專利名稱：三色有機發(fā)光材料圖形化的制作技術的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種在彩色有機發(fā)光顯示屏的制作中蒸鍍三基色有機物發(fā)光層的技術。
與液晶顯示器相比有機電致發(fā)光器件具有自發(fā)光、視角寬、響應速度快、低能耗、低成本等優(yōu)點，是很有競爭力的下一代平板顯示器件。對于單色有機小分子矩陣發(fā)光顯示屏，有機物可均勻地蒸鍍在整個顯示區(qū)域，靠相互垂直分布正負電極進行尋址顯示。而彩色有機小分子矩陣顯示屏的制作有多種方法，有機白光加濾色片是方法之一，但是長壽命的高亮度有機白光目前還沒有很好地解決；三基色疊層結構是制作高分辨彩色有機小分子矩陣顯示屏的一種有前途的方法，但該方法工藝復雜，電極的引出較困難。另一種方法是將三基色的有機發(fā)光材料分別蒸鍍在襯底相應的電極位置上，彩色象素或成“一”字形排列，或成“品”字形排列。該方法工藝簡單，且與單色有機小分子矩陣發(fā)光顯示屏的制作工藝基本兼容，只需稍做改進。
本發(fā)明的目的是提供一種在真空室內采用掩模板與襯底相對移動技術使三基色的有機發(fā)光材料分別蒸鍍在襯底相應的電極位置上，從而在襯底上形成三基色有機發(fā)光材料的圖形，實現有機發(fā)光屏的彩色顯示。此種方法利用單倍分辨率的掩模板獲得了三倍亞象素分辨率的三基色有機發(fā)光材料圖形。
本發(fā)明的目的是這樣實現的首先利用薄的金屬板制作單倍分辨率的掩模板，然后利用光刻的方法將銦錫氧化物(ITO)透明導電玻璃刻蝕成三倍分辯率的電極圖形，將掩模板的第一條線與ITO圖形的第一條線對準，將掩模板的第二條線與ITO圖形的第四條線對準，依此類推。此位置即可蒸鍍第一種顏色的有機發(fā)光材料。待蒸鍍第二種顏色的有機發(fā)光材料時，利用真空室中的機械臂，在真空條件下原位調節(jié)掩模板定位框一端上的微動螺絲，使掩模板平行ITO襯底移動一定距離，使得掩模板的第一條線與ITO圖形的第二條線對準，掩模板的第二條線與ITO圖形的第五條線對準，依此類推，此位置即可蒸鍍第二種顏色的有機發(fā)光材料。同樣，當掩模板的第一條線與ITO圖形的第三條線對準，掩模板的第二條線與ITO圖形的第六條線對準，依此類推，該位置即可蒸鍍第三種顏色的有機發(fā)光材料。這樣，三種顏色的有機發(fā)光材料便被分別蒸鍍到相應的電極位置上。
采用上述方案，三種顏色的有機發(fā)光材料的蒸鍍可在真空室內原位完成，不必打開真空室進行掩模板的定位，利用單倍分辨率的掩模板獲得了三倍亞象素分辨率的三基色有機發(fā)光材料圖形。
下面結合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步詳細說明。
以彩色象素成“一”字形直線排列為例。


圖1是薄的金屬板制作的單倍分辨率的掩模板。
圖2是在銦錫氧化物(ITO)透明導電玻璃上刻蝕成的三倍分辯率的電極圖形。
圖3是蒸鍍第一種顏色有機發(fā)光材料的位置。
圖4是蒸鍍第二種顏色有機發(fā)光材料的位置。
圖5是蒸鍍第三種顏色有機發(fā)光材料的位置。
在圖1中，1是薄的金屬片；2是鏤空部分，用于蒸鍍時形成有機物圖形，其形狀、大小、間距以及個數由所設計的器件圖形決定。
在圖2中，3是玻璃襯底，4是刻蝕出的ITO圖形，ITO條寬應與掩模板的鏤空部分寬度相一致，其分辨率是掩模板的三倍。
在圖3中，將圖1的掩模板置于圖2的ITO電極圖形上方并可沿掩模板定位框5平行于ITO圖形移動，其位置可由微動螺絲6調節(jié)。將掩模板左邊的第一條線與ITO圖形左邊的第一條線對準，掩模板左邊的第二條線與ITO圖形左邊的第四條線對準，依此類推，此位置即可蒸鍍第一種顏色的有機發(fā)光材料。
在圖4中，利用真空室中的機械臂，在真空條件下原位調節(jié)微動螺絲6至確定位置，使掩模板左邊的第一條線與ITO圖形左邊的第二條線對準，掩模板左邊的第二條線與ITO圖形左邊的第五條線對準，依此類推，此位置即可蒸鍍第二種顏色的有機發(fā)光材料。
在圖5中，同樣利用真空室中的機械臂，在真空條件下原位調節(jié)微動螺絲6至確定位置，使掩模板左邊的第一條線與ITO圖形左邊的第三條線對準，掩模板左邊的第二條線與ITO圖形左邊的第六條線對準，依此類推，此位置即可蒸鍍第三種顏色的有機發(fā)光材料。
這樣，利用單倍分辨率的掩模板獲得了三倍亞象素分辨率的三基色有機發(fā)光材料圖形。
只要是采用掩模板與襯底相對移動(襯底不動而掩模板移動或掩模板不動而襯底移動)在襯底上獲得三色有機發(fā)光材料圖形的技術均屬于本發(fā)明的保護范圍之內。
權利要求
1.一種在彩色有機發(fā)光顯示屏的制作中采用掩模板與襯底相對移動依次蒸鍍三基色有機物發(fā)光層的技術，其特征是采用金屬掩模板實現有機發(fā)光材料的圖形化，并且利用真空室內的微移動裝置，在真空條件下使掩模板與襯底之間發(fā)生相對的定量移動，完成三基色有機發(fā)光材料的定位蒸鍍。
2.根據權利要求1所述的三色有機發(fā)光材料圖形化的制作技術，其特征是將掩模板指定的第一條線依次與銦錫氧化物(ITO)圖形指定的第一、二、三條線對準，同時掩模板指定的第二條線將依次與ITO圖形指定的四、五、六條線對準，依此類推。這樣，三基色有機發(fā)光材料便可被依次蒸鍍到襯底的指定位置上。
全文摘要
一種在彩色有機發(fā)光顯示屏的制作中采用掩模板與襯底相對移動依次蒸鍍三基色有機物發(fā)光層的技術。它是利用薄的金屬板作為掩模板,采用在真空室內掩模板與襯底的相對移動將掩模板的第一條線依次與銦錫氧化物(ITO)圖形的第一、二、三條線對準,同時掩模板的第二條線將依次與ITO圖形的四、五、六條線對準,依此類推。這樣,三基色有機發(fā)光材料便可被依次蒸鍍到襯底的指定位置上。
文檔編號G02F1/23GK1326176SQ0111414
公開日2001年12月12日 申請日期2001年6月26日 優(yōu)先權日2001年6月26日
發(fā)明者趙毅, 魯少昕, 程剛, 高文寶, 李傳南, 侯晶瑩, 劉式墉 申請人:吉林大學