專利名稱：用于電子照相光敏體的基體材料、其生產(chǎn)方法及使用其的電子照相光敏體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于防止干涉條紋的技術(shù)，該干涉條紋出現(xiàn)在印刷圖像上且為一種可歸因于電子照相光感受器的圖象缺陷。本發(fā)明特別涉及用于基底表面粗糙化的技術(shù)，該技術(shù)簡單、生產(chǎn)率高且還防止出現(xiàn)其它圖象缺陷。
背景技術(shù)：
主要用于電子照相光感受器的基底材料包括由鋁或鋁合金制得的圓筒，由通過氣相沉積以鋁涂覆的樹脂制成的基底，和由不銹鋼或鎳合金制得的帶。然而，由于基底表面具有降低的粗糙度并因而具有高反射率，存在其中在圖像上出現(xiàn)不均勻密度(稱為干涉條紋)的情況。
該密度不均勻可歸因于其中從激光器或LED發(fā)出的寫入光(writing light)被基底表面和各涂膜之間的界面反射并由于各涂膜厚度的微小差別，發(fā)生干涉導(dǎo)致在電荷產(chǎn)生層上的光作用(light acting)從而具有不均勻的強度，導(dǎo)致部件之間靈敏度差異的現(xiàn)象。
有效防止干涉條紋缺陷的方法是使基底界面粗糙化。已提出各種表面-粗糙化技術(shù)(專利文件1-8)。
JP-A-2000-105481[專利文件2]JP-A-6-138683[專利文件3]JP-A-2001-296679[專利文件4]JP-A-5-224437[專利文件5]JP-A-R-248660 JP-A-11-327168[專利文件7]JP-A-6-138683[專利文件8]JP-A-1-123246發(fā)明內(nèi)容迄今為止使用的已知的表面-粗糙化技術(shù)包括其中向表面吹懸浮的研磨劑顆粒以形成凹口/凸出的方法，例如搪磨或噴砂(參見，例如，專利文件1)和其中以比基底更硬的材料對基底進行研磨的技術(shù)，例如，砂輪(參見，例如，專利文件2)。然而，其中吹懸浮的研磨劑顆粒以形成凹口/凸出的方法具有研磨劑顆粒易于保留在基底表面上，從而導(dǎo)致圖象缺陷的問題。雖然在后面的步驟中洗去研磨劑顆粒以消除該問題是有效的(參見，例如，專利文件3)，但其難于完全去除夾在表面中的研磨劑顆粒。此外，從通常用作電子照相光感受器基底的韌性材料(例如鋁和鋁合金)表面進行去除的效率低于在脆性材料(例如玻璃)的情況下的效率。因此，在該技術(shù)中的生產(chǎn)率被認為沒有那么高。
還提出了使用冰或干冰的噴砂技術(shù)(參見，例如，專利文件4-6)。然而，從能量效率的觀點來看，這些是浪費的方法，例如，由于使用低溫和以高速噴射具有小比重的顆粒的必要性。此外，由于一種研磨劑顆粒僅形成一種凹口/凸出，噴砂技術(shù)具有生產(chǎn)率低于其中研磨劑顆粒與表面相摩擦的研磨方法的問題。在其中在此使用具有提高的粒徑的研磨劑顆粒以提高生產(chǎn)率的情況中，這造成了這樣的問題所得的凹口/凸出太大且該基底提供易于發(fā)生電荷泄漏以導(dǎo)致圖像缺陷(例如微小黑點)的電子照相光感受器。
以砂輪進行研磨具有高的生產(chǎn)率。然而，由于砂輪缺乏柔性，存在這樣的問題其表面不規(guī)則轉(zhuǎn)移到基底表面并易于形成導(dǎo)致圖象缺陷的深的凹口/凸出(參見，例如，專利文件7)。因此，有必要在加工后，通過某種方法，采取額外的措施以去除大的凹口/凸出。雖然可使用包含具有小粒徑的研磨劑顆粒的砂輪，但這引起生產(chǎn)率下降和易于發(fā)生堵塞的問題。
在以懸浮的研磨劑顆粒進行的表面粗糙化例如搪磨或噴砂，和以砂輪進行的研磨中，為了均勻地對整個表面進行粗糙化的待去除的表面層的量是幾十微米或更大。因而，存在加工導(dǎo)致廢料量增加且必須在確定基底外徑時考慮待去除的量的問題。
存在通過以車床進行車削而形成凹口/凸出的技術(shù)(參見，例如，專利文件8)。然而，甚至表面粗糙度的輕微變化影響干涉條紋的產(chǎn)生，且因而需要小心謹慎以保持/控制車削條件。在車削的情況中，首先，由于在幾乎垂直于基底的軸的方向上形成高度規(guī)則連續(xù)的槽，入射到光感受器上的寫入光的反射光僅在平行于基底的軸的特定平面上發(fā)生散射且抑制干涉條紋的效果固有地低。
作為反對(against)圖象缺陷(例如圖像中的黑點和塵霧)的措施，或為了穩(wěn)定電子照相性能的目的，經(jīng)常在光敏層下形成具有約幾微米厚度的底涂層。然而，通常使用的包括尼龍樹脂和分散在其中的氧化鈦的底涂層具有高的光透射且防止干涉條紋的效果較差。
由于上述原因，期望簡單、生產(chǎn)率高且可防止出現(xiàn)其它圖象缺陷的用于基底表面粗糙化的技術(shù)。
本發(fā)明人進行了深入研究以克服上述問題。結(jié)果，發(fā)現(xiàn)當包括很多細槽的槽圖樣至少在基底表面中的幾乎整個成像區(qū)域中形成，以使當將基底展開成平面時槽彎曲且不連續(xù)時，那么可通過簡單的方法防止出現(xiàn)干涉條紋以及其它缺陷。由此實現(xiàn)本發(fā)明。
因此，本發(fā)明的第一個本質(zhì)點在于用于電子照相光感受器的基底，該基底具有通過至少在基底表面中的幾乎整個成像區(qū)域中形成許多細槽制得的槽圖樣，其特征在于當基底表面在平面上展開時，槽彎曲且不連續(xù)。
本發(fā)明的第二個本質(zhì)點在于用于生產(chǎn)電子照相光感受器基底的方法，其特征在于通過使至少一種柔性材料與基底表面相接觸并使該柔性材料在基底表面上移動。本發(fā)明的第三個本質(zhì)點在于使用該基底的電子照相光感受器。此外，本發(fā)明的第四個本質(zhì)點在于均使用該光感受器的成象裝置和盒。
在本發(fā)明中，在基底表面中形成以致彎曲且不連續(xù)的槽，用于擾亂基底表面反射的光的規(guī)則性并進一步擾亂與涂膜界面反射的光的干涉。結(jié)果，提高了抑制干涉條紋的效果。在直槽的情況中，由槽在具有特定角度的方向上對反射光進行散射。然而，形成的彎曲的槽引起反射光發(fā)生散射的方向上的微小變化。此外，當形成這種使其不連續(xù)的槽時，在槽交叉處，反射光的方向發(fā)生改變。結(jié)果，由基底表面反射的光的方向復(fù)雜并增強了抑制干涉條紋的效果。
在通過車削形成槽的情況中，槽直且連續(xù)且槽的規(guī)則性非常高。因此，如上所述，抑制干涉條紋的效果低。在以砂輪進行的研磨中，形成短且直的不連續(xù)的槽，但基底表面變得具有大的凹口/凸出且如上所述易于導(dǎo)致圖象缺陷。因此，有必要進行額外的步驟以去除大的凹口/凸出，導(dǎo)致復(fù)雜的過程。
如上所述，本發(fā)明的電子照相光感受器基底防止出現(xiàn)圖象缺陷(例如黑點)同時完全防止由曝光光線干涉引起的條紋，從而可獲得令人滿意的圖像。


圖1為說明用于生產(chǎn)本發(fā)明電子照相光感受器基底的方法的一個實例的圖。
圖2為顯示在已展開成平面的本發(fā)明電子照相光感受器基底中的槽形狀的一個實例的簡圖。
圖3為顯示在已展開成平面的本發(fā)明電子照相光感受器基底中的槽形狀的一個實例的簡圖。
圖4為說明用于生產(chǎn)本發(fā)明電子照相光感受器基底的方法的另一個實例的圖。
圖5為說明用于生產(chǎn)本發(fā)明電子照相光感受器基底的方法的再一個實例的圖。
圖6為說明用于生產(chǎn)本發(fā)明電子照相光感受器基底的方法的還一個實例的圖。
圖7(a)-(c)均為顯示在本發(fā)明電子照相光感受器基底生產(chǎn)中的表面粗糙化的方法的流程圖。
圖8為用于生產(chǎn)本發(fā)明電子照相光感受器基底的車削裝置的傾斜視圖。
圖9為顯示在已展開成平面的本發(fā)明電子照相光感受器基底中的槽形狀的一個實例的簡圖。
圖10為用于生產(chǎn)本發(fā)明電子照相光感受器基底的減徑擠壓(ironingめしごき)裝置的部分剖面正視圖；(a)顯示了在減徑擠壓之前的狀態(tài)且(b)顯示了減徑擠壓之后的狀態(tài)。
圖11為顯示在已展開成平面的本發(fā)明電子照相光感受器基底中的槽形狀的一個實例的簡圖。
圖12為顯示本發(fā)明成象裝置的重要部件的結(jié)構(gòu)的簡圖。
圖中的標號和符號如下。
1基底1′、10′、21′展開成平面的基底表面2膨脹/保持機構(gòu)3輪狀刷3′杯狀刷4清潔刷10、21原管11 切削刀具11A切削刀具的尖端12刀具架13管14機床身15滑動臺16機頭22沖頭23模座24卡爪25液壓缸26沖頭座板27導(dǎo)板28夾具(jig)29泵具體實施方式
下面將詳細說明本發(fā)明的實施方式。然而，下面描述的組成元件為本發(fā)明實施方式中的典型實例且在本發(fā)明的實踐中，可進行適當?shù)母倪M，只要不與本發(fā)明的精神相反即可。
(基底)本發(fā)明的電子照相光感受器基底具有形成在其表面中的槽，該槽的特征在于，當基底表面展開成平面時，其為彎曲且不連續(xù)的(在下文中將這些槽適宜地稱作“弧形槽”)。
可用作其中形成本發(fā)明的弧形槽特性的基底為用于已知電子照相光感受器的基底。其實例包括由金屬材料(例如鋁、不銹鋼、銅、或鎳)制得的鼓或片，通過層壓或氣相沉積以這些金屬中任一種的箔涂覆的基底，和絕緣基底(例如，聚酯膜或紙張)，該絕緣基底具有以由鋁、銅、鈀、氧化錫、氧化銦等制得的導(dǎo)電層涂覆的表面。其實例進一步包括塑料膜、塑料桶(drum)、紙張、紙管等，通過對其涂覆導(dǎo)電材料(例如，金屬顆粒、炭黑、碘化銅、或聚電解質(zhì))以及適當?shù)恼澈蟿?，對其每個均進行了賦予導(dǎo)電性的處理。其它實例包括由塑料制得的片或鼓，其中該塑料已通過向其中加入導(dǎo)電材料(例如，金屬顆粒、炭黑、或碳纖維)而獲得導(dǎo)電性。還有其它實例包括塑料膜或帶，已通過導(dǎo)電金屬氧化物(例如氧化錫或氧化銦)對其進行賦予導(dǎo)電性的處理。
這些基底優(yōu)選為金屬(例如，鋁)的環(huán)形管。特別是，鋁或鋁合金(在下文中有時包含地稱作鋁)的環(huán)形管適合用作本發(fā)明的電子照相光感受器基底。通過常規(guī)加工技術(shù)(例如，擠出或拉制)形成的環(huán)形鋁管可以按照原狀使用，或在其進一步進行加工(例如車削、研磨、或拋光)后使用。此外，在形成本發(fā)明的弧形槽特性后，可形成中間層(例如隔離層(barrier layer))。作為隔離層使用例如陽極化的鋁涂膜，由氧化鋁、氫氧化鋁等制得的無機層，或由聚乙烯醇、酪蛋白、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酸、纖維素衍生物、明膠、淀粉、聚氨酯、聚酰亞胺、聚酰胺等制得的有機層。
通過將柔性材料作為摩擦材料與基底表面相接觸并導(dǎo)致該摩擦材料在基底表面上移動，形成本發(fā)明的弧形槽特性。摩擦材料在接觸部分發(fā)生變形，且因而，摩擦率在開始接觸到結(jié)束接觸的期間發(fā)生變化。由于這一原因，所得的弧形槽具有彎曲的形狀。在通常使用的具有彎曲表面的基底中，弧形槽具有彎曲的形狀，只要摩擦材料以基底的旋轉(zhuǎn)軸與摩擦材料的旋轉(zhuǎn)軸不平行的方式與基底相接觸即可。也就是說，在根據(jù)本發(fā)明形成弧形槽的過程中，對基底和摩擦材料進行定位，以便于它們的旋轉(zhuǎn)軸不相互平行。除了弧形槽以外的槽已在本發(fā)明的基底表面中形成。將在后面與基底的生產(chǎn)方法結(jié)合說明除了弧形槽以外的槽。
柔性材料的實例包括橡膠、樹脂、海綿、刷、織物、和無紡布。然而，不應(yīng)認為柔性材料僅限于這些。從提高弧形槽形成效率的觀點來看，優(yōu)選這些柔性材料為含有研磨劑顆粒的柔性材料。更優(yōu)選刷材料。
可使用任何研磨劑顆粒，只要其具有足以在基底中形成弧形槽的硬度即可，其中弧形槽待形成于該基底中?？墒褂靡阎难心╊w粒，例如碳化硅、氮化硅、氮化硼、和氧化鋁。然而，對于鋁基底研磨劑氧化鋁顆粒是優(yōu)選的。對于粒徑，通常使用#240-#2500(按照JIS R 6001的規(guī)定)的研磨劑顆粒。在其中，優(yōu)選#280或更高的研磨劑顆粒且更優(yōu)選#320或更高的研磨劑顆粒。此外，優(yōu)選#2000或更低的研磨劑顆粒且優(yōu)選#1500或更低的研磨劑顆粒。
在使用幾乎不具有柔性的材料例如砂輪的情況下，在表面中部分地形成深裂紋。因此，不希望使用這種材料。雖然在形成更淺的槽中，使用細研磨劑顆粒是有效的，但該情況不僅導(dǎo)致生產(chǎn)率下降，而且引起堵塞的問題。存在鋁合金用作基底的情況。然而，由于已導(dǎo)致堵塞的研磨粉末顆粒易于轉(zhuǎn)移到軟的鋁表面，這些顆粒易于導(dǎo)致雜質(zhì)缺陷。此外，由于砂輪幾乎不在其接觸部分發(fā)生變形，因而所得的槽短且直。
優(yōu)選所使用的剛毛為由含有通過捏合而在其中加入的研磨劑顆粒的樹脂(例如，尼龍)制得的剛毛。在通常使用的研磨刷中，主要利用剛毛尖端的研磨能力。相反，在將用于本發(fā)明的含有研磨劑顆粒的刷中，可有效地使用通過剛毛的主體進行的研磨，因此，可擴大接觸部分，導(dǎo)致生產(chǎn)率提高。此外，由于剛毛的彈性，可進行緩和的研磨，該研磨形成不過分大的凹口/凸出并導(dǎo)致減少的去除量。此外，由于剛毛的柔性且由于接觸部分總是移動，不易于發(fā)生堵塞。由于這一特點，可以使用粒徑太小以至于由于堵塞而不能用于輪式研磨的研磨劑顆粒。由于可以容易地降低表面粗糙度，對于除干涉條紋以外的圖象缺陷，該技術(shù)也是高度有效的。形成的弧形槽的高不規(guī)則性還引起抑制干涉條紋的高效果。
優(yōu)選在不同條件下進行兩次或多次該加工，以形成以網(wǎng)格圖樣排列的弧形槽，因為這可進一步提高不規(guī)則性。尤其優(yōu)選基底應(yīng)具有這樣的表面粗糙度，其最大高度/粗糙度Rz(按照JIS B 06012001的規(guī)定)為0.6≤Rz≤2μm，其粗糙度曲線的峭度Rku為3.9≤Rku≤30，且基底表面的槽寬度L為0.5≤L≤6.0μm。
Rz的值太大往往導(dǎo)致缺陷，例如圖像中的黑點。因此，Rz通常為2μm或更小，優(yōu)選1.8μm或更小，更優(yōu)選1.6μm或更小。另一方面，在Rz太小的情況中，散射反射光的效果不足。因此，將使用的基底的Rz通常為0.6μm或更大，優(yōu)選0.8μm或更大，更優(yōu)選1.0μm或更大。
表示粗糙度分布波形的峭度的Rku隨著表面粗糙化的進行逐漸降低并收斂于3左右的值，雖然這取決于加工方法而稍有變化。在迄今為止使用的各種技術(shù)(例如搪磨和噴砂)的情況下，Rku通常為約2.5-3。在以切削刀具進行車削的情況中，由于鋸齒狀凹口/凸出的形成，Rku通常為約2-3。
當基底表面為形成的弧形槽為分散地存在的狀態(tài)時，Rku的值大。當進行表面粗糙化時，該值變小。因此，通過增加弧形槽形成中的加工操作的次數(shù)和/或延長加工時間，獲得更小的值。然而，當考慮到實際生產(chǎn)率時，待使用的基底的Rku通常為3.9或更大，優(yōu)選4.2或更大，更優(yōu)選4.5或更大，當考慮到圖象缺陷時，該Rku通常為30或更小，優(yōu)選15或更小，更優(yōu)選10或更小。
槽寬度L太小的值必然形成很多槽并導(dǎo)致生產(chǎn)率下降。因此，待使用的基底的L通常為0.5μm或更大，優(yōu)選0.6μm或更大，更優(yōu)選0.7μm或更大。在L太大的情況中，凹口/凸出具有相應(yīng)增加的深度且這易于導(dǎo)致圖象缺陷。因此，待使用的基底的L為6.0μm或更小，優(yōu)選4.0μm或更小，更優(yōu)選3.0μm或更小。
通過調(diào)節(jié)待使用的剛毛的長度、硬度、和安置密度(setting density)、將通過捏和加入剛毛中的研磨劑顆粒的性能(例如，粒徑)、和加工條件(包括剛毛的轉(zhuǎn)速和接觸時間)，可控制Rz、Rku、和槽寬度L。
在這些性能中，Rz和槽寬度L尤其顯著地受到將通過捏和加入剛毛中的研磨劑顆粒的粒徑的影響。大的研磨劑顆粒直徑往往導(dǎo)致大的Rz和槽寬度L值，而小的研磨劑顆粒直徑往往導(dǎo)致小的Rz和槽寬度L值。因此，使用的研磨劑顆粒的粒徑通常為1μm或更大，優(yōu)選5μm或更大，且通常為50μm或更小，優(yōu)選35μm或更小。
Rku受刷接觸的頻率影響，且具體地說，其取決于轉(zhuǎn)速、加工時間、和加工操作的次數(shù)而變化。通常地，在開始加工時Rku值大，且隨著加工的進行而降低。因此，可通過在加工期間測量Rku并當Rku達到本發(fā)明限定范圍內(nèi)的數(shù)值時停止加工，獲得具有形成在其中的期望的弧形槽的基底。
(生產(chǎn)方法)用于生產(chǎn)本發(fā)明電子照相光感受器基底的方法的實例顯示在圖1中。通過膨脹/保持機構(gòu)(2)保持基底(1)并在其軸上旋轉(zhuǎn)。設(shè)置輪狀刷(3)以便于與基底相接觸。使刷在基底上移動，同時在其軸上旋轉(zhuǎn)。在使用輪狀刷的情況中，不具體限定旋轉(zhuǎn)方向。然而，優(yōu)選刷在基底表面上的移動方向與整個刷在基底上的移動方向相同。不限定整個刷在基底上的移動方向，只要基底與刷相接觸且對應(yīng)于成像區(qū)域的整個基底表面與刷相接觸。然而，優(yōu)選刷以平行于基底的軸的方向在基底上移動。
雖然通常刷在基底上進行一次移動已經(jīng)足夠，但可進行兩次或多次移動。在刷進行兩次或多次移動的情況中，可沿著相同的方向移動或可以往復(fù)方式在基底上移動。在輪狀刷的情況中，對刷進行定位，以便于刷軸不平行于基底，以根據(jù)本發(fā)明形成弧形槽。為了防止由于基底和刷軸的傾斜以及刷的部分磨損而產(chǎn)生的不均勻接觸導(dǎo)致加工不均勻性，刷優(yōu)選置于這樣的位置，使得刷軸和基底軸不共平面(扭轉(zhuǎn)的位置)。在基底的旋轉(zhuǎn)軸平行于刷軸的情況中，不能形成本發(fā)明的彎曲且不連續(xù)的弧形槽特性。此外，當旋轉(zhuǎn)軸平行于刷軸時，由剛毛長度或密度的不同導(dǎo)致的刷的拋光能力中的刷-軸-方向不均勻性直接轉(zhuǎn)移到基底表面。結(jié)果，這樣拋光的基底表面的狀態(tài)在軸向上不均勻。雖然其中刷或者基底相互(on the other)在軸向上振動的技術(shù)(例如JP-A-9-114118中所描述的)有效地減少加工的局部不均勻性，當在整個軸向上進行觀察時，這樣加工的基底具有加工不均勻性。
在如圖1所示的其中對基底(1)和輪狀刷(3)進行設(shè)置，以便于基底(1)的軸幾乎垂直于刷(3)的軸的情況中，通過將刷轉(zhuǎn)速設(shè)定在低的值并將工作面積設(shè)定在小的值，形成當展開基底(1)時斜的弧形槽(例如在圖2中所示的那些)。當使用高的刷轉(zhuǎn)速和大的工作面積時，形成以斜的網(wǎng)格圖樣排列的弧形槽(例如圖3所示的那些)。由于其高的生產(chǎn)率，更優(yōu)選后一方法。
雖然該實例使用輪狀刷，但可以使用其它形狀的刷(例如，如圖4中所示的刷(3’)的杯狀刷)。在杯狀刷的情況中，刷軸和基底軸可以共平面，只要兩軸不相互平行。在輪狀刷的情況中，可以為通過以Z形排列將剛毛設(shè)置在支持物中而形成的刷。然而，輪狀刷優(yōu)選為通過例如在軸周圍卷繞溝道刷(channel brush)以具有更高安置密度而形成的刷。
還可以使用如圖5所示的兩種或多種刷。兩種或多種刷的使用改進了生產(chǎn)率。此外，由于通過在不同旋轉(zhuǎn)條件下對刷進行操作而得到具有更復(fù)雜形狀的粗糙表面，進一步改進抑制干涉條紋的效果。
優(yōu)選在基底上噴灑清洗液或?qū)⒒捉n在清洗液中的同時，進行用于表面粗糙化的加工，以從基底表面去除脫落(shed)的拋光粉塵和研磨劑顆粒。作為清洗液可以使用包括有機洗滌劑和水基洗滌劑的各種洗滌劑中的任何一種。為了防止細顆粒的粘合，還可以使用氨水(ammoniacal water)(例如用于半導(dǎo)體清洗中的氨水)。
作為用于表面粗糙化的加工的結(jié)果，暴露出基底材料的新生表面。由于這一原因，在加工后不立即進行涂覆的情況中，可使用加工油代替清洗液，以防止表面粗糙化加工期間的表面腐蝕，從而保護該表面。在這種情況中，還優(yōu)選在表面粗糙化加工之后和涂覆步驟之前進行最終清洗。從提高生產(chǎn)率的觀點來看，更優(yōu)選在涂覆步驟之前，將表面粗糙化步驟并入基底清洗步驟中。例如，如圖6所示，將本發(fā)明的表面粗糙刷(3)剛好置于清潔刷(4)之下，從而在表面粗糙后，立即對基底進行強有力的物理清潔。也就是說，可以在保持清潔的基底表面狀態(tài)的同時，進行表面粗糙化。
雖然本發(fā)明的用于在基底中形成弧形槽的方法為如上所述，但在形成弧形槽之前，可以對本發(fā)明的基底進行任何期望的加工。這種加工包括在上述基底的形成中進行的加工，例如擠出、拉制、車削、研磨、和拋光。在很多情況中，在其中將形成弧形槽的基底通常具有平滑鏡面。當通過上述方法使該鏡面粗糙時，僅如圖2或3所示在基底表面中形成弧形槽。然而，當在形成弧形槽之前，對基底進行各種加工中的任何一種時，根據(jù)加工，在基底表面中形成非弧形槽的槽。在形成弧形槽之前進行某些加工的情況中，可以通過圖7(a)-(c)中給出的流程圖所示的方法，進行表面粗糙化。通過參考情況實例，下面將對圖7(a)-(c)所示的方法進行詳細說明。然而，應(yīng)當注意，本發(fā)明不限于下列情況實例的結(jié)構(gòu)且在進何期望的改進后可以進行實踐。
(情況1)在形成弧形槽之前，可以預(yù)先對基底表面進行，例如，粗車和精車(例如，如圖7(a)所示)。下面對其進行說明，其中將具有平滑表面并通過擠出和拉制形成的圓筒形管(在下文中適宜地稱作“原管”)用作將在其中形成弧形槽的基底的實例。
圖8為顯示用于原管的粗車和精車的車削裝置實例的傾斜視圖。如圖8所示，該車削裝置為用于以切削刀具11對圓筒形原管10的外圍進行車削的裝置，其包括切削刀具11、刀具架12、導(dǎo)管13、機床身14、滑動臺15、和機頭16。
切削刀具11為用于車削原管10的直頭車刀。作為切削刀具11通常使用其中尖端11A已經(jīng)與具有矩形截面的柄整體形成的整體刀具或鑲?cè)械毒撸渲幸呀?jīng)將尖端可拆卸地固定在柄的末端的組合刀具等。在此，對使用后一種刀具的裝置(即組合刀具)進行說明。
刀具架12是用于將切削刀具11固定在其中的臺。該切削刀具11已經(jīng)固定到刀具架12上，該刀具的柄指向原管10的徑向。
導(dǎo)管13是用于引導(dǎo)已附著到刀具架12的側(cè)面的切屑的管。設(shè)置該導(dǎo)管13的入口，以便于面對切削刀具11的尖端11A，且設(shè)置導(dǎo)管13，以便于沿著切屑流的方向進行延伸。
機床身14是用于支撐圖8所示車削裝置的各組件的基底部。其為具有平頂?shù)幕?br> 此外，滑動臺15是可移動地附著到機床身14的臺，且刀具架12已經(jīng)置于其上側(cè)。滑動臺15具有可沿著機床身14的頂部以任何期望的方向進行移動的結(jié)構(gòu)。因此，刀具架12以及已經(jīng)附著到刀具架12的切削刀具11和導(dǎo)管13可隨著滑動臺14的移動而移動。
一對機頭16是用于保持附著到機床身14上的原管10的部件。其具有在保持原管10的末端的同時，使原管10進行旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。
圖8所示的車削裝置具有上述結(jié)構(gòu)。當使用該車削裝置時，進行下列操作。
在粗車中，首先設(shè)置原管10以使機頭16對其進行保持。其后，在通過機頭16對原管10進行旋轉(zhuǎn)的同時，移動滑動臺15以使切削刀具11的尖端11A與原管10的表面相接觸并進行粗車。進行該粗車是為了去除基底的壁厚不均勻性和彎曲度。將車削所造成的切屑引導(dǎo)通過導(dǎo)管13到廢料盒(未示出)中。
作為以切削刀具11進行車削的結(jié)果，在原管10的表面中，沿著旋轉(zhuǎn)方向形成幾乎在原管10的圓周方向上延伸的槽(在下文中適宜地稱作“環(huán)形槽”)。
順便提及，粗車經(jīng)常導(dǎo)致形成車削毛邊(凸出)，稱為“須狀物”。在其中這種須狀物保持的情況中，其導(dǎo)致在成像中的泄漏或?qū)е略谕ㄟ^反轉(zhuǎn)顯影的成像中的黑點缺陷。因而期望預(yù)先去除該須狀物。
因而，通常進行精車以去除該須狀物并改進基底的尺寸精度。與在粗車中一樣，在精車中，通過機頭16保持原管10，并在旋轉(zhuǎn)該原管10的同時，移動滑動臺15以使切削刀具11的尖端11A與原管10的表面相接觸以進行車削。然而，在精車中，控制操作條件以使其適于該目的。具體地說，精確控制包括滑動臺15的移動速度、原管10的轉(zhuǎn)速、切削刀具11的切削量、和切削刀具11的滑動速度的車削條件。
通過這樣進行粗車和精車，在原管10的表面中形成適于基底表面粗糙化的環(huán)形槽。然而，應(yīng)當注意，由于環(huán)形槽直且連續(xù)并具有非常高的規(guī)則性，其在抑制上述干涉條紋方面效果很小。
因此，通過上述方法在其中已形成環(huán)形槽的原管10的表面中形成弧形槽，從而生產(chǎn)用于電子照相光感受器的基底。也就是說，將柔性材料與其中已形成環(huán)形槽的原管10的表面相接觸，并使其在原管10的表面上移動。結(jié)果，基底表面變得具有如圖9所示的弧形槽和環(huán)形槽。圖9為顯示在已經(jīng)在平面上展開的基底表面中形成的槽的形狀的一個實例的簡圖。在平面上展開的基底表面由符號10’表示。
在形成弧形槽之前，通過這樣進行粗車和精車，使基底表面具有比僅形成環(huán)形槽的情況更復(fù)雜的形狀，從而可進一步擾亂由基底表面反射的光的規(guī)則性。此外，與現(xiàn)有技術(shù)相反，在現(xiàn)有技術(shù)中由于環(huán)形槽直且連續(xù)并具有非常高的規(guī)則性，通過車削形成的環(huán)形槽在抑制干涉條紋效果很小，而其中除環(huán)形槽外還形成弧形槽的上述方法使得可獲得充分的抑制干涉條紋的效果。
(情況2)可使用例如其中在形成如圖7(b)所示的弧形槽之前進行精車而不進行粗車的方法。在此可使用已預(yù)先賦予令人滿意的精度的拉制管等，或為了實現(xiàn)車削成本的降低，進行該加工。在下面給出說明，其中將原管用作其中將形成弧形槽的基底的實例。
以例如圖8所示的車削裝置進行精車。在此省略對以圖8所示的車削裝置進行的精車的說明，因為在情況1中已對該加工進行說明。
通過這樣進行精車，在原管10的表面中形成幾乎在原管10的圓周方向上延伸的環(huán)形槽。然而，應(yīng)當注意該精車應(yīng)以增加的量進行，這不同于與粗車組合進行的精車。因為這一原因，經(jīng)常形成稱為″須狀物″的凸出。
在上述情況1中，在粗車后進行精車以去除須狀物并改善基底精度。然而，在情況2中，通過上述表面粗糙方法，對已經(jīng)進行精車的原管10進行處理，從而在其中形成弧形槽。也就是說，將柔性材料與其中已形成環(huán)形槽的原管10的表面相接觸，并使其在原管10的表面上移動。
結(jié)果，去除了形成在原管10的表面上的須狀物并可獲得具有在其表面中形成的如圖9所示的環(huán)形槽和弧形槽的電子照相光感受器基底。從而通過該方法，也可獲得足夠的抑制干涉條紋的效果。因此，在形成弧形槽之前，通過這樣進行精車而不進行粗車，使該基底表面具有比僅形成環(huán)形槽的情況更復(fù)雜的形狀，從而與情況1相同，可進一步擾亂由基底表面反射的光的規(guī)則性。
此外，與情況1(即其中預(yù)先進行粗車和精車的情況)相反，可消除進行粗車的麻煩。因此，可降低生產(chǎn)本發(fā)明基底所需的時間。
(情況3)在形成如圖7(c)所示的弧形槽之前，可對基底的表面進行例如減徑擠壓。
圖10為用于減徑擠壓擠塑管21的減徑擠壓裝置的部分剖面正視圖。圖10(a)顯示了其中已經(jīng)放置擠塑管21作為減徑擠壓的準備的減徑擠壓裝置，而圖10(b)顯示了減徑擠壓后的整個裝置，其中與管21和沖頭22緊密接觸的伸出用于從沖頭22上分離擠塑管21的卡爪24恰好在上升之前的狀態(tài)。擠塑管21的一端具有小于管21的其它部分的內(nèi)徑，從而沖頭22(其將在后面描述)可從內(nèi)部壓該管。
圖10所示的減徑擠壓裝置為其中圓筒形擠塑管21通過沖模以進行減徑擠壓的裝置。其包括沖頭22、模座23、卡爪24、液壓缸25、沖頭座板26、導(dǎo)板27、夾具28、和泵29。
沖頭22是壓制元件，其進入擠塑管21并將擠望管21壓進附著到模座23的沖模中。
模座23是其中配置有沖模的沖模-保持部件。
卡爪24是用于在減徑擠壓后，從沖頭22分離擠塑管21的卡爪。
液壓缸25是用于使沖頭22在圖中向上和向下地上升和下降的沖頭-驅(qū)動部件。
沖頭座板26是用于向其中固定沖頭22的沖頭-保持部件。其能夠與在圖中與沖頭22一起向上和向下的沿著導(dǎo)板27(其將在后面描述)上升和下降。
導(dǎo)板27是用于引導(dǎo)沖頭座板26在圖中向上和向下運動的引導(dǎo)部件。夾具28是用于接收從沖頭22分離的擠塑管21的夾具。
此外，泵29是用于在減徑擠壓過程中，向減徑擠壓的部件提供潤滑油的泵。其可向由模座23保持的沖模提供潤滑油，同時對油進行循環(huán)。
圖10所示的減徑擠壓裝置具有上述結(jié)構(gòu)。當使用該減徑擠壓裝置時，進行下列操作。
在減徑擠壓中，首先操作泵29以使?jié)櫥脱h(huán)通過沖模。在循環(huán)潤滑油的同時，將待加工的擠塑管21附著到?jīng)_頭22。此時，沖頭22在模座23上方的極限位置備用。
其后，轉(zhuǎn)換用于向液壓缸25提供液壓的液壓泵(未示出)的閥門以操作該液壓缸25。隨著操作液壓缸25沖頭22下降。在該操作中，沖頭22下降同時以其前端推擠塑管21的一端(圖10中的下端)。
隨著沖頭22下降，擠塑管21通過附著在模座23上的沖模。當擠塑管21通過沖模時，對其重復(fù)進行減徑擠壓并加工為給定的尺寸。此外，作為減徑擠壓的結(jié)果，形成沿擠塑管21的軸向延伸的槽(在下文中適宜地稱作“軸向溝槽”)。
在擠塑管21通過所有沖模后，卡爪24前進以限制(confine)擠塑管21的另一端(上端)。其后，轉(zhuǎn)換操作液壓缸25的液壓泵的閥門，且液壓缸25升高沖頭22。通過卡爪24，將已經(jīng)推進以便于與沖頭22緊密接觸的擠塑管21從沖頭22進行分離，并轉(zhuǎn)移到夾具28。沖頭22返回模座23上方的極限位置。
作為這樣進行的減徑擠壓的結(jié)果，將擠塑管21加工為給定的尺寸并形成軸向溝槽。由于該軸向溝槽，管21變得具有粗糙的表面。然而，由于軸向溝槽是沿著擠塑管21的軸向線性且連續(xù)形成的，槽高度規(guī)則且僅具有軸向溝槽的表面粗糙在抑制干涉條紋方面效果很小。
因而通過上述方法在已經(jīng)過減徑擠壓的擠塑管21中形成弧形槽。也就是說，將柔性材料與其中已形成軸向溝槽的擠塑管21的表面相接觸，并使其在原管10的表面上移動。
結(jié)果，可獲得如圖11所示的具有除了軸向溝槽以外還具有形成在其中的弧形槽的電子照相光感受器基底。因此，與其中通過減徑擠壓形成軸向溝槽的情況相反(在該情況中，由于槽直且連續(xù)并具有非常高的規(guī)則性，其對干涉條紋的抑制效果低)，由于除了軸向溝槽以外還形成弧形槽，上述方法使其可以獲得足夠的抑制干涉條紋的效果。圖11為顯示在獲得的基底表面中形成的槽的形狀的一個實例的簡圖，其中該基底表面展開成平面。以符號21′表示該在平面上展開的基底表面。
此外，作為通過上述表面粗糙方法形成弧形槽的結(jié)果，軸向溝槽的Rz、RKu、槽寬度L等值也達到優(yōu)選范圍。因此，通過在形成弧形槽之前進行減徑擠壓，使基底表面具有比僅形成軸向溝槽的情況更復(fù)雜的形狀，從而進一步擾亂由基底表面反射的光的規(guī)則性。
此外，通過減徑擠壓進行的成型在生產(chǎn)率上遠優(yōu)于通過車削進行的成型。因此，與通過車削進行表面粗糙或成型的情況(如情況1和2)相比，通過減徑擠壓形成基底，可使生產(chǎn)本發(fā)明基底所需的時間顯著降低。
順便提及，Rz、Rku、槽寬度L等值不必總是在上述的范圍內(nèi)，只要已經(jīng)對用作電子照相光感受器基底的基底表面進行足夠的粗糙化即可。
(電子照相光感受器)本發(fā)明的電子照相光感受器基底具有特定的弧形槽。由于這一原因，通過對基底表面的曝光光線反射賦予不規(guī)則性，消除由這樣的現(xiàn)象引起的干涉條紋，在該現(xiàn)象中，寫入光被基底表面和各涂膜之間的界面反射并由于各涂膜厚度的輕微差別，發(fā)生干涉導(dǎo)致在電荷產(chǎn)生層的光作用，從而具有強度上的不均勻性。
因此，使用本發(fā)明電子照相光感受器基底的電子照相光感受器的光敏層可具有通常用于電子照相光感受器的任何已知結(jié)構(gòu)。例如，除了所謂的分散型的單層光敏層以外，可應(yīng)用所謂的多層型的光敏層，該多層型光敏層包含包括含有電荷產(chǎn)生材料的電荷產(chǎn)生層和含有電荷傳輸材料的電荷傳輸層的懸浮層(superposed layer)，該分散型光敏層包含含有電荷傳輸材料和分散在其中的電荷產(chǎn)生材料的顆粒的電荷傳輸介質(zhì)。各種多層型的光感受器是已知的，其包括包含以這樣的順序在基底上疊加電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層的光感受器(在下文中有時稱作正序(right-order)重疊多層型的光敏層)和包含以逆序疊加這些層的光感受器(在下文中有時稱作逆序重疊多層型的光敏層)。本發(fā)明電子照相光感受器的光敏層可具有這些結(jié)構(gòu)中的任一種。
對于曝光光源，當然可使用通常廣泛使用的具有700-850nm相對長波長的光和具有350-500nm相對短波長的光。不管波長，本發(fā)明的基底適用于其中存在干涉條紋問題的所有電子照相光感受器。
(電荷產(chǎn)生材料)任何期望的電荷產(chǎn)生材料可用于本發(fā)明的含有電荷傳輸材料的電子照相光敏層?？墒褂美纾瑹o機光電導(dǎo)顆粒例如硒、硒-碲合金、硒-砷合金、硫化鎘、和非晶硅及各種有機顏料和染料例如無金屬酞菁、含金屬酞菁、perinone顏料、靛藍、硫靛藍、喹吖啶酮、苝顏料、蒽醌顏料、偶氮顏料、雙偶氮顏料、三偶氮顏料、四偶氮顏料、花青顏料、多環(huán)醌顏料、吡喃鎓鹽、噻喃鎓(thiopyrylium)鹽、蒽嵌蒽醌、和皮蒽酮。可以單獨使用一種電荷產(chǎn)生材料，或以任何期望的比例使用兩種或多種電荷產(chǎn)生材料的任何期望的組合。
從獲得具有高靈敏度的光感受器的觀點來看，其中優(yōu)選無金屬酞菁、具有配位到其中的金屬或金屬氧化物或氯化物的酞菁(其中這些金屬或金屬氧化物或氯化物例如銅、氯化銦、氯化鎵、錫、氧化鈦(oxytitanium)、鋅、或釩)、和偶氮顏料(例如單偶氮、雙偶氮、三偶氮、和多偶氮化合物)。
在這些電荷產(chǎn)生材料中，在提供對具有相對長波長的激光具有高靈敏度的光感受器方面，無金屬酞菁和含金屬酞菁是有利的。此外，在對具有相對短波長的白光和激光具有足夠的靈敏度方面，偶氮顏料(例如單偶氮、雙偶氮、和三偶氮化合物)是有利的。
在酞菁中，尤其優(yōu)選在以CuKα特征X射線獲得的X射線衍射光譜中，在27.3°的布拉格角(2θ±0.2°)處顯示主衍射峰的氧化鈦酞菁，在9.3°、13.2°、26.2°、和27.1 °的布拉格角處顯示主衍射峰的氧化鈦酞菁，在9.2°、14.1 °、15.3°、19.7°、和27.1°的布拉格角處顯示主衍射峰的二羥基硅酞菁，在8.5°、12.2°、13.8°、16.9°、22.4°、28.4°、和30.1°的布拉格角處顯示主衍射峰的二氯錫酞菁，在7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1 °、和28.3°的布拉格角處顯示主衍射峰的羥基鎵酞菁，和在7.4°、16.6°、25.5°、和28.3°的布拉格角處顯示衍射峰的氯代鎵(chlorogallium)酞菁。
在分散型光敏層的情況中，電荷產(chǎn)生材料的粒徑應(yīng)足夠小。待使用的電荷產(chǎn)生材料的粒徑優(yōu)選為1μm或更小，更優(yōu)選0.5μm或更小。將分散在分散型光敏層中的電荷產(chǎn)生材料的量為例如，0.5-50重量％。在其量太小的情況中，不能獲得足夠的靈敏度。其量太大將產(chǎn)生不利的影響例如電荷接收能力降低和靈敏度降低。更優(yōu)選，電荷產(chǎn)生材料的用量為1-20重量％。待使用的分散型光敏層的厚度通常為5-50μm，更優(yōu)選10-45μm。
(電荷產(chǎn)生層)電荷產(chǎn)生材料與粘合劑聚合物(粘合劑樹脂)且任選地進一步與其它有機光電導(dǎo)化合物、著色劑、吸電子化合物等一起溶解或分散于溶劑中。將獲得的涂布液涂覆到基底上并干燥以獲得電荷產(chǎn)生層。
不具體限定可任選地加入本發(fā)明電荷產(chǎn)生層中的染料/顏料，且其實例包括三苯甲烷染料(例如甲基紫、亮綠、和結(jié)晶紫)、噻嗪染料(例如亞甲藍)、奎寧染料(例如醌茜)、花青染料、吡喃鎓(byrylium)鹽、噻喃鎓(thiabyrylium)鹽、和苯并吡喃鎓(benzobyrylium)鹽。也不具體限定與芳基胺化合物形成電荷轉(zhuǎn)移絡(luò)合物的吸電子化合物。其實例包括吸電子化合物例如奎寧類(例如氯醌、2，3-二氯-1，4-萘醌、1-硝基蒽醌、1-氯-5-硝基蒽醌、2-氯蒽醌、和菲醌)；醛類例如4-硝基苯甲醛；酮類例如9-苯甲?；?、茚滿二酮、3，5-二硝基二苯甲酮、2，4，7-三硝基芴酮、2，4，5，7-四硝基芴酮、和3，3′，5，5′-四硝基二苯甲酮；酸酐例如鄰苯二甲酸酐和4-氯萘二甲酸酐；氰基化合物例如四氰乙烯、對苯二酰丙二腈(terephthalylmalononitrile)、9-蒽基亞甲基丙二腈、4-硝基亞芐基丙二腈、和4-(對-硝基苯酰氧基)亞芐基丙二腈；和苯酞化合物例如3-亞芐基酞、3-(α-氰基-對-硝基亞芐基)苯酞、和3-(α-氰基-對-硝基亞芐基)-4，5，6，7-四氯苯酞?？梢詥为毷褂眠@些有機光電導(dǎo)化合物、著色劑、吸電子化合物等中的一種，或以任何期望的比例使用其中兩種或多種的任何期望的組合。
以通過將材料與任意的各種粘合劑樹脂相粘合而獲得的形式使用電荷產(chǎn)生層，其中粘合劑樹脂例如，聚酯樹脂、聚醋酸乙烯酯、聚酯、聚碳酸酯、聚(乙烯基乙?？s乙醛)(poly(vinyl acetoacetal))、聚乙烯醇縮丙醛、聚乙烯醇縮丁醛、苯氧基樹脂、環(huán)氧樹脂、聚氨酯樹脂、纖維素酯、和纖維素醚。粘合劑樹脂的實例進一步包括乙烯基化合物的聚合物和共聚物，其中這些乙烯基化合物例如苯乙烯、醋酸乙烯酯、氯乙烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、乙烯醇、和乙基乙烯基醚、聚酰胺、和硅樹脂。
在該情況中待使用的電荷產(chǎn)生材料的比例通常為20-2,000重量份，優(yōu)選30-500重量份，更優(yōu)選33-500重量份，以100重量份粘合劑樹脂。期望的電荷產(chǎn)生層的厚度通常為0.05-5μm，優(yōu)選0.1μm-2μm，更優(yōu)選0.15μm-0.8μm。該電荷產(chǎn)生層可為通過氣相沉積形成的電荷產(chǎn)生材料的膜。
(電荷傳輸材料)不具體限定電荷傳輸材料，且可任意使用已知的電荷傳輸材料。其實例包括吸電子物質(zhì)例如芳族硝基化合物(例如2，4，7-三硝基芴酮)、氰基化合物例如四氰基喹啉并二甲蘭(tetracyanoquinodimetan)、和醌類例如二苯酚合苯醌；和給電子物質(zhì)例如雜環(huán)化合物，諸如咔唑衍生物、吲哚衍生物、咪唑衍生物、噁唑衍生物、吡唑衍生物、噁二唑衍生物、吡唑啉衍生物、和噻二唑衍生物、苯胺衍生物、腙化合物、芳族胺化合物、茋衍生物、丁二烯衍生物、烯胺化合物，由這些化合物中的兩種或多種相互結(jié)合而構(gòu)成的化合物，和在其主鏈或側(cè)鏈中具有由這些化合物衍生的基團的聚合物。其中優(yōu)選咔唑衍生物、腙衍生物、芳族胺衍生物、茋衍生物、丁二烯衍生物、和由這些衍生物中的兩種或多種相互結(jié)合而構(gòu)成的化合物。尤其優(yōu)選由芳族胺衍生物、茋衍生物、和丁二烯衍生物中的兩種或多種相互結(jié)合而構(gòu)成的化合物。可以單獨使用這些電荷傳輸材料中的一種，或以任何期望的比例使用其中兩種或多種的任何期望的組合。
(粘合劑樹脂)不特別限定在多層光敏層的情況下在電荷傳輸材料中使用的粘合劑樹脂或在分散型光敏層的情況下用作基體的粘合劑樹脂。然而，優(yōu)選使用具有令人滿意的與電荷傳輸材料的相容性且提供電荷傳輸材料在其中既不結(jié)晶也不發(fā)生相分離的涂膜的聚合物。其實例包括各種聚合物例如乙烯基化合物的聚合物和共聚物，其中這些乙烯基化合物例如苯乙烯、醋酸乙烯酯、氯乙烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、和丁二烯、聚乙烯醇縮乙醛、聚碳酸酯、聚酯、聚酯碳酸酯、聚砜、聚酰亞胺、聚苯醚、聚氨酯、纖維素酯、纖維素醚、苯氧基樹脂、硅樹脂、和環(huán)氧樹脂。還可使用這些聚合物的部分交聯(lián)/固化的產(chǎn)物?？蓡为毷褂靡环N粘合劑樹脂，或以任何期望的比例使用兩種或多種粘合劑樹脂的任何期望的組合。
更大的粘合劑量產(chǎn)生層的更高機械強度并在這點上是優(yōu)選的。然而，較大的粘合劑量導(dǎo)致芳基胺化合物含量的相對減少并因而降低電子照相性能。因此，按重量計，待使用的粘合劑的量通常為芳基胺化合物的量的至少0.5倍，優(yōu)選至少0.7倍，尤其優(yōu)選至少0.9倍，且按重量計，通常為芳基胺化合物的量的至多30倍，優(yōu)選至多10倍，尤其優(yōu)選至多8倍。
(電荷傳輸層)可以單獨使用待加入多層光敏層的電荷傳輸層中的電荷傳輸材料，或以任何期望的比例使用其兩種或多種物質(zhì)的任何期望的組合的混合物。在多層光敏層的情況中，通常形成其中已將任意這些電荷傳輸材料束縛于粘合劑樹脂中的電荷傳輸層。該電荷傳輸層可由單層組成或可由組分或組成不同的懸浮層組成。
粘合劑樹脂對電荷傳輸材料的比例如下。由于電荷傳輸材料對粘合劑樹脂的比例太小，導(dǎo)致電子照相性能下降，電荷傳輸材料的用量通常為30重量份或更大，優(yōu)選40重量份或更大，以粘合劑樹脂計。另一方面，由于電荷傳輸材料對粘合劑樹脂的比例太大，導(dǎo)致具有降低的機械強度的電荷傳輸層，電荷傳輸材料的用量通常至多200重量份，優(yōu)選至多150重量份，以100重量份粘合劑樹脂計。
待使用的電荷傳輸層的厚度通常為10-60μm，優(yōu)選10-45μm，更優(yōu)選15-40μm。
(添加劑)本發(fā)明電子照相光感受器的光敏層可含有用于改進成膜性能、柔性、和機械強度的添加劑(例如已知的增塑劑和交聯(lián)劑)、抗氧化劑、穩(wěn)定劑、敏化劑、和用于改進適用性的各種流平劑和分散劑。增塑劑的實例包括鄰苯二甲酸酯、磷酸酯、環(huán)氧化合物、氯化石蠟、氯化脂肪酸酯、和芳族化合物例如甲基萘。流平劑的實例包括硅油和氟化物油?？寡趸瘎┑膶嵗ㄊ茏璺踊衔铩⑹茏璋坊衔?、和芐胺化合物。
(其它功能層)當然，這樣形成的光感受器可具有用于根據(jù)需要改進電子照相性能或機械性能的層，例如中間層(如，隔離層、粘合層、或阻擋層)，透明絕緣層、或保護層。
已知的主要由例如熱塑性樹脂或熱固性樹脂制得的外涂層可形成為最外層。
(溶劑)不具體限定用于制備涂布液的溶劑。其實例包括其中可溶解芳基胺化合物的溶劑。這種溶劑包括醚類例如四氫呋喃和1，4-二噁烷；酮類例如甲基乙基酮和環(huán)己酮；芳族烴例如甲苯和二甲苯；非質(zhì)子極性溶劑例如N，N-二甲基甲酰胺、乙腈、N-甲基吡咯烷酮、和二甲基亞砜；酯類例如乙酸乙酯、甲酸甲酯、和甲基溶纖劑乙酸酯；和氯代烴類例如二氯乙烷和氯仿。當然，必要的是，可溶解粘合劑的溶劑應(yīng)選自這些物質(zhì)?？梢詥为毷褂眠@種用于制備涂布液的溶劑，或以任何期望的比例使用其中兩種或多種溶劑的任何期望的組合。
(層形成方法)為了進行涂覆以形成光敏層，可使用任何已知的技術(shù)，例如噴涂、螺旋涂布(spiral coating)、環(huán)形涂布(ring coating)、和浸涂。然而，通常使用浸涂。
噴涂技術(shù)包括空氣噴涂、真空噴涂、靜電空氣噴涂、靜電真空噴涂、靜電旋轉(zhuǎn)噴涂、熱噴涂、和熱真空噴涂。然而，從獲得均勻的膜厚度所必需的粒度降低、粘合效率等觀點來看，優(yōu)選使用靜電旋轉(zhuǎn)噴涂，其中該輸送方法公開在PCT專利申請1-805198號的國內(nèi)再公布中，即，使用其中采用旋轉(zhuǎn)對圓筒形工件進行連續(xù)輸送，而不在軸向中在鄰近的工件之間形成間隙的方法。通過該噴涂，可獲得具有優(yōu)良的膜厚度均勻性的電子照相光感受器，同時獲得高的總體粘合效率。
螺旋涂布的實例包括在JP-A-52-119651中公開的使用流延涂布機或幕涂機的方法，公開在JP-A-1-231966中，其中涂布液以連續(xù)線的形式從微小開口流出的方法，和公開在JP-A-3-193161中的使用多噴嘴的方法。
隨后，對涂膜進行干燥。優(yōu)選對干燥溫度和干燥時間進行控制，以進行必要且充分的干燥。干燥溫度通常為100-250℃，優(yōu)選110-170℃，更優(yōu)選120-140℃。對于干燥可使用熱風(fēng)干燥器、蒸汽干燥器、紅外線干燥器、遠紅外線干燥器等。
(成象裝置)使用本發(fā)明的電子照相光感受器的成象裝置的實施方式(本發(fā)明成象裝置)將在下面通過參考圖12而進行說明，圖12顯示了該裝置的重要部件的結(jié)構(gòu)。然而，不應(yīng)認為這些實施方式限于下列說明，且不脫離本發(fā)明的精神，可對本發(fā)明進行任何期望的改進。
如圖12所示，成象裝置包括電子照相光感受器31、充電設(shè)備32、曝光設(shè)備33、和顯影設(shè)備34。根據(jù)需要，還可配置轉(zhuǎn)印設(shè)備35、清潔器36、和定影設(shè)備37。
不具體限定電子照相光感受器31，只要其為上述本發(fā)明的電子照相光感受器即可。作為其實例，圖12顯示了包括圓筒形電導(dǎo)基底和形成在其上的上述光敏層的鼓形光感受器。沿著該電子照相光感受器31的外圍表面，設(shè)置充電設(shè)備32、曝光設(shè)備33、顯影設(shè)備34、轉(zhuǎn)印設(shè)備35、和清潔器36。
充電設(shè)備32用于對電子照相光感受器31進行充電。其對電子照相光感受器31的表面進行均勻充電以達到給定電位。作為充電設(shè)備，經(jīng)常使用電暈充電設(shè)備例如電暈管或scorotron；直接-充電設(shè)備，其中將施加了電壓的直接-充電元件與光感受器表面相接觸，以對其進行充電(接觸型充電設(shè)備)；接觸型充電設(shè)備例如充電刷；等。直接-充電設(shè)備的實例包括接觸充電設(shè)備例如充電輥和充電刷。圖12顯示了作為充電設(shè)備32的實例的輥型充電設(shè)備(充電輥)。為了進行直接充電，可使用伴隨有氣體放電的充電和不伴隨有氣體放電的注入充電中的任何一種。作為待施加以用于充電的電壓，可單獨使用直流電壓或在直流電上疊加交流電而獲得的電壓。
不具體限定曝光設(shè)備33的種類，只要其可照亮電子照相光感受器31并從而在電子照相光感受器31的光敏表面中形成靜電潛象即可。其實例包括鹵素?zé)?、熒光燈、激光器例如半?dǎo)體激光器和He-Ne激光器、以及LED。還可以通過內(nèi)部光感受器曝光技術(shù)進行曝光?？墒褂萌魏纹谕墓庖杂糜谄毓?。例如，可使用波長為780nm的單色光、600nm-700nm的稍短波長的單色光、380nm-500nm的短波長的單色光等以進行曝光。
不具體限定顯影設(shè)備34的種類，可使用任何期望的設(shè)備，例如通過干式顯影技術(shù)、液體顯影技術(shù)等進行操作的設(shè)備，該干式顯影技術(shù)例如瀑布顯影(cascade development)、以單組分絕緣調(diào)色劑進行的顯影、以單組分導(dǎo)電調(diào)色劑進行的顯影、或兩組分磁刷顯影。在圖12中，顯影設(shè)備34包括顯影室41、攪拌器42、加料輥43、顯影輥44、和a控制元件45。該設(shè)備具有使調(diào)色劑T貯存在顯影室41中的結(jié)構(gòu)。根據(jù)需要，顯影設(shè)備34可以裝配有用以補充調(diào)色劑T的補充設(shè)備(未示出)。該補充設(shè)備具有可從容器(例如瓶或盒)中提供調(diào)色劑T的結(jié)構(gòu)。
加料輥43由導(dǎo)電海綿等制得。顯影輥44包括由鐵、不銹鋼、鋁、鎳等制得的金屬輥、通過以樹脂(例如有機硅樹脂、聚氨酯樹脂、或氟樹脂等)涂覆這種金屬輥而獲得的樹脂輥。根據(jù)需要，可對該顯影輥44的表面進行表面-平滑處理或表面-粗糙處理。
將顯影輥44置于電子照相光感受器31和加料輥43之間并同時與電子照相光感受器31和加料輥43相接觸。通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)(未示出)使加料輥43和顯影輥44進行旋轉(zhuǎn)。加料輥43保持貯存的調(diào)色劑T并將其提供給顯影輥44。顯影輥44保持由加料輥43供給的調(diào)色劑T并使其與電子照相光感受器31的表面相接觸。
控制元件45包括由有機硅樹脂、聚氨酯樹脂等制得的樹脂刮刀，由不銹鋼、鋁、銅、黃銅、磷青銅等制得的金屬刮刀，通過以樹脂涂覆這種金屬刮刀而獲得的刮刀等。該控制元件45與顯影輥44相接觸并由彈簧等以給定的力(該線性刮刀壓力通常為5-500g/cm)推壓顯影輥44。根據(jù)需要，該控制元件45可具有基于通過與調(diào)色劑T摩擦而起電，對調(diào)色劑T進行充電的功能。
通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)對各攪拌器42進行旋轉(zhuǎn)。這些攪拌器對調(diào)色劑T進行攪動并將調(diào)色劑T輸送到加料輥43側(cè)?？梢匝b配刮刀形狀、尺寸等不同的兩種或多種攪拌器42。
不具體限定轉(zhuǎn)印設(shè)備35的種類，且可使用由選自靜電轉(zhuǎn)印技術(shù)、壓力轉(zhuǎn)印技術(shù)、粘附轉(zhuǎn)印技術(shù)等(例如電暈轉(zhuǎn)印、輥轉(zhuǎn)印、和帶轉(zhuǎn)印)的任何期望的技術(shù)進行操作的設(shè)備。在此，轉(zhuǎn)印設(shè)備35是由設(shè)置以便于面對電子照相光感受器31的轉(zhuǎn)印充電器、轉(zhuǎn)印輥、轉(zhuǎn)印帶等構(gòu)成的設(shè)備。將具有與調(diào)色劑T的電荷電位極性相反的給定電壓(轉(zhuǎn)印電壓)施加到轉(zhuǎn)印設(shè)備35上，從而該轉(zhuǎn)印設(shè)備35將形成在電子照相光感受器31上的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到記錄紙(紙張或介質(zhì))P上。
不具體限定清潔器36，可使用任何期望的清潔器，例如刷清潔器、磁刷清潔器、靜電刷清潔器、磁輥清潔器、或刮刀清潔器。清潔器36用于以清潔元件刮去附著在光感受器31上的殘留的調(diào)色劑，并從而回收殘留的調(diào)色劑。
定影設(shè)備37由上部定影元件(定影輥)71和下部定影元件(定影輥)72構(gòu)成。在定影元件71或72內(nèi)部裝有加熱器73。圖12顯示了其中上部定影元件71內(nèi)裝有加熱器73的實例。作為上部和下部定影元件71和72可使用已知的熱-定影元件，例如包括由不銹鋼、鋁等制得的金屬原管和用以對該金屬原管進行涂覆的硅橡膠的定影輥，通過進一步以氟樹脂對定影輥進行涂覆而獲得的定影輥，或定影板(fixing sheet)。此外，定影元件71和72均具有向其中供給隔離劑(例如硅油)以改進脫模性能的結(jié)構(gòu)，或具有以彈簧等使這兩個元件相互擠壓的結(jié)構(gòu)。
已轉(zhuǎn)印到記錄紙P的調(diào)色劑通過在給定溫度下進行加熱的上部定影元件71和下部定影元件72之間的輥隙，在該過程中調(diào)色劑被加熱至熔融狀態(tài)。通過該輥隙后，冷卻調(diào)色劑并使其定影在記錄紙P上。
也不具體限定定影設(shè)備的種類。除了在此使用的設(shè)備以外，可安裝的定影設(shè)備包括通過任何期望的定影技術(shù)(例如加熱滾筒定影、閃光定影(flashfixing)、爐定影、或加壓定影)操作的定影設(shè)備。
在具有上述結(jié)構(gòu)的電子照相裝置中，以下列方式進行圖像記錄。首先，以充電設(shè)備32，將光感受器31的表面(光敏表面)充電至給定電位(例如，-600V)?？梢灾绷麟妷夯蛞辕B加了交流電壓的直流電壓進行該充電。
其后，根據(jù)待記錄的圖像，以曝光設(shè)備33對光感受器31的帶電光敏表面進行曝光。從而，在光敏表面中形成靜電潛象。通過顯影設(shè)備34，對形成在光感受器31的光敏表面中的該靜電潛象進行顯影。
在顯影設(shè)備34中，以控制元件(顯影刮刀)45將通過加料輥43供給的調(diào)色劑T形成為薄層，與此同時，摩擦充電以具有給定的極性(在此，對調(diào)色劑進行充電以具有與光感受器31的電荷電位的極性相同的負極性)。在以顯影輥44進行保持的同時，對該調(diào)色劑T進行輸送，并與光感受器31的表面相接觸。
當保持在顯影輥44上的帶電調(diào)色劑T與光感受器31的表面相接觸時，與靜電潛象相應(yīng)的調(diào)色劑圖像形成在光感受器31的光敏表面上。以轉(zhuǎn)印設(shè)備35將該調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到記錄紙P。隨后，以清潔器36去除未轉(zhuǎn)印并保留在光感受器31的光敏表面上的調(diào)色劑。
在將調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到記錄紙P后，記錄紙P通過定影設(shè)備37，從而將色調(diào)圖象熱定影到記錄紙P。從而，獲得完成的圖像。
順便提及，除了上述結(jié)構(gòu)以外，成象裝置可具有其中可進行例如擦除步驟的結(jié)構(gòu)。擦除步驟是這樣的步驟，其中電子照相光感受器暴露于光，從而從電子照相光感受器上擦除殘留的電荷。作為擦除器使用熒光燈、LED等。在很多情況下，用于該擦除步驟的光為具有這樣的強度的光，其曝光能量至少為曝光光線的能量的3倍。
可進一步對成象裝置的結(jié)構(gòu)進行改進。例如，該裝置可具有其中可進行例如預(yù)曝光步驟和輔助充電步驟的步驟的結(jié)構(gòu)，或具有其中可進行膠版印刷的結(jié)構(gòu)。此外，該裝置可具有使用兩種或多種調(diào)色劑的全色串聯(lián)結(jié)構(gòu)。
電子照相光感受器31可與充電設(shè)備32、曝光設(shè)備33、顯影設(shè)備34、轉(zhuǎn)印設(shè)備35、清潔器36、和定影設(shè)備37中的一種或多種組合合以構(gòu)成集成盒(在下文中適宜地稱作“電子照相光感受器盒”)。該電子照相光感受器盒可具有這樣的結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)使得盒可從電子照相裝置(例如，復(fù)印機或激光束打印機)的主體中取出。在該情況中，當例如電子照相光感受器1或其它元件已發(fā)生劣化時，該電子照相光感受器盒可從成象裝置的主體中取出并在成象裝置的主體中安裝新的電子照相光感受器盒。因此，易于進行成象裝置的維護/控制。
實施例通過參考實施例，下面將對本發(fā)明進行更詳細的說明，但不應(yīng)認為本發(fā)明限于下列實施例。
實施例1將通過對由PVC制得的外徑Φ為60mm的圓筒形支持物進行加工，以10mm的孔-孔間隔，形成Z形排列的直徑Φ為5mm的孔，并在其中設(shè)置直徑Φ為0.3mm且含有#1500粒度的研磨劑氧化鋁顆粒(平均粒徑，10μm)的尼龍材料(由Asahi Chemical Industry Co.，Ltd.制造的“Sungrid”)以產(chǎn)生25mm的剛毛長度而獲得的刷，用于對鏡面車削管進行表面-粗糙處理，該鏡面車削管由A3003制得，其尺寸為外徑Φ30mm×長346mm×厚1.0mm(與在下文比較例4中的管相同)。進行該加工的條件為基底轉(zhuǎn)速250rpm、刷轉(zhuǎn)速750rpm、重疊深度6mm、上升速度3mm/秒、及噴水量1L/分鐘。該上升速度設(shè)定為不導(dǎo)致形成分散分布的槽的最高的可能值。設(shè)置刷和鼓，以便于其各自旋轉(zhuǎn)軸之間的角度如圖1所示為90°。
其后，對已進行表面粗糙化的管進行清洗。首先，將該管在60℃的液體中浸漬5分鐘，該液體含有以4重量％的濃度溶解在其中的脫脂劑“NG-30”(由Kizai Corp.制造)，然后依次將該管在三個常溫純水浴中各浸入1分鐘，從而去除脫脂劑。其后，將該管在82℃純水中浸漬10秒，以10mm/秒的速度將其拉出，并干燥。最后，在150℃干凈的烘箱對該管進行10分鐘最終干燥并使其冷卻至室溫。結(jié)果，在基底表面中形成以斜的網(wǎng)格圖樣排列分布的彎曲且不連續(xù)的槽(例如圖3所示的那些)。
將部分這樣形成的管儲存作為樣品以檢測表面粗糙度和槽寬度。在其它已經(jīng)過清洗的管上，以下列方式形成光敏層。
在攪拌下，將如下所示的共聚酰胺(數(shù)均分子量，35,000)在60-65℃下溶解在混合醇(甲醇/正丙醇＝7/3)溶液中3小時。其后，將該所得的溶液在68-73℃下加熱30分鐘。通過均相混合機，將已經(jīng)過這樣處理的溶液與混合醇(甲醇/正丙醇＝7/3)溶液進行混合，該混合醇溶液含有通過超聲預(yù)先分散在其中的氧化鋁[UA-5305，由Showa Denko K.K.制造]。將該混合物在68-73℃下攪拌1小時。其后，過濾該混合物，然后以超聲對其進行2小時的分散處理。從而，生產(chǎn)用于形成底涂層的涂布液，其中UA-5305/共聚酰胺比例為1/1(以重量計)且固體濃度為8％。
[用于電荷產(chǎn)生層的涂布液]向10份Y-型氧化鈦酞菁和5份聚乙烯醇縮丁醛(商品名，#6000-C；由Denki Kagaku Kogyo K.K.制造)中加入500份1，2-二甲氧基乙烷。以砂磨機對該混合物進行粉碎/分散處理，以獲得用于形成電荷產(chǎn)生層的涂布液。
在1，4-二噁烷/四氫呋喃混合溶劑中溶解56重量份如下所示的腙化合物， 14重量份如下所示的腙化合物，
1.5重量份下列氰基化合物， 和100重量份下列聚碳酸酯樹脂(摩爾單體比，1∶1)。
從而，生產(chǎn)用于形成電荷傳輸層的涂布液。
將上述涂布液用于通過使用浸涂和干燥，依次形成底涂層、電荷產(chǎn)生層、和電荷傳輸層。從而，形成多層光敏層。形成底涂層、電荷產(chǎn)生層、和電荷傳輸層，以便分別具有1.25μm、0.5μm、和20μm的厚度。
將用于驅(qū)動的凸緣構(gòu)件附著到這樣獲得的光感受器上，并將該光感受器加入用于Canon Inc制造的單色激光束打印機LBP-850的盒中。形成圖像并進行視覺評價。
實施例2將直徑Φ為0.3mm且含有#1000粒度的研磨劑氧化鋁顆粒(平均粒徑，16μm)的尼龍材料(“Sungrid”由Asahi Chemical Industry Co.，Ltd.制造)用作剛毛。進行表面粗糙加工的條件為基底轉(zhuǎn)速300rpm、刷轉(zhuǎn)速100rpm、重疊深度3mm、上升速度1mm/秒、和噴水量1L/分鐘。從而，在基底表面中形成彎曲且不連續(xù)的斜槽(例如圖2所示的那些)。以與實施例1相同的方式形成圖像，除了使用該基底以外。對圖像進行評價。
實施例3使用實施例2中所用的剛毛。條件包括基底轉(zhuǎn)速250rpm、刷轉(zhuǎn)速750rpm、重疊深度6mm、上升速度5mm/秒、和噴水量1L/分鐘。從而，形成以斜的網(wǎng)格圖樣排列分布的彎曲且不連續(xù)的槽(例如圖3所示的那些)。以與實施例1相同的方式形成圖像，除了使用該基底以外。對圖像進行評價。
實施例4將直徑Φ為0.4mm且含有#800粒度的研磨劑氧化鋁顆粒(平均粒徑，20μm)的尼龍材料(“Toraygrid”由Toray Monofilament Co.，Ltd.制造)用作剛毛。進行表面粗糙加工的條件為基底轉(zhuǎn)速250rpm、刷轉(zhuǎn)速750rpm、重疊深度6mm、上升速度8mm/秒、和噴水量1L/分鐘。從而，在基底表面中形成以斜的網(wǎng)格圖樣排列分布的彎曲且不連續(xù)的槽(例如圖3所示的那些)。以與實施例1相同的方式形成圖像，除了使用該基底以外。對圖像進行評價。
實施例5將直徑Φ為0.3mm并含有#500粒度的研磨劑氧化鋁顆粒(平均粒徑，34μm)的尼龍材料(″Sungrid″由Asahi Chemical Industry Co.，Ltd.制造)用作剛毛。進行表面粗糙加工的條件為基底轉(zhuǎn)速250rpm、刷轉(zhuǎn)速750rpm、重疊深度6mm、上升速度5mm/秒、和噴水量1L/分鐘。從而，在基底表面中形成以斜的網(wǎng)格圖樣排列分布的彎曲且不連續(xù)的槽(例如圖3所示的那些)。以與實施例1相同的方式形成圖像，除了使用該基底以外。對圖像進行評價。
實施例6將直徑Φ為0.45mm且含有#500粒度的研磨劑氧化鋁顆粒(平均粒徑，34μm)的尼龍材料(“Tynex A”由Du Pont制造)用作剛毛。進行表面粗糙加工的條件為基底轉(zhuǎn)速250rpm、刷轉(zhuǎn)速750rpm、重疊深度6mm、上升速度10mm/秒、和噴水量1L/分鐘。從而，在基底表面中形成以斜的網(wǎng)格圖樣排列分布的彎曲且不連續(xù)的槽(例如圖3所示的那些)。以與實施例1相同的方式形成圖像，除了使用該基底以外。對圖像進行評價。
實施例7將直徑Φ為0.55mm且含有#320粒度的研磨劑氧化鋁顆粒(平均粒徑，48μm)的尼龍材料(“Tynex A”由Du Pont制造)用作剛毛。進行表面粗糙加工的條件為基底轉(zhuǎn)速250rpm、刷轉(zhuǎn)速750rpm、重疊深度6mm、上升速度8mm/秒、和噴水量1L/分鐘。從而，在基底表面中以斜的網(wǎng)格圖樣排列分布的形成彎曲且不連續(xù)的槽(例如圖3所示的那些)。以與實施例1相同的方式形成圖像，除了使用該基底以外。對圖像進行評價。
比較例1將減徑擠壓管(ironed pipe)按照原狀進行使用，而不對其進行表面-粗糙處理。進行與實施例1相同的評價。
比較例2使用通過以單晶金剛石切削刀具對A3003拉制管進行車削以產(chǎn)生算術(shù)平均粗糙度Ra為0.03μm且最大高度Ry為0.2μm而獲得的鏡面機加工管。進行與實施例1相同的評價。
比較例3使用通過以多晶金剛石切削刀具對A3003拉制管進行車削以產(chǎn)生算術(shù)平均粗糙度Ra為0.07μm且最大高度Ry為0.6μm而獲得的鏡面機加工管。進行與實施例1相同的評價。
比較例4
使用通過以多晶金剛石切削刀具對A3003拉制管進行車削以產(chǎn)生算術(shù)平均粗糙度Ra為0.14μm且最大高度Ry為1.0μm而獲得的鏡面機加工管。進行與實施例1相同的評價。
比較例5使用通過以多晶金剛石切削刀具對A3003拉制管進行車削以產(chǎn)生算術(shù)平均粗糙度Ra為0.15μm且最大高度Ry為1.4μm而獲得的鏡面機加工管。進行與實施例1相同的評價。
評價方法基于對以使用各基底的電子照相光感受器而形成的圖像進行目視檢查，對本發(fā)明的電子照相光感受器基底進行評價。根據(jù)半色調(diào)圖象中的干涉條紋、黑點、和黑道(主要為車削條痕)，對圖像進行評價。在評價結(jié)果中，A表示令人滿意的圖像，AB表示其中稍微觀察到缺陷的圖像，B表示其中觀察到缺陷的圖像，且C表示已經(jīng)出現(xiàn)嚴重缺陷。
對于各基底的表面粗糙度，由Tokyo Seimitsu Co.，Ltd.制造的表面粗糙度計″Surfcom 480A″根據(jù)JIS B06011994用于對表面進行檢測，并根據(jù)JISB06012001，對所得數(shù)值進行轉(zhuǎn)換，以測定算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高度/粗糙度Rz、和粗糙度曲線的峭度Rku。每個值均為五個測量點的平均值。對于槽寬度L，由通過以光學(xué)顯微鏡進行檢測而獲得的表面的照片(放大率，400倍)測定最小和最大值。
實施例1-7和比較例1-5的評價結(jié)果總結(jié)于表1中。
表1.圖像評價結(jié)果、表面粗糙度、和槽寬度


在使用實施例1的基底的情況中，觀察到輕微的干涉條紋，其中已用具有#1500粒度的刷對該基底進行表面粗糙化。在使用實施例7的基底的情況中，稍微觀察到小黑點，其中已用具有#320粒度的刷對該基底進行表面粗糙化。除了這些以外，在這些實施例的基底的情況中沒有觀察到缺陷。表面粗糙度和槽寬度與研磨劑顆粒的粒徑高度相關(guān)。已確定，隨著粒徑增加，Ra、Rz、和槽寬度L往往變得更大且Rku往往變得更小。槽寬度L也與加工力高度相關(guān)。已確定，隨著刷轉(zhuǎn)速和剛毛直徑增加，即隨著刷接觸力變得更大，槽寬度往往變得更大。
在比較例1中，減徑擠壓管被按照原狀地進行使用。該管表面幾乎為鏡面狀態(tài)且具有由減徑擠壓形成的輕微的槽。由于這一原因，雖然Ra和Rz小，但Rku值大。在比較例2中，對管進行機加工以形成鏡面。然而，由于車削產(chǎn)生的輕微的鋸齒狀表面形狀，該基底的Rku值為約2-3。在任何一種情況中，由于基底表面為鏡面，產(chǎn)生強干涉條紋。在比較例3-5中，通過車削進行表面粗糙。然而，隨著比較例4中所示的凹口/凸出變得更大(比較例5)，車削條痕變得反映在圖像中。另一方面，隨著比較例4中所示的表面狀態(tài)變得更平滑(比較例3)，干涉條紋變得易于出現(xiàn)。在任何一種情況中，均未獲得令人滿意的圖像。此外，這些基底的Rku值均為約2-3，表明其表面狀態(tài)不同于本發(fā)明獲得的表面狀態(tài)。
雖然已通過參考其具體實施方式
，對本發(fā)明進行了詳細描述，但本領(lǐng)域技術(shù)人員可以顯見，不脫離其精神和范圍，可對其進行各種改變和改進。
本申請是基于2003年3月4日提交的日本專利申請(申請?zhí)?003-056992)，其內(nèi)容在此作為參考文獻引入。
工業(yè)實用性本發(fā)明可用于其中必須使用電子照相光感受器的任何期望的領(lǐng)域。例如，其適用于復(fù)印機、打印機、印刷機等。
權(quán)利要求
1.一種用于電子照相光感受器的基底，其具有通過至少在基底表面中的幾乎整個成像區(qū)域內(nèi)形成很多細槽而得到的槽圖樣，其中當基底表面在平面上展開時，槽為彎曲且不連續(xù)的。
2.權(quán)利要求1的電子照相光感受器基底，其中形成在基底表面中的槽圖樣為網(wǎng)格圖樣。
3.權(quán)利要求1的電子照相光感受器基底，其具有形成在其表面中的細槽，其中該基底表面的最大高度/粗糙度Rz為0.6≤Rz≤2μm且峭度Rku為3.9≤Rku≤30且形成在基底表面內(nèi)的槽的寬度L為0.5≤L≤6.0μm。
4.一種用于生產(chǎn)權(quán)利要求1-3中任一項的電子照相光感受器基底的方法，其包括將至少一種柔性材料與基底的表面相接觸并引起該柔性材料在基底表面上相對移動。
5.權(quán)利要求4的生產(chǎn)電子照相光感受器基底的方法，其中預(yù)先對基底表面進行粗車和精車。
6.權(quán)利要求4的生產(chǎn)電子照相光感受器基底的方法，其中預(yù)先對基底表面進行精車。
7.權(quán)利要求4的生產(chǎn)電子照相光感受器基底的方法，其中預(yù)先對基底進行減徑擠壓。
8.權(quán)利要求4-7中任一項的生產(chǎn)電子照相光感受器基底的方法，其中待使用的柔性材料的數(shù)目為2或更大。
9.權(quán)利要求4-8中任一項的生產(chǎn)電子照相光感受器基底的方法，其中將刷子用作柔性材料。
10.權(quán)利要求4-9中任一項的生產(chǎn)電子照相光感受器基底的方法，其中將包括含有通過捏合加入其中的研磨劑顆粒的樹脂的刷子用作柔性材料。
11.權(quán)利要求10的生產(chǎn)電子照相光感受器基底的方法，其中研磨劑顆粒的最大直徑為50μm或更小。
12.一種電子照相光感受器，其包括權(quán)利要求1-3中任一項的電子照相光感受器基底，和在基底上形成的光敏層。
13.權(quán)利要求12的電子照相光感受器，其在光敏層和基底之間具有中間層。
14.一種電子照相光感受器盒，其包括權(quán)利要求12或13的電子照相光感受器，和對電子照相光感受器進行充電的充電單元、將該充電的電子照相光感受器暴露于光以形成靜電潛象的曝光單元、和對形成在電子照相光感受器上的靜電潛象進行顯影的顯影單元中的至少一個。
15.一種成象裝置，其包括權(quán)利要求12或13的電子照相光感受器，對電子照相光感受器進行充電的充電單元，將該充電的電子照相光感受器暴露于光以形成靜電潛象的曝光單元，和對形成在電子照相光感受器上的靜電潛象進行顯影的顯影單元。
全文摘要
本發(fā)明的目的是提供一種電子照相光感受器基底，其可以高生產(chǎn)率容易地進行生產(chǎn)并防止出現(xiàn)圖象缺陷。本發(fā)明為電子照相光感受器基底(1)，其具有形成在其表面中的細槽，且其特征在于當基底表面在平面上展開時，該槽為彎曲且不連續(xù)的。
文檔編號G03G5/10GK1781059SQ200480011809
公開日2006年5月31日 申請日期2004年3月3日 優(yōu)先權(quán)日2003年3月4日
發(fā)明者田口將 申請人:三菱化學(xué)株式會社