一種tft玻璃薄化預(yù)處理方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種TFT玻璃薄化預(yù)處理方法，包括以下步驟：在密閉容器中注入濃硫酸、濃鹽酸以及氫氟酸的混合酸液；將混合酸液加熱至28-30℃同時(shí)鼓泡攪拌均勻；把混合酸液注入蝕刻設(shè)備中，持續(xù)鼓泡攪拌30-60分鐘至攪拌均勻；把需要薄化處理的TFT玻璃浸泡在混合液中持續(xù)15-60分鐘，去玻璃表面雙層50-80微米；把TFT玻璃洗凈保濕，再放入氫氟酸蝕刻液中進(jìn)行薄化處理。經(jīng)過預(yù)處理的TFT玻璃面板表面凹坑得到抑制，凹坑深度明顯比沒有經(jīng)過處理蝕刻后的玻璃淺，尺寸明顯減小，間接表現(xiàn)為相同機(jī)臺，相同條件拋光時(shí)間減短達(dá)50-80%，甚至可以達(dá)到不用拋光的效果。
【專利說明】一種TFT玻璃薄化預(yù)處理方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種TFT玻璃薄化預(yù)處理方法，該方法可以抑制薄化后的TFT玻璃表面的凹坑的深度和尺寸大小，減少后工序研磨的時(shí)間，從而降低后工序研磨的成本及提升后工序研磨的生產(chǎn)效率。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶TFT顯示屏目前主要采用化學(xué)薄化的辦法，其主要特點(diǎn)是薄化時(shí)間短，生產(chǎn)產(chǎn)量較大，工藝簡單；目前所有的薄化廠家都是直接使用氫氟酸或者添加其它的有機(jī)活性劑進(jìn)行蝕刻。隨著行業(yè)的發(fā)展，TFT顯示屏越來越朝超薄方向發(fā)展，甚至出現(xiàn)薄化到雙面
0.3_厚度，薄化過程需要化學(xué)蝕刻的時(shí)間更長，這種做法逐漸顯示出以下缺點(diǎn):1.玻璃蝕刻后表面出現(xiàn)凹坑需要長時(shí)間拋光；2.拋光材料導(dǎo)致成本增加效率低下，異常難以控制。
[0003]隨著液晶TFT薄化市場發(fā)展越來越大，成本和效率成為各廠家競爭的焦點(diǎn)，急需開發(fā)出一種能抑制薄化后玻璃表面的凹坑深度和大小的技術(shù)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了提升TFT玻璃薄化之后的表面效果，抑制玻璃薄化后表面凹坑的大小和深度，本發(fā)明提供一種在TFT玻璃薄化之前對玻璃表面層預(yù)先處理，改變玻璃表面結(jié)構(gòu)，然后再進(jìn)行化學(xué)薄化，從而達(dá)到抑制薄化過程玻璃表面的凹坑出現(xiàn)的目的。本發(fā)明的具體內(nèi)容如下:
[0005]一種TFT玻璃薄化預(yù)處理方法，包括以下步驟:
[0006]步驟一:在密閉容器中注入體積比分別為90-95%、3-5%、2-5%的濃硫酸、濃鹽酸以及氫氟酸的混合酸液；
[0007]步驟二:在密閉容器中將混合酸液加熱至28-30°C同時(shí)鼓泡攪拌均勻；
[0008]步驟三:把混合酸液注入蝕刻設(shè)備中，持續(xù)鼓泡攪拌30-60分鐘至攪拌均勻；
[0009]步驟四:把需要薄化處理的TFT玻璃浸泡在混合液中持續(xù)15-60分鐘，去玻璃表面雙層50-80微米；
[0010]步驟五:把經(jīng)過預(yù)處理的TFT玻璃洗凈保濕，再放入氫氟酸蝕刻液中進(jìn)行薄化處理。
[0011 ] 進(jìn)一步地，所述混合酸液的體積比為濃硫酸90%、濃鹽酸5%、氫氟酸5%。
[0012]進(jìn)一步地，所述混合酸液的體積比為濃硫酸92.23%、濃鹽酸2.91%、氫氟酸4.86%。
[0013]進(jìn)一步地，所述混合酸液的體積比為濃硫酸95%、濃鹽酸3%、氫氟酸2%。
[0014]進(jìn)一步地，所述 的濃硫酸濃度為80%、濃鹽酸濃度為30%、氫氟酸濃度為50%。
[0015]經(jīng)過以上方法處理后的TFT顯示基板玻璃薄化之后玻璃表面凹坑得到抑制，凹坑深度明顯比沒有經(jīng)過處理蝕刻后的玻璃淺，尺寸明顯減小，間接表現(xiàn)為相同機(jī)臺，相同條件拋光時(shí)間減短達(dá)50-80%，甚至可以達(dá)到不用拋光的效果?！揪唧w實(shí)施方式】
[0016]以下通過實(shí)施例對本發(fā)明的TFT玻璃薄化預(yù)處理方法進(jìn)行進(jìn)一步的說明。
[0017]實(shí)施例1:
[0018]取用原材料為板硝子ANIO O相同廠家同批次的TFT玻璃面板進(jìn)行，其厚度為1.0OOmm,尺寸為730mmX920mm。所采用的蝕刻及拋光設(shè)備分別為東莞鴻村蝕刻機(jī)和湖南永創(chuàng)拋光機(jī)。
[0019]步驟一:往一個(gè)密閉的儲罐容器中通過泵打入80%的濃硫酸900L，再打入30%的濃鹽酸50L，最后加入50%的氫氟酸50L ；
[0020]步驟二:在密閉的儲罐容器中加熱至28_30°C同時(shí)鼓泡攪拌均勻；
[0021 ] 步驟三:把混合酸打入蝕刻機(jī)酸槽中，持續(xù)鼓泡攪拌30-60分鐘均勻；
[0022]步驟四:把5片TFT基板A，B, C，D, E號浸泡在混合液中持續(xù)15分鐘，去玻璃表面雙層60微米；
[0023]步驟五:用清水洗凈玻璃表面，在表面濕潤的條件下再進(jìn)入氫氟酸蝕刻液中，濃度為9mol/L，溫度控制在30°C條件，薄化至0.5mm厚度。
[0024]在對照組中:把另5片TFT基板a，b, c, d, e清水清洗后直接進(jìn)入氫氟酸蝕刻液中濃度為9mol/L，溫度控制在30°C條件，薄化至0.5mm厚度。
[0025]在同一臺永創(chuàng)拋光機(jī)1300-3#上,壓力60g/cm2,下盤轉(zhuǎn)速50,上盤轉(zhuǎn)速40,研磨墊為環(huán)球LP-66型號，拋光粉為德樂士 101型號，吸附墊為FUJIBO BPE211型號，每研磨5分
鐘檢驗(yàn)一次表面效果，記錄研磨后檢驗(yàn)沒有凹坑的累計(jì)研磨時(shí)間如表1所示:
[0026]
【權(quán)利要求】
1.一種TFT玻璃薄化預(yù)處理方法，其特征在于，包括以下步驟: 步驟一，在密閉容器中注入體積比分別為90-95%、3-5%、2-5%的濃硫酸、濃鹽酸以及氫氟酸的混合酸液； 步驟二，在密閉容器中將混合酸液加熱至28-30°C同時(shí)鼓泡攪拌均勻； 步驟三，把混合酸液注入蝕刻設(shè)備中，持續(xù)鼓泡攪拌30-60分鐘至攪拌均勻； 步驟四，把需要薄化處理的TFT玻璃浸泡在混合液中持續(xù)15-60分鐘，去玻璃表面雙層50-80微米； 步驟五，把經(jīng)過預(yù)處理的TFT玻璃洗凈保濕，再放入氫氟酸蝕刻液中進(jìn)行薄化處理。
2.如權(quán)利要求1所述的TFT玻璃薄化預(yù)處理方法，其特征在于，所述混合酸液的體積比為濃硫酸90%、濃鹽酸5%、氫氟酸5%。
3.如權(quán)利要求1所述的TFT玻璃薄化預(yù)處理方法，其特征在于，所述混合酸液的體積比為濃硫酸92.23%、濃鹽酸2.91%、氫氟酸4.86%。
4.如權(quán)利要求1所述的TFT玻璃薄化預(yù)處理方法，其特征在于，所述混合酸液的體積比為濃硫酸95%、濃鹽酸3%、氫氟酸2%。
5.如權(quán)利要求1-4所述的TFT玻璃薄化預(yù)處理方法，其特征在于，所述的濃硫酸濃度為80%、濃鹽酸濃度為30%、氫氟酸濃度為50%。
【文檔編號】C03C15/00GK103951270SQ201410154888
【公開日】2014年7月30日 申請日期:2014年4月17日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月17日
【發(fā)明者】李高貴 申請人:蘇州凱利昂光電科技有限公司