(xiàn) 1 Y. Yoshitake et al、“Multispot scanning exposure system forexcimer laser stepper，，、SPIE、1463、(1991) 678

發(fā)明內(nèi)容
在上述的無(wú)掩膜曝光裝置中，通過(guò)將與像素對(duì)應(yīng)的微鏡圖像復(fù)制在基板上形成圖 案。在此，首先使用圖11及圖12來(lái)說(shuō)明MMD的功能。圖11是表示MMD的接通(ON)狀態(tài) 的截面圖，圖12是表示MMD的微鏡的斷開(kāi)(OFF)狀態(tài)的截面圖。如圖11所示那樣，微鏡21被固定在軛板(yoke) 22上，通過(guò)電極M的靜電扭轉(zhuǎn)鉸 鏈23，軛板22發(fā)生傾斜，結(jié)果微鏡21傾斜角度α。當(dāng)使照明光110以相對(duì)基板面沈的法線方向2 α的角度入射時(shí)，反射光111沿 MMD的基板面沈的法線方向反射。另一方面，如果接通電極25時(shí)，則如圖12所示那樣，微鏡21向與圖11相反方向 傾斜。結(jié)果，反射光111在相對(duì)于MMD的基板面沈的法線方向?yàn)? α的方向上進(jìn)行反射。即，在電極25斷開(kāi)時(shí)的微鏡21的傾角α為12度時(shí)，當(dāng)把電極25接通時(shí)，在相對(duì) 于MMD的基板面沈的法線方向48度的方向上進(jìn)行反射。通過(guò)未圖示的遮光帶對(duì)斷開(kāi)狀態(tài) 的反射光進(jìn)行遮光。通過(guò)圖13對(duì)無(wú)掩膜曝光裝置的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。圖13是表示無(wú)掩膜曝光裝置的結(jié) 構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖。在圖13中，使從光源11出射的照明光110折返，通過(guò)反射鏡12以預(yù)定的角度照 射在MMD2上。MMD2反射的光通過(guò)投影透鏡3，經(jīng)由投影透鏡光孔31在基板5上形成MMD2 的投影圖像4。將基板5裝配在平臺(tái)6上，通過(guò)平臺(tái)6的移動(dòng)，使投影圖像4在基板5的整 個(gè)面上多重曝光。通過(guò)圖14對(duì)多重曝光的方法進(jìn)行說(shuō)明。圖14是用于說(shuō)明通過(guò)MMD的各微鏡進(jìn)行 的多重曝光方法的圖。如圖14所示那樣，相對(duì)于平臺(tái)6的移動(dòng)方向50傾斜角度θ地設(shè)置MMD2。MMD2 的各微鏡圖像401 406與平臺(tái)6的移動(dòng)連動(dòng)，切換接通/斷開(kāi)狀態(tài)。把在接通/斷開(kāi)狀 態(tài)的切換周期期間平臺(tái)6前進(jìn)的移動(dòng)量作為描繪間距ΡΡ，當(dāng)選擇比微鏡圖像的間距P大的 PP時(shí)，則微鏡圖像僅稍稍錯(cuò)開(kāi)地在基板上的像素區(qū)域51中多重曝光。在此，通過(guò)圖15 圖17對(duì)多重曝光時(shí)的各微鏡圖像的X方向的光強(qiáng)度分布進(jìn)行 說(shuō)明。圖15是表示多重曝光時(shí)的各微鏡圖像的X方向的光強(qiáng)度分布的圖，圖16是表示圖 15所示的光強(qiáng)度分布的合計(jì)光強(qiáng)度分布的圖，圖17是表示3像素X 1像素圖案的光強(qiáng)度分 布的圖。與微鏡圖像401 406對(duì)應(yīng)的、與平臺(tái)6的移動(dòng)方向50垂直的方向X的光強(qiáng)度分 布為圖15的4001 4006所示的分布，將其相加后的光強(qiáng)分布為圖16的4011所示的分布。另外，如圖17所示那樣，設(shè)為在X方向上3像素，在平臺(tái)移動(dòng)方向Y上1像素的描 畫(huà)圖案，當(dāng)把各像素的光強(qiáng)度分布4011 4013相加時(shí)，能夠獲得光強(qiáng)度分布4100。通過(guò)相 加相鄰的光強(qiáng)度分布，各像素的光強(qiáng)度分布4011 4013的傾斜部變得平坦。結(jié)果，二維圖 案4110能夠獲得具有良好線性的圖案。以上說(shuō)明了微鏡圖像的光強(qiáng)度分布為矩形的理想狀態(tài)，但是在此，通過(guò)圖18 圖 20對(duì)高斯分布光強(qiáng)度分布的情況進(jìn)行說(shuō)明。圖18是表示多重曝光時(shí)的各微鏡圖像的高斯 分布光強(qiáng)度分布的圖，圖19是表示圖18所示的光強(qiáng)度分布的合計(jì)光強(qiáng)度分布的圖，圖20是表示通過(guò)高斯分布狀微鏡圖像生成的3像素X1像素圖案的光強(qiáng)度分布的圖。如圖18所示那樣，光強(qiáng)度分布4021 40 與微鏡圖像401 406對(duì)應(yīng)。將圖18 所示的光強(qiáng)度分布相加后的光強(qiáng)度分布為圖19的4031所示那樣。在圖19中，相對(duì)于將矩 形的微鏡圖像4001 4006相加所獲得的光強(qiáng)度分布4011，傾斜部的寬度變窄。另外，如圖20所示，設(shè)為在X方向上3像素、在Y方向上1像素的描畫(huà)圖案，當(dāng)把 各像素的光強(qiáng)度分布4031 4033相加時(shí)，因?yàn)楣鈴?qiáng)度分布4031 4033的傾斜部的寬度 較窄，因此將各像素相加后的光強(qiáng)度分布4200的像素邊界部的光強(qiáng)度弱。結(jié)果，在XY平面的二維圖案4210的像素邊界產(chǎn)生寬度方向的凹陷4211和厚度方 向的凹陷4212。在把圖案作為晶體管的柵極使用時(shí)，寬度方向的凹陷4211使晶體管的特 性發(fā)生變化。另外，在彩色濾波器中，光刻膠本身作為圖案殘留下來(lái)，因此厚度方向的凹陷 4212可能引起像素的亮度變化。本發(fā)明的目的在于提供一種用于在無(wú)掩膜曝光裝置中獲得在寬度方向和厚度方 向上都沒(méi)有凹陷的良好線性的描畫(huà)圖案的MMD的篩選方法及MMD篩選裝置。根據(jù)本說(shuō)明書(shū)的記述及附圖，本發(fā)明上述以及其它的目的和新特征將會(huì)變得明確。下面對(duì)本申請(qǐng)中公開(kāi)的發(fā)明中的代表性部分的概要進(jìn)行簡(jiǎn)單說(shuō)明。S卩，代表性部分的概要為具備對(duì)MMD的微鏡照射照明光的照明系統(tǒng)；使微鏡產(chǎn) 生的衍射光入射到攝像元件的光學(xué)系統(tǒng)；以及對(duì)攝像元件拍攝到的衍射光分布圖像進(jìn)行處 理，進(jìn)行MMD為合格品或不合格品的判定的處理系統(tǒng)。以下對(duì)通過(guò)在本申請(qǐng)中公開(kāi)的發(fā)明中的代表性的部分獲得的效果進(jìn)行簡(jiǎn)單說(shuō)明。S卩，通過(guò)代表性部分獲得的效果是能夠簡(jiǎn)單且迅速地篩選平坦性良好的MMD，所 以在使用了 MMD的無(wú)掩膜曝光裝置中能夠獲得在寬度方向和厚度方向上都沒(méi)有凹陷的線 性良好的復(fù)制圖案，能夠提高無(wú)掩膜曝光裝置的品質(zhì)及可靠性。另外，因?yàn)槟軌虮O(jiān)視在無(wú)掩膜曝光裝置中配備的MMD的平坦性的隨時(shí)間惡化，所 以能夠提前防止復(fù)制圖案的線性惡化，能夠在液晶或有機(jī)EL等面板或半導(dǎo)體掩膜的制造 中維持成品率。


圖1是表示本發(fā)明實(shí)施方式1的微鏡器件(MMD)篩選裝置的結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖。圖2用于說(shuō)明使用微鏡的平坦性良好的MMD的必要性。圖3是表示本發(fā)明實(shí)施方式1的MMD篩選裝置的微鏡中心與周?chē)母叨炔钆艿?圖。圖4是表示將本發(fā)明實(shí)施方式1的MMD篩選裝置的跑作為參數(shù)的微鏡凹面化時(shí) 的曝光仿真結(jié)果的圖。圖5是本發(fā)明實(shí)施方式1的MMD篩選裝置的楔形玻璃、直角棱鏡以及微鏡部的放 大圖。圖6是表示本發(fā)明實(shí)施方式1的MMD篩選裝置的微鏡平坦性判定處理的流程的流 程圖。圖7是表示本發(fā)明實(shí)施方式1的MMD篩選裝置的衍射光分布圖像的區(qū)域劃分的圖。圖8是表示本發(fā)明實(shí)施方式1的MMD篩選裝置的微鏡中心與周?chē)母叨炔钆芘c 評(píng)價(jià)值S的關(guān)系的圖。圖9是表示本發(fā)明實(shí)施方式2的無(wú)掩膜曝光裝置的結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖。圖10是表示本發(fā)明實(shí)施方式2的無(wú)掩膜曝光裝置的照明系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)式孔徑的圖。圖11是表示MMD的微鏡的接通狀態(tài)的截面圖。圖12是表示MMD的微鏡的斷開(kāi)狀態(tài)的截面圖。圖13是表示無(wú)掩膜曝光裝置的結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖。圖14是用于說(shuō)明通過(guò)MMD的各微鏡的多重曝光方法的圖。圖15是表示多重曝光時(shí)的各微鏡圖像的X方向的光強(qiáng)度分布的圖。圖16是表示圖15所示的光強(qiáng)度分布的合計(jì)光強(qiáng)度分布的圖。圖17是表示3像素Xl像素圖案的光強(qiáng)度分布的圖。圖18是表示多重曝光時(shí)的各微鏡圖像的高斯分布光強(qiáng)度分布的圖。圖19是表示圖18所示的光強(qiáng)度分布的合計(jì)光強(qiáng)度分布的圖。圖20是表示通過(guò)高斯分布微鏡圖像生成的3像素X 1像素圖案的光強(qiáng)度分布的 圖。符號(hào)說(shuō)明2微鏡器件(MMD) ；3投影透鏡；4投影圖像；5基板；6平臺(tái)；9處理系統(tǒng)；21微鏡； 22軛板；23鉸鏈；24、25電極；26MMD的基板面；31投影透鏡光孔；55基板的表面；70光源； 71光纖；72準(zhǔn)直透鏡；73楔形玻璃；74直角棱鏡；75、77、78透鏡；76光圈；79攝像元件；80 衍射光分布圖像；91控制系統(tǒng)；900顯示系統(tǒng)
具體實(shí)施例方式以下參照附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。另外，在用于說(shuō)明實(shí)施方式的全 圖中，原則上對(duì)相同部件賦予相同符號(hào)，并省略其重復(fù)說(shuō)明。(實(shí)施方式1)通過(guò)圖1對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式1的微鏡器件(以下稱為MMD)篩選裝置的結(jié)構(gòu)進(jìn)行 說(shuō)明。圖1是表示本發(fā)明實(shí)施方式的MMD篩選裝置的結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖。在圖1中，MMD篩選裝置由MMD2、處理部9、照明系統(tǒng)即光源70及光纖71、作為光 學(xué)系統(tǒng)的準(zhǔn)直透鏡72、楔形玻璃73、直角棱鏡74、透鏡75、77、78以及光圈76、攝像元件79、 顯示系統(tǒng)900構(gòu)成。MMD2由微鏡21構(gòu)成。在本實(shí)施方式中，以預(yù)定角度對(duì)MMD2照射平行光，并通過(guò)透鏡對(duì)反射的光進(jìn)行平 行校正，通過(guò)透鏡系統(tǒng)將衍射光分布縮小成像在攝像元件上，通過(guò)處理部9進(jìn)行圖像處理， 對(duì)衍射光分布的特征進(jìn)行量化，檢測(cè)微鏡21的平坦性。首先，通過(guò)圖2對(duì)使用微鏡21的平坦性良好的MMD2的必要性進(jìn)行說(shuō)明。圖2是 用于說(shuō)明使用微鏡21的平坦性良好的MMD2的必要性的說(shuō)明圖，表示有關(guān)平坦性不好的微 鏡21的作用。如圖2所示，微鏡21由于制作MMD2時(shí)的熱應(yīng)力或照明光照射引起的熱應(yīng)力而彎 曲成凹面。因此微鏡21具有將平行光110變換成會(huì)聚光112的作用，在微鏡21的基板5上的像如光強(qiáng)度分布4021那樣成為高斯分布狀。如圖20中說(shuō)明的那樣，這成為在圖案內(nèi)像素邊界部產(chǎn)生凹陷的原因。因此，首先 具有篩選使用具有良好平坦性的微鏡21的必要性。能夠通過(guò)激光共焦顯微鏡進(jìn)行平坦性 的測(cè)定，但是測(cè)定需要花費(fèi)勞力和時(shí)間，因此在本實(shí)施方式中使用了衍射光分布的特性。接著，通過(guò)圖3以及圖4，說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施方式1的MMD篩選裝置的檢測(cè)具有良好 平坦性的微鏡的原理。圖3表示本發(fā)明實(shí)施方式1的MMD篩選裝置的微鏡中心與周?chē)母?度差Zh，圖4表示將本發(fā)明實(shí)施方式1的MMD篩選裝置的跑作為參數(shù)的微鏡凹面化時(shí)的曝 光仿真結(jié)果。在本實(shí)施方式中，著眼于微鏡21凹面化時(shí)的衍射光分布的特性。在凹面化時(shí)具有 相對(duì)于平面，在周?chē)糠值南辔黄x變大，與此相伴，高階的衍射光強(qiáng)度變大的特性。在此， 如圖3所示，把通過(guò)拋物面對(duì)微鏡的凹面化進(jìn)行近似時(shí)的中心與周?chē)母叨炔钤O(shè)為跑。圖4所示的曝光仿真結(jié)果表示微鏡的尺寸為13.7μπι角的情況。如圖4所示，隨 著跑變大，在光孔上發(fā)生高階衍射光，基板上的微鏡圖像因凹面的會(huì)聚作用而變圓。拍攝 光孔上的衍射光分布，如果通過(guò)評(píng)價(jià)值對(duì)高階衍射光位置的亮度進(jìn)行量化，則能夠?qū)Π济?化的程度進(jìn)行量化，并且能夠通過(guò)該評(píng)價(jià)值篩選具有平坦性良好的微鏡的MMD。接下來(lái)，通過(guò)圖1以及圖5 圖8對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式1的MMD篩選裝置的動(dòng)作進(jìn) 行說(shuō)明。圖5 圖8是用于說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施方式1的MMD篩選裝置的動(dòng)作的說(shuō)明圖，圖5 是MMD篩選裝置的楔形玻璃、直角棱鏡以及微鏡部的放大圖，圖6是表示微鏡平坦性判定處 理的流程的流程圖，圖7是表示衍射光分布圖像的區(qū)域劃分的圖，圖8是表示微鏡中心與周 圍的高度差跑和評(píng)價(jià)值S的關(guān)系的圖。首先，如圖1所示，光源70產(chǎn)生的照明光通過(guò)光纖71出射，通過(guò)準(zhǔn)直透鏡72變?yōu)?平行光，通過(guò)楔形玻璃73偏轉(zhuǎn)角度Θ1。當(dāng)把楔形玻璃73的折射率設(shè)為nl時(shí)，通過(guò)以下的 公式1給出角度θ 1和楔形玻璃73的角度β的關(guān)系。θ 1 = (nl-1) β(1)在楔形玻璃73出射的照明光710入射到直角棱鏡74，并入射到MMD2的微鏡21， 通過(guò)直角棱鏡74的斜面對(duì)反射光進(jìn)行全反射。在此，使用圖5對(duì)直角棱鏡74內(nèi)部的照明光710的中心光線711的光路進(jìn)行說(shuō)明。以下表示微鏡的傾角α為12度的情況。希望注意的是θ 1 θ 5按照以下的公 式2 公式5，隨α的值而變化。為了使反射光垂直入射到直角棱鏡，需要使入射角θ 5為 M度。此時(shí)，如果將直角棱鏡的折射率設(shè)為η2，則通過(guò)公式2給出θ 5和θ 4的關(guān)系。sin θ 4 = sin θ 5/η2 (2)如果設(shè)η2 = 1.5，因?yàn)棣? = 24度，所以θ 4為15. 73度。另一方面，θ 4和θ 3 的關(guān)系為下面的公式3那樣，因此θ 3為29. 27度。θ 3 = 45- θ 4(3)另外，下面的公式4給出直角棱鏡74的斜邊的折射率。sin θ 2 = η2 · sin θ 3 (4)由此，求出θ 2為47. 17度。θ 1禾Π θ 2的關(guān)系為下面的公式5那樣，因此θ 1為 2. 17 度。θ 1 = 45- θ 2(5)
如果假設(shè)nl = 1. 5，則通過(guò)公式1可知實(shí)現(xiàn)使反射光垂直入射到直角棱鏡的楔形 玻璃21的角度β為1.09度。 在此，再次返回到圖1，對(duì)通過(guò)微鏡21產(chǎn)生的衍射光712的光路進(jìn)行說(shuō)明。通過(guò)透 鏡75對(duì)衍射光712進(jìn)行平行校正后，通過(guò)設(shè)置在透鏡75的焦距fl的位置上的光圈76去 掉在測(cè)定中不需要的部分。光圈76的位置是微鏡21的傅里葉變換面，衍射光分布是分離最好地檢測(cè)的位置。 光圈76比攝像元件79的視野大。因此，通過(guò)透鏡77和透鏡78構(gòu)成中繼縮小光學(xué)系統(tǒng)。將光圈76縮小到透鏡77 的焦距f2和透鏡78的焦距的比即f3/f2倍，在攝像元件79上成像。在此，將透鏡77和透鏡78的距離設(shè)為焦距之和f2+f3。通過(guò)處理系統(tǒng)9對(duì)攝像元 件79拍攝到的衍射光分布圖像實(shí)施圖像處理，判定微鏡21的凹面性。接下來(lái)通過(guò)圖6所示的流程圖對(duì)通過(guò)處理系統(tǒng)9進(jìn)行的微鏡21的凹面性判定方 法進(jìn)行說(shuō)明。首先，在步驟901中通過(guò)攝像元件79拍攝衍射光分布。接著，在步驟902劃分成 各衍射光區(qū)域。根據(jù)圖4所示的仿真結(jié)果可知，在微鏡21具有良好的平坦性時(shí)，衍射光強(qiáng)度中心 附近的4個(gè)強(qiáng)，但是隨著凹面化，周?chē)难苌涔鈴?qiáng)度逐漸變強(qiáng)。因此如圖7所示那樣，把衍射光分布圖像80的光圈輪廓圖像760內(nèi)的區(qū)域劃分成 中心部801 804和周?chē)?11 822。接著，在步驟903計(jì)算各區(qū)域的亮度平均值。使用該平均值通過(guò)步驟904計(jì)算評(píng) 價(jià)值S。把中心部801 804的平均亮度設(shè)為Il 14，把Il 14的平均值設(shè)為ml，把周 圍部的平均亮度設(shè)為111 112，把111 112的平均值設(shè)為m2，通過(guò)下面的公式6來(lái)表示 評(píng)價(jià)值S。
權(quán)利要求
1.一種微鏡器件的篩選方法，該微鏡器件生成用于進(jìn)行無(wú)掩膜曝光的復(fù)制圖案，該篩 選方法的特征在于，具備如下步驟對(duì)所述微鏡器件的微鏡照射照明光，拍攝來(lái)自所述微鏡的衍射光分布； 把基于曝光仿真結(jié)果的多個(gè)衍射光分布的信息與來(lái)自所述微鏡的衍射光分布的信息 進(jìn)行比較；以及根據(jù)所述比較結(jié)果，顯示所述微鏡器件為合格品或不合格品的信息以及所述衍射光分 布的圖像。
2.一種微鏡器件的篩選方法，該微鏡器件生成用于進(jìn)行無(wú)掩膜曝光的復(fù)制圖案，該篩 選方法的特征在于，具備如下步驟對(duì)所述微鏡器件的微鏡照射照明光，拍攝來(lái)自所述微鏡的衍射光分布； 計(jì)算按照所述衍射光分布的區(qū)域劃分的亮度平均值； 根據(jù)所述亮度平均值計(jì)算所述微鏡的評(píng)價(jià)值； 把所述評(píng)價(jià)值與閾值進(jìn)行比較；以及根據(jù)所述比較結(jié)果，顯示所述微鏡器件為合格品或不合格品的信息以及所述衍射光分 布的圖像。
3.一種微鏡器件篩選裝置，其對(duì)生成用于進(jìn)行無(wú)掩膜曝光的復(fù)制圖案的微鏡器件進(jìn)行 篩選，該微鏡器件篩選裝置的特征在于，具備照明系統(tǒng)，對(duì)所述微鏡器件的微鏡照射照明光； 光學(xué)系統(tǒng)，使通過(guò)所述微鏡產(chǎn)生的衍射光入射到攝像元件；以及 處理系統(tǒng)，其對(duì)所述攝像元件拍攝到的衍射光分布圖像進(jìn)行處理，進(jìn)行所述微鏡器件 為合格品或不合格品的判定。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的微鏡器件篩選裝置，其特征在于， 具備顯示所述衍射光分布圖像和所述判定結(jié)果的顯示系統(tǒng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的微鏡器件篩選裝置，其特征在于， 所述照明系統(tǒng)包含楔形玻璃和直角棱鏡。
6.一種無(wú)掩膜曝光裝置，其通過(guò)投影透鏡把微鏡器件生成的圖案投影在基板上，該無(wú) 掩膜曝光裝置的特征在于，具備照明系統(tǒng)，對(duì)所述微鏡器件照射照明光； 攝像元件；平臺(tái)，使所述基板及所述攝像元件移動(dòng)；控制系統(tǒng)，在進(jìn)行所述微鏡器件為合格品或不合格品的判定時(shí)，使所述平臺(tái)移動(dòng)，使來(lái) 自所述微鏡器件的微鏡的衍射光入射到所述攝像元件，控制所述照明系統(tǒng)的光圈的大小； 以及處理系統(tǒng)，對(duì)所述攝像元件拍攝到的衍射光分布圖像進(jìn)行處理，根據(jù)所述衍射光分布 圖像的處理結(jié)果，進(jìn)行所述微鏡器件為合格品或不合格品的判定。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的無(wú)掩膜曝光裝置，其特征在于， 具備顯示所述衍射光分布圖像及所述判定結(jié)果的顯示系統(tǒng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的無(wú)掩膜曝光裝置，其特征在于，在把所述照明系統(tǒng)的準(zhǔn)直透鏡的焦距設(shè)為f，將所述照明光的波長(zhǎng)設(shè)為λ，將所述微鏡器件的微鏡的間距設(shè)為P時(shí)，進(jìn)行所述微鏡器件為合格品或不合格品的判定時(shí)的所述照 明系統(tǒng)的光圈的半徑小于λ . f/PD
全文摘要
本發(fā)明提供一種微鏡器件的篩選方法、微鏡器件篩選裝置以及無(wú)掩膜曝光裝置。該微鏡器件篩選裝置用于在無(wú)掩膜曝光裝置中獲得在寬度方向和厚度方向上都無(wú)凹陷的線性良好的描畫(huà)圖案。在該微鏡器件篩選裝置中具備將照明光照射到微鏡器件(2)的微鏡(21)的照明系統(tǒng)；使通過(guò)微鏡(21)產(chǎn)生的衍射光入射到攝像元件(79)的光學(xué)系統(tǒng)；以及對(duì)通過(guò)攝像元件(79)拍攝到的衍射光分布圖像進(jìn)行處理，進(jìn)行微鏡器件(2)為合格品或不合格品的判定的處理系統(tǒng)(9)。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102129180SQ201110021679
公開(kāi)日2011年7月20日 申請(qǐng)日期2011年1月14日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月15日
發(fā)明者上野剛渡, 吉武康裕, 根本亮二 申請(qǐng)人:株式會(huì)社日立高新技術(shù)