專利名稱：降低內(nèi)部反射的光學(xué)結(jié)構(gòu)及其方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般地涉及光學(xué)系統(tǒng)，更具體地涉及利用光的相消干涉來有效降低在光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)的較高折射率層處的反射的顯示結(jié)構(gòu)。本發(fā)明也涉及制造具有降低的內(nèi)部反射的光學(xué)結(jié)構(gòu)的方法。
背景技術(shù)：
許多光學(xué)系統(tǒng)包含具有相對(duì)折射率η的層。這引起了系統(tǒng)內(nèi)的反射，使入射光偏離了其設(shè)計(jì)路徑，降低了效率且增加了噪聲。尤其是，一些系統(tǒng)包含被兩種低折射率介質(zhì)包圍的高折射率介質(zhì)。在這樣的一些系統(tǒng)中，高折射率介質(zhì)足夠薄，從而取決于光程差，可能發(fā)生在高折射率層的兩個(gè)表面處的反射之間的相長(zhǎng)或相消干涉。圖1中圖示的一個(gè)這樣的系統(tǒng)是液晶顯示器(IXD)，其中一個(gè)η 1. 95的銦錫氧化物(ITO)電極102位于η 1. 53的液晶(LC)層104與η 1. 53的玻璃或?yàn)V色鏡(CF) 101 之間，并且另一個(gè)電極位于LC 104與η 1. 59的平坦樹脂108之間。還存在η 1. 70的聚酰亞胺(PI)的薄層103，位于LC與每一個(gè)ITO電極之間。還存在η 2. 04的氮化硅層 105，位于η 1. 55的二氧化硅(silica)層106之間和/或二氧化硅層106與平坦樹脂之間。二氧化硅和氮化硅層用作電介質(zhì)，并且用于薄膜晶體管(TFT)系統(tǒng)內(nèi)部及周圍的鈍化。 玻璃107支撐此結(jié)構(gòu)。這是一種在工業(yè)中使用的典型結(jié)構(gòu)。在顯示設(shè)備處的環(huán)境光反射不合時(shí)宜地降低了觀察者所看見的圖像的對(duì)比度?？狗瓷渫繉?ARC)被用在顯示器的前表面上，其能將顯示器的反射率到低于1%。然而，發(fā)生在設(shè)備內(nèi)部的反射，特別地在ITO電極和氮化硅層處的反射，也將導(dǎo)致在明亮房間內(nèi)的圖像的降級(jí)。已經(jīng)詳細(xì)研究了用于光學(xué)系統(tǒng)的外表面的ARC。例如在美國(guó)專利No. 6，207，263(2001年3月27日)中描述了一種ARC。關(guān)于光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)的界面，受到最大關(guān)注的是介于低折射率介質(zhì)與高折射率介質(zhì)之間的單一界面。美國(guó)專利No. 5，061，874(1991年10月四日)描述了在兩種介質(zhì)之間引入的層， 加上界面的粗糙化，以降低鏡面反射。在IXD領(lǐng)域，著眼于降低反射，已經(jīng)研究了一些特定的情形。降低玻璃-半導(dǎo)體界面處的反射是美國(guó)專利申請(qǐng)No. 2006/0197096A(2006年9月7日)的主題。美國(guó)專利 No. 7, 167，221 (2007年1月23日)中主張一種作為吸收體的結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)利用光的相消干涉來產(chǎn)生“黑矩陣”效應(yīng)。美國(guó)專利申請(qǐng)No.2004/0109305A(2004年6月10日)描述了用在IXD背光元件上且與空氣接觸的ARC。W02004/044998 (2004年5月27日)描述了一種有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的設(shè)計(jì)。 所有的層，最外層和內(nèi)層、發(fā)光層，都具有根據(jù)它們的折射率選定的厚度，以導(dǎo)致環(huán)境光在反射時(shí)的相消干涉。最后，美國(guó)專利No. 7，215，075 (2007年5月8日)描述了一種降低OLED的陰極處的反射的結(jié)構(gòu)，所述陰極具有比它周圍的介質(zhì)更高的折射率。根據(jù)美國(guó)專利US7，215，075 的方法利用具有交替的高折射率和低折射率的偶數(shù)層來取代單一陰極層。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備和方法可以用于如液晶顯示器的光學(xué)系統(tǒng)中，以最小化內(nèi)部反射。更具體地，根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備和方法提供了一種包括在第二層與第三層之間形成的第一層的結(jié)構(gòu)，其中第一層的折射率高于第二層和第三層的折射率。更進(jìn)一步，在第二層的一側(cè)形成了第四層，且在第三層的一側(cè)形成了第五層，其中第四層和第五層分別具有比第二層和第三層更低的折射率。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備和方法降低了光學(xué)設(shè)備的內(nèi)部反射，同時(shí)相對(duì)于傳統(tǒng)光學(xué)設(shè)備利用了更少的層。而且，利用根據(jù)本發(fā)明的原理的顯示設(shè)備，例如LCD，相對(duì)于傳統(tǒng)LCD設(shè)備，可以以更低的成本生產(chǎn)。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，一種用于降低光學(xué)系統(tǒng)中的內(nèi)部反射的結(jié)構(gòu)包括層堆疊，所述層堆疊包括具有第一折射率的第一層、具有第二折射率的第二層、具有第三折射率的第三層、具有第四折射率的第四層和具有第五折射率的第五層，其中第二層布置在第一層與第三層之間，并且第四層布置在第三層與第五層之間，以及其中第三折射率大于第二和第四折射率，第二折射率大于第一折射率，并且第四折射率大于第五折射率。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，第二折射率不同于第四折射率。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，第一折射率不同于第五折射率。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，至少一層包括液晶層。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，第一層包括濾色鏡，第二層包括聚酰亞胺，第三層包括銦錫氧化物電極，第四層包括聚酰亞胺，且第五層包括液晶層。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，第一層包括液晶材料，第二層包括聚酰亞胺，第三層包括銦錫氧化物電極，第四層包括聚酰亞胺，且第五層包括平坦層。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，第一層包括平坦層，第二層包括聚酰亞胺，第三層包括氮化硅層，第四層包括聚酰亞胺，且第五層包括二氧化硅層。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，選擇層堆疊中的層的相應(yīng)厚度，以通過相消干涉來最小化光學(xué)系統(tǒng)中的總反射率。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，該結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括二氧化硅和氮化硅中的至少一個(gè)，布置在層堆疊中；和經(jīng)過層堆疊的光傳輸路徑，其中二氧化硅和氮化硅中的所述至少一個(gè)被構(gòu)圖為不位于光傳輸路徑中。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，第二和/或第四層包括聚碳酸酯、聚苯乙烯和銦鋅氧化物中的至少一個(gè)。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，顯示設(shè)備包括支撐裝置，并且根據(jù)本發(fā)明的結(jié)構(gòu)布置在支撐裝置上。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，支撐裝置包括玻璃和聚合物中的至少一個(gè)。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，顯示設(shè)備是液晶顯示器、有機(jī)發(fā)光二極管顯示器和電潤(rùn)濕(electrowetting)顯示器中的至少一個(gè)。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，顯示設(shè)備包括光學(xué)設(shè)備，所述光學(xué)設(shè)備包括本文中描述的結(jié)構(gòu)，所述光學(xué)設(shè)備包括多個(gè)像素。更進(jìn)一步，顯示設(shè)備包括顯示電路，顯示電路包括至少一個(gè)信號(hào)輸入和多個(gè)信號(hào)輸出，所述至少一個(gè)信號(hào)輸入用于接收與要顯示的圖像相對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)，所述多個(gè)信號(hào)輸出中的每一個(gè)耦合到所述多個(gè)像素中的相應(yīng)像素，顯示電路操作以控制所述多個(gè)像素產(chǎn)生圖像。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種用于降低光學(xué)系統(tǒng)中的反射的方法，所述光學(xué)系統(tǒng)包括層堆疊，所述層堆疊包括具有第一折射率的第一層，具有第三折射率的第三層和具有第五折射率的第五層，第三層形成在第一層與第五層之間，其中第三折射率大于第一折射率和第五折射率，所述方法包括在第一層與第三層之間添加具有第二折射率的第二層，和在第三層與第五層之間添加具有第四折射率的第四層，其中第三折射率大于第二折射率和第四折射率，第二折射率大于第一折射率，且第四折射率大于第五折射率。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，所述方法包括選擇第四層和第五層，從而使第四層的折射率不同于第五層的折射率。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，所述方法包括優(yōu)化層堆疊的各個(gè)層，以通過相消干涉最小化光學(xué)設(shè)備中的總反射率。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，所述方法包括使第二層形成一定的厚度，從而使在第二層處反射的全部光的幅度取決于從第二層的不同表面反射的光波的相差。為了實(shí)現(xiàn)前述和相關(guān)的目標(biāo)，本發(fā)明包括下文中完整描述的和在權(quán)利要求中具體指出的特征。下面的描述和附圖詳細(xì)闡明了本發(fā)明的某些說明性實(shí)施例。然而，這些實(shí)施例只是反映了一些不同的實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的原理的方式。當(dāng)結(jié)合附圖考慮時(shí)，從下面本發(fā)明的詳細(xì)描述中，本發(fā)明其他的目的、優(yōu)點(diǎn)和新穎的特征將是顯而易見的。


圖1圖示了 IXD系統(tǒng)的示例性光學(xué)結(jié)構(gòu)。圖2圖示了包括位于兩個(gè)低折射率介質(zhì)之間的高折射率層的示例性光學(xué)結(jié)構(gòu)。圖3圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的包括中間折射率層以降低光學(xué)系統(tǒng)中的反射的示例性光學(xué)結(jié)構(gòu)。圖4圖示了設(shè)計(jì)為相對(duì)于圖2的一層系統(tǒng)降低了反射的傳統(tǒng)的兩層光學(xué)系統(tǒng)。圖5圖示了設(shè)計(jì)為相對(duì)于圖2的一層系統(tǒng)降低了反射的具有交替層的傳統(tǒng)的四層光學(xué)系統(tǒng)。圖6圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的包括中間折射率層的示例性LCD結(jié)構(gòu)。圖7圖示了可替代圖1的結(jié)構(gòu)的IXD結(jié)構(gòu)。圖8圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例具有中間折射率層的圖7中的LCD結(jié)構(gòu)。圖9是用于可使用根據(jù)本發(fā)明的結(jié)構(gòu)的液晶顯示器的控制電子裝置的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)劃圖的示意圖。
具體實(shí)施例方式將參考附圖進(jìn)行描述本發(fā)明的原理。因?yàn)楸景l(fā)明是為了在液晶顯示器系統(tǒng)中使用而設(shè)計(jì)和開發(fā)的，因此這里主要在這個(gè)背景下描述本發(fā)明。然而，本發(fā)明的原理在更廣泛的方面可以適用于其他類型的光學(xué)系統(tǒng)，例如有機(jī)發(fā)光二極管(LED)顯示器系統(tǒng)和電潤(rùn)濕顯示器系統(tǒng)。在傳統(tǒng)的光學(xué)設(shè)備中，在顯示器(或其他光學(xué))系統(tǒng)中存在高折射率層，其提供一些功能并且理想上也是完全透明的。然而，此高折射率層和周圍層之間的折射率差異引起了反射。這種反射的反射比(power of reflection)具有與高折射率層的厚度相關(guān)的下限。 根據(jù)本發(fā)明，將附加層引入光學(xué)設(shè)備，附加層可顯著降低反射比的下限，并且也顯著地低于利用現(xiàn)有技術(shù)考慮的偶數(shù)個(gè)層的結(jié)構(gòu)可獲得的反射比。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備和方法降低了被兩個(gè)低折射率介質(zhì)包圍的高折射率介質(zhì)處的反射。在上面討論的現(xiàn)有技術(shù)中，只有美國(guó)專利No. 7，215，075(2007年5月8日)解決了此問題。WO 2004/044998 (2004年5月27日)也考慮到了來自復(fù)雜的分層結(jié)構(gòu)的反射。WO 2004/044998 (2004年5月27日)未將任何額外的層添加到結(jié)構(gòu)中。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備和方法因此能降低根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備和方法處理過的這類結(jié)構(gòu)處的反射。(例如參看表4和5附近的討論)美國(guó)專利No. 7，215，075 (2007年5月8日)通過將偶數(shù)個(gè)層的一個(gè)高折射率層改變?yōu)榻惶嬲凵渎蕘硖幚泶私Y(jié)構(gòu)。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備和方法將中間折射率層添加到高折射率層的任一面。這導(dǎo)致了比美國(guó)專利No. 7，215，075 (2007年5月8日)的應(yīng)用更低的反射， 如下文中所討論的。參考圖2，示出了可以應(yīng)用根據(jù)本發(fā)明的原理的示例性光學(xué)結(jié)構(gòu)。如圖2所示，高折射率層(例如具有比其他介質(zhì)的折射率數(shù)值更大的折射率的介質(zhì))HI被低折射率層(例如具有比HI的折射率數(shù)值更小的折射率的介質(zhì))LIl和LI2包圍，其中LIl和LI2可以具有相同或不同的折射率。高折射率層的厚度使得總反射比為在高折射率層的表面處的兩個(gè)反射之間的干涉的結(jié)果(取決于光的相干性，存在使該條件成立的HI層的最大厚度)。參看圖3，中間折射率層MIl和MI2被應(yīng)用到高折射率層HI的每一側(cè)，位于高折射率層與低折射率包圍介質(zhì)LIl和LI2之間。MIl和MI2可以具有相同或不同的折射率。本發(fā)明的一個(gè)特征是保留高折射率層，同時(shí)降低它的反射率。應(yīng)注意的是，在非LC顯示器(例如0LED)中，與透明電極相鄰的不是聚酰亞胺層， 從而在這些顯示器中針對(duì)每個(gè)透明電極將添加兩層。相對(duì)比的是，對(duì)于IXD來說，針對(duì)每個(gè)透明電極僅添加一個(gè)額外的層，因?yàn)镮TO層已經(jīng)有一個(gè)相鄰的中間折射率層，從而即為結(jié)構(gòu)中的五種介質(zhì)中的四種。根據(jù)圖3的設(shè)備降低了光學(xué)系統(tǒng)中被低折射率介質(zhì)包圍的高折射率層處的反射。 更進(jìn)一步，根據(jù)圖3的設(shè)備比美國(guó)專利No. 7，215，075中描述的2層、4層和6層系統(tǒng)更有效地降低了反射。這一點(diǎn)將在下面論述。下面的結(jié)果是利用下山單純形多維最小化數(shù)字方法獲得的，如ft~eSS，W. H.， et al. , 'Numerical recipes in C :the art of scientific computing', second edition (Cambridge University Press，1992)，第 408-412 頁(yè)中所描述。對(duì)于法線入射的光，利用在 Smith, W. J. , 'Modern Optical Engineering', third edition (McGraw-Hill, 2000)，第205-207頁(yè)(等式7. 32已經(jīng)校正為與7. 30和7. 31 一致)中提出的計(jì)算方法計(jì)算反射率。針對(duì)從450nm到750nm的平坦光譜來對(duì)它們進(jìn)行平均。平均反射率(下文中稱為反射率)根據(jù)層的折射率(這里它們是未知的)和厚度被最小化。Press和Smith的上述參考部分通過引用被包含于此。a)參考圖2，考慮如下情況n = 1. 95的HI層被兩個(gè)η = 1. 50的介質(zhì)LIl和LI2 包圍。就HI的厚度而言，在HI處的最小反射率為0.013。在此示例中HI為148nm厚。盡管HI與LIl和LI2之間的折射率有差異，但是由于在HI的兩個(gè)表面處反射的光的相消干涉，反射率很低。根據(jù)本發(fā)明，且如上述所述，可以將中間折射率的兩個(gè)額外層添加到圖2的系統(tǒng)中。所述兩個(gè)額外層為圖3中所述的MIl和MI2。新的三層系統(tǒng)(HI、MI1和MI2形成三層) 的反射率可以最小化到0. 00005,即反射率相對(duì)于圖2的設(shè)備被降低了 3000倍。在此示例中，MIl和MI2的折射率均為1. 66，并且它們的厚度為85nm。HI (η = 1. 95)厚度為145nm。在與美國(guó)專利7，215，075相關(guān)的方法中，作為替代，一個(gè)單一的額外層E被添加到系統(tǒng)中，如圖4的傳統(tǒng)光學(xué)結(jié)構(gòu)中所示。在這種兩層的情況下(HI和E形成了兩層)，可能的最小反射率為0. 0084，并且額外層具有折射率1. 61。將上述根據(jù)圖4的兩層系統(tǒng)獲得的結(jié)果與圖3中的設(shè)備獲得的結(jié)果相比，兩層解決方案在反射率上的降低得到了改進(jìn)，在此示例中改進(jìn)了 170倍。b)為了與美國(guó)專利7，215，075的下一個(gè)最簡(jiǎn)單的實(shí)施例作對(duì)比，將研究在美國(guó)專利7，215，075的示例中使用的材料。這是一個(gè)四層系統(tǒng)，具有交替的高和低折射率，在圖 5(層Y、X、Y和X形成四層)中圖示。Ll和L2是包圍所述四層的介質(zhì)。每一個(gè)交替層由介質(zhì)X或Y構(gòu)成。美國(guó)專利7，215，075中的示例使用具有折射率1. 8和2. 2的X和Y層。Ll和L2 沒有被特別指定，因此這種配置無法完全與圖3中所示的實(shí)施例作對(duì)比。這里L(fēng)l和L2采用1. 5的折射率。利用多維最小化算法改變此四層結(jié)構(gòu)中的厚度，這些層(被介質(zhì)Ll和L2 包圍)處的反射率可以最小化到0. 018。所述方法可進(jìn)一步包括優(yōu)化層堆疊的各個(gè)層，以通過相消干涉最小化光學(xué)系統(tǒng)中的總反射率。在上述示例中使用的同樣的材料可用在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備中，例如這里所描述的三層系統(tǒng)。在此情況下，HI的折射率為2. 2，MIl和ΜΙ2的折射率均為1. 8，且LIl和LI2的折射率均為1. 50。就此三層的厚度而言，在此三層處的反射率可最小化到0. 0017。因此，在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備中使用同樣的材料，與美國(guó)專利7，215，075的四層實(shí)施例相比，反射率降低了一個(gè)數(shù)量級(jí)。c)參考圖5，考慮這樣的四層系統(tǒng)，其Ll層的折射率為1.50，L2層的折射率為 1.60，且X和Y層的折射率分別為1.70和1.95。所述四層系統(tǒng)具有最小反射率為0. 0039。根據(jù)本發(fā)明的三層系統(tǒng)采用同樣的材料，即在圖3中Mil、HI和MI2的折射率為 1. 70、1. 95和1. 70，可獲得最小反射率為0. 00056。與采用與美國(guó)專利7，215，075的四層實(shí)施例相同的材料相比，這次反射率再次降低了 7倍。一個(gè)六層的交替系統(tǒng)(也是美國(guó)專利7，215，075的實(shí)施例)，采用折射率為1. 70 和1. 95，獲得最小反射率為0. 0037?？紤]到所有這些結(jié)果，可以看出，當(dāng)高折射率層被低折射率介質(zhì)包圍時(shí)，根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備與根據(jù)美國(guó)專利7，215，075的方案相比，提供了更好的反射率降低。參考附圖，在下文中更加完整地描述根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備。然而，根據(jù)本發(fā)明的原理可以以不同的形式體現(xiàn)，并且不應(yīng)解釋為受本文闡述的實(shí)施例所限制。實(shí)施例一參考圖1，描述了可實(shí)施為液晶顯示器(IXD)的光學(xué)結(jié)構(gòu)的示例，其中η 1.95的一個(gè)ITO電極102位于η 1. 53的液晶層(LC) 104與η 1. 53的玻璃或?yàn)V色鏡(CF) 101之間，并且另一個(gè)ITO電極位于LC 104與η 1. 59的平坦樹脂108之間。在LC與每一個(gè) ITO電極之間，還存在η 1. 70的聚酰亞胺(PI)的薄層103。在η 1. 55的二氧化硅層 106之間和/或二氧化硅層106與平坦樹脂層之間，還存在η 2. 04的氮化硅層105。二氧化硅層和氮化硅層用作電介質(zhì)，且在TFT系統(tǒng)內(nèi)和周圍起鈍化作用。玻璃107支撐所述結(jié)構(gòu)(另一種類型的支撐裝置可以是例如聚合物(例如聚合物基板))。這是一種在工業(yè)中使用的典型的結(jié)構(gòu)，且在表1中描述，同時(shí)給出了每一層的厚度。表 權(quán)利要求
1.一種用于降低光學(xué)系統(tǒng)中的內(nèi)部反射的結(jié)構(gòu)，包括層堆疊，所述層堆疊包括具有第一折射率的第一層、具有第二折射率的第二層、具有第三折射率的第三層、具有第四折射率的第四層和具有第五折射率的第五層，其中第二層布置在第一層與第三層之間，并且第四層布置在第三層與第五層之間，以及其中第三折射率大于第二和第四折射率，第二折射率大于第一折射率，并且第四折射率大于第五折射率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)構(gòu)，其中第二折射率不同于第四折射率。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的結(jié)構(gòu)，其中第一折射率不同于第五折射率。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的任意一個(gè)所述的結(jié)構(gòu)，其中層堆疊的至少一層包括液晶層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的任意一個(gè)所述的結(jié)構(gòu)，其中第一層包括濾色鏡，第二層包括聚酰亞胺，第三層包括銦錫氧化物電極，第四層包括聚酰亞胺，且第五層包括液晶層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的任意一個(gè)所述的結(jié)構(gòu)，其中第一層包括液晶材料，第二層包括聚酰亞胺，第三層包括銦錫氧化物電極，第四層包括聚酰亞胺，且第五層包括平坦層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的任意一個(gè)所述的結(jié)構(gòu)，其中第一層包括平坦層，第二層包括聚酰亞胺，第三層包括氮化硅層，第四層包括聚酰亞胺，且第五層包括二氧化硅層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中的任意一個(gè)所述的結(jié)構(gòu)，進(jìn)一步包括二氧化硅和氮化硅中的至少一個(gè)，布置在層堆疊中；和經(jīng)過層堆疊的光傳輸路徑，其中二氧化硅和氮化硅中的所述至少一個(gè)被構(gòu)圖為不位于光傳輸路徑中。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8的任意一個(gè)所述的結(jié)構(gòu)，其中第二和/或第四層包括聚碳酸酯、聚苯乙烯和銦鋅氧化物中的至少一個(gè)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-9中的任意一個(gè)所述的結(jié)構(gòu)，其中選擇層堆疊中的層的相應(yīng)厚度， 以通過相消干涉來最小化光學(xué)系統(tǒng)中的總反射率。
11.一種顯示設(shè)備，包括支撐裝置和布置在所述支撐裝置之上的根據(jù)權(quán)利要求1-10中的任意一個(gè)的結(jié)構(gòu)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示設(shè)備，其中支撐裝置包括玻璃和聚合物中的至少一個(gè)。
13.根據(jù)權(quán)利要求11-12中的任意一個(gè)所述的顯示設(shè)備，其中所述顯示設(shè)備為液晶顯示器、有機(jī)發(fā)光二級(jí)管顯示器和電潤(rùn)濕顯示器中的至少一個(gè)。
14.一種顯示設(shè)備，包括包括根據(jù)權(quán)利要求1-10的任意一個(gè)所述的結(jié)構(gòu)并且包括多個(gè)像素的光學(xué)設(shè)備；和顯示電路，包括至少一個(gè)信號(hào)輸入和多個(gè)信號(hào)輸出，所述至少一個(gè)信號(hào)輸入用于接收與要顯示的圖像相對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)，所述多個(gè)信號(hào)輸出中的每一個(gè)耦合到所述多個(gè)像素中的相應(yīng)像素，顯示電路操作以控制所述多個(gè)像素產(chǎn)生圖像。
15.一種用于降低光學(xué)系統(tǒng)中的反射的方法，所述光學(xué)系統(tǒng)包括層堆疊，所述層堆疊包括具有第一折射率的第一層，具有第三折射率的第三層和具有第五折射率的第五層，第三層形成在第一與與第五層之間，其中第三折射率大于第一折射率和第五折射率，所述方法包括在第一層與第三層之間添加具有第二折射率的第二層，和在第三層與第五層之間添加具有第四折射率的第四層，其中第三折射率大于第二折射率和第四折射率，第二折射率大于第一折射率，且第四折射率大于第五折射率。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，進(jìn)一步包括選擇第四層和第五層，從而使第四層的折射率不同于第五層的折射率。
17.根據(jù)權(quán)利要求15-16中的任意一個(gè)所述的方法，進(jìn)一步包括使第二層形成一定的厚度，從而使在第二層處反射的全部光的幅度取決于從第二層的不同表面反射的光波的相差。
全文摘要
一種用于降低光學(xué)系統(tǒng)中的內(nèi)部反射的結(jié)構(gòu)，包括層堆疊，所述層堆疊包括具有第一折射率的第一層、具有第二折射率的第二層、具有第三折射率的第三層、具有第四折射率的第四層和具有第五折射率的第五層。第二層布置在第一層與第三層之間，并且第四層布置在第三層與第五層之間。此外，第三折射率大于第二和第四折射率，第二折射率大于第一折射率，并且第四折射率大于第五折射率。
文檔編號(hào)G09F9/30GK102439650SQ20108002207
公開日2012年5月2日 申請(qǐng)日期2010年5月18日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月22日
發(fā)明者阿利斯代爾·P·科德 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社