一種布置vad和ovd的設(shè)備以及方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于光纖預(yù)制棒制造領(lǐng)域，尤其涉及一種布置VAD和OVD的設(shè)備以及方法，更具體的涉及一種適用于VAD設(shè)備本體、立式OVD設(shè)備本體、及其輔助設(shè)備的布置方法。
【背景技術(shù)】
[0002]由于近今幾年國(guó)內(nèi)光纖預(yù)制棒制備技術(shù)的發(fā)展和擴(kuò)展的速度都非常迅速，所以任何一家光纖預(yù)制棒的生產(chǎn)企業(yè)欲通過技術(shù)壟斷的方式獲取高額利潤(rùn)的可能性已經(jīng)非常小。因此可以預(yù)見，在未來非常長(zhǎng)的一段時(shí)間內(nèi)，預(yù)制棒生產(chǎn)企業(yè)之間的競(jìng)爭(zhēng)將會(huì)轉(zhuǎn)變?yōu)橐钥刂粕a(chǎn)成本為主體的競(jìng)爭(zhēng)。在預(yù)制棒制備的成本結(jié)構(gòu)中，土地成本、廠房建設(shè)成本、固定設(shè)備投入以及維持生產(chǎn)區(qū)域溫濕度和潔凈度的運(yùn)行成本等是其成本的重要組成部分。
[0003]目前比較通用的VAD或OVD的廠房結(jié)構(gòu)為一層或二層式結(jié)構(gòu)，由于預(yù)制棒生產(chǎn)過程中對(duì)環(huán)境變化非常敏感，所以廠房的溫濕度和潔凈度需要進(jìn)行嚴(yán)格控制。VAD或OVD設(shè)備本體一般都掛裝在沉積塔架上，目前一個(gè)沉積塔架上通常會(huì)掛裝一臺(tái)或兩臺(tái)設(shè)備本體。為了給VAD或OVD的配套設(shè)備(如氣柜、蒸發(fā)柜、電柜等)預(yù)留一定的擺放空間和預(yù)留相應(yīng)的生產(chǎn)物流通道，沉積塔架之間的距離也需布置的稍微遠(yuǎn)一點(diǎn)，配套設(shè)備可以分布在一個(gè)樓層或兩個(gè)樓層。
[0004]這種設(shè)計(jì)廠房結(jié)構(gòu)、設(shè)備分布等相對(duì)比較簡(jiǎn)單，所以前期的廠房施工和設(shè)備安裝會(huì)比較容易，但是土地、廠房以及沉積塔架的使用效率不高，而且由于潔凈區(qū)域的使用效率比較低，后期生產(chǎn)過程中潔凈區(qū)域維護(hù)的單位成本也會(huì)比較高。所以這種設(shè)計(jì)最終會(huì)使土體、廠房、固定設(shè)備投入等分?jǐn)偨o預(yù)制棒的制造成本的比重相對(duì)較高。
[0005]因此，現(xiàn)在需要從布置VAD和OVD設(shè)備方面入手，通過合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，能夠最大程度的使用廠房?jī)?nèi)的潔凈區(qū)域和沉積塔架，在預(yù)制棒產(chǎn)能設(shè)計(jì)相同的情況下，大幅攤薄了土地、廠房及塔架等固定資產(chǎn)的投入，同時(shí)也便于設(shè)備的維護(hù)和排查。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明通過VAD或OVD設(shè)備在沉積塔架上掛裝位置的科學(xué)布置，以及對(duì)廠房設(shè)計(jì)的樓層進(jìn)行合理設(shè)計(jì)，使單位廠房面積內(nèi)能夠安裝更多的VAD或OVD設(shè)備本體，同時(shí)通過對(duì)每一樓層上VAD或OVD的輔助設(shè)備的擺放位置進(jìn)行優(yōu)化，可以盡量縮小沉積塔架之間的距離。這種設(shè)計(jì)可以使相同的廠房面積下安裝更多的VAD或OVD設(shè)備，產(chǎn)出更多的光纖預(yù)制棒，從而降低了預(yù)制棒的生產(chǎn)成本。
[0007]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
[0008]一種布置VAD和OVD的設(shè)備，其包括一個(gè)多樓層的廠房和由下到上貫穿于各個(gè)樓層的沉積塔架，所述沉積塔架的基座設(shè)置在所述廠房的一樓，所述沉積塔架的頂部達(dá)到所述廠房的樓頂?shù)唇佑|到樓頂，所述沉積塔架在每個(gè)樓層的空間中掛裝一個(gè)VAD或OVD的設(shè)備本體，所述設(shè)備本體從一樓至頂樓成螺旋狀排布方式掛裝到所述沉積塔架上；VAD或OVD的輔助設(shè)備安裝在對(duì)應(yīng)的VAD或OVD的設(shè)備本體的樓層上，且VAD或OVD的輔助設(shè)備環(huán)繞所述沉積塔架周圍。
[0009]在本發(fā)明的一個(gè)較佳實(shí)施例中，進(jìn)一步包括，所述設(shè)備本體從一樓至頂樓成螺旋狀排布方式掛裝到所述沉積塔架上。
[0010]在本發(fā)明的一個(gè)較佳實(shí)施例中，進(jìn)一步包括，還包括提升旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，每個(gè)設(shè)備本體對(duì)應(yīng)一臺(tái)提升旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，每個(gè)所述提升旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)貫穿兩層樓。
[0011]在本發(fā)明的一個(gè)較佳實(shí)施例中，進(jìn)一步包括，所述設(shè)備本體為VAD設(shè)備的沉積腔體。
[0012]在本發(fā)明的一個(gè)較佳實(shí)施例中，進(jìn)一步包括，所述廠房有四個(gè)樓層，一樓到三樓每個(gè)樓層的高度比所述沉積腔體高50cm。
[0013]在本發(fā)明的一個(gè)較佳實(shí)施例中，進(jìn)一步包括，頂樓的高度至少5m，其它樓層的高度為3m ο
[0014]在本發(fā)明的一個(gè)較佳實(shí)施例中，進(jìn)一步包括，每層樓層的樓板均設(shè)有預(yù)留洞口，所述預(yù)留洞口恰好供所述沉積塔架穿過。
[0015]在本發(fā)明的一個(gè)較佳實(shí)施例中，進(jìn)一步包括，所述VAD或OVD的輔助設(shè)備包括以下一種或幾種:氣柜、SiCldP GeCl 4蒸發(fā)柜、電柜和操作計(jì)算機(jī)。
[0016]在本發(fā)明的一個(gè)較佳實(shí)施例中，進(jìn)一步包括，所述SiClJP GeCl 4蒸發(fā)柜設(shè)置在VAD或OVD的設(shè)備本體相鄰的位置。
[0017]在本發(fā)明的一個(gè)較佳實(shí)施例中，進(jìn)一步包括，一種布置VAD和OVD的方法，所述方法基于以上所述的設(shè)備，包括以下幾步:
[0018]第一步:設(shè)計(jì)一個(gè)多樓層的廠房，沉積塔架的基座安裝在廠房一樓，塔架從下到上依次穿過各個(gè)樓層的預(yù)留洞口并最終達(dá)到廠房樓頂附近；
[0019]第二步:沉積塔架對(duì)應(yīng)一個(gè)樓層之間的空間只掛裝一個(gè)VAD或OVD的設(shè)備本體，設(shè)備本體從一樓至頂樓成螺旋狀或成斜對(duì)稱狀依次掛裝到沉積塔架上；
[0020]第三步:VAD和OVD的輔助設(shè)備安裝在對(duì)應(yīng)的設(shè)備本體的樓層并環(huán)繞在沉積塔架周圍。
[0021]本發(fā)明的有益效果是:
[0022]其一、本發(fā)明的方法提高了單位面積土地的使用效率，由于本發(fā)明中設(shè)備本體的布置思路從常規(guī)的橫向布置轉(zhuǎn)換為了縱向布置的設(shè)計(jì)，所以單位土地面積上可以安裝的設(shè)備數(shù)量得到大幅度的增加，從而提高了土地的使用效率，最終降低的預(yù)制棒的生產(chǎn)成本。
[0023]其二、本發(fā)明的方法提高了沉積塔架的使用效率，降低了一次性固定資產(chǎn)的投入。由于同一臺(tái)沉積塔架上掛裝了多臺(tái)VAD和OVD設(shè)備；而且，在塔架的一部分長(zhǎng)度范圍內(nèi)，一個(gè)側(cè)面上掛裝了一臺(tái)設(shè)備的本體，另一個(gè)側(cè)面則掛裝了另一臺(tái)設(shè)備的提升機(jī)構(gòu)，大幅度提高了沉積塔架的使用效率，降低了在沉積塔架方面的固定資產(chǎn)投入。
[0024]其三、本發(fā)明的方法提高了廠房樓面的使用效率。通過合理配置，VAD和OVD設(shè)備本體及其輔助設(shè)備相對(duì)均勻的環(huán)繞分布在沉積塔架的周圍，這樣可以減少沉積塔架之間的距離，從而提高廠房樓面的使用效率。同時(shí)，由于VAD和OVD設(shè)備本體及其輔助設(shè)備安裝在同一樓層，既節(jié)約了設(shè)備之間連接管道、通信線纜等材料的使用，也便于后期設(shè)備問題的排查及維護(hù)。
[0025]其四、本發(fā)明的方法提高了潔凈區(qū)域的使用效率。因?yàn)閂AD和OVD設(shè)備必須在嚴(yán)格控制的潔凈度、溫度和濕度環(huán)境下進(jìn)行生產(chǎn)，所以潔凈區(qū)域的運(yùn)行和維護(hù)費(fèi)用很高。本發(fā)明通過設(shè)備本體的縱向布置設(shè)計(jì)及輔助設(shè)備在對(duì)應(yīng)樓層的合理分布，最大可能性的使用了潔凈區(qū)域的有效空間，從而降低的預(yù)制棒的生產(chǎn)成本。
【附圖說明】
[0026]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0027]圖1本發(fā)明設(shè)備和廠房樓層的縱向分布示意圖(a為前視圖，b為立體圖)。
[0028]圖2本發(fā)明某一樓層的設(shè)備平面分布示意圖。
[0029]其中，1-沉積塔架，2-樓板，3-提升旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，4-沉積腔體(VAD或OVD的設(shè)備本體)，5-預(yù)留洞口，6-氣柜，7-SiCljP GeCl 4蒸發(fā)柜，8-電柜。
【具體實(shí)施方式】
[0030]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0031]實(shí)施例1
[0032]如圖1中所示，本實(shí)施例中公開了一種布置VAD和OVD的設(shè)備及其方法，其設(shè)計(jì)方案主要為:一個(gè)多樓層的廠房和由下到上貫穿于各個(gè)樓層的沉積塔架1，上述沉積塔架I的基座設(shè)置在上述廠房的一樓，上述沉積塔架I的頂部達(dá)到上述廠房的樓頂?shù)唇佑|到樓頂，上述沉積塔架I在每個(gè)樓層的空間中掛裝一個(gè)VAD或OVD的設(shè)備本體4，上述設(shè)備本體4從一樓至頂樓成螺旋狀排布方式掛裝到上述沉積塔架I上；VAD或OVD的輔助設(shè)備安裝在對(duì)應(yīng)的VAD或OVD的設(shè)備本體的樓層上，且VAD或OVD的輔助設(shè)備環(huán)繞上述沉積塔架I周圍。
[0033]上述廠房的每個(gè)樓層的溫度、濕度和潔凈度需要進(jìn)行嚴(yán)格控制?？紤]到VAD或OVD設(shè)備在沉積過程中用于提升疏松體預(yù)制棒的機(jī)構(gòu)需要一定的高度空間，所以頂樓的高度需要設(shè)計(jì)為5m以上；其他樓層的高度設(shè)計(jì)為3m左右。并且，每層樓層的樓板2均設(shè)有預(yù)留洞口 5，上述預(yù)留洞口 5恰好供上述沉積塔架I穿過。
[0034]沉積塔架I必須具備足夠的高度，從一樓依次穿過各個(gè)樓板2的預(yù)留洞口 5并最終達(dá)到廠房樓頂附近；沉積塔架I必須有足夠的強(qiáng)度以防止VAD或OVD設(shè)備本體掛裝后沉積塔架I變形。
[0035]本實(shí)施例中，沉積塔架I在一個(gè)樓層之間的空間只掛裝一個(gè)VAD或OVD設(shè)備本體，各個(gè)樓層之間的設(shè)備本體掛裝位置為螺旋式上升；并且每個(gè)設(shè)備本體對(duì)應(yīng)一臺(tái)提升旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)3，由于VAD或OVD設(shè)備本體的預(yù)制棒提升機(jī)構(gòu)需要占用一定的高度空間，所以其提升旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)3會(huì)貫穿兩個(gè)樓層。上述提升旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)3為電機(jī)和鏈條配合的機(jī)構(gòu)，其能夠?qū)崿F(xiàn)提升和旋轉(zhuǎn)的功能，在其它實(shí)施例中，不限于形式。
[0036]上述VAD或OVD的輔助設(shè)備包括以下幾種:氣柜6、SiCl# GeCl 4蒸發(fā)柜7、電柜8和操作計(jì)算機(jī)。
[0037]上述VAD或OVD的輔助設(shè)備安裝在對(duì)應(yīng)VAD或OVD設(shè)備本體的同一樓層，并環(huán)繞分布在主體設(shè)備之外的三個(gè)方位?？紤]到各種原材料和工藝氣體所需的