專利名稱：表面具有部分拋光和凹凸堆積紋理的陶瓷磚制造工藝的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及建筑陶瓷磚的領域，特別是陶瓷磚在制造過程中的表面裝飾。
背景技術(shù)：
目前市場上較流行的陶瓷磚產(chǎn)品，主要是印花仿古磚和拋光磚。其中，印花仿古磚它是在平面的或凹凸的磚坯上，用色彩釉料通過絲網(wǎng)印刷或輥筒印刷等平面印刷方法，按設計要求在陶瓷磚坯的表面通過幾重印刷印上各種花紋，燒成后由于釉的熔融而與磚坯結(jié)合成一體顯露在磚的正表面，磚面是平坦的，也有些是略感粗糙的。其特點是花色豐富，磚面平坦，但缺乏凹凸層次，顯得有些沉悶、呆板。而拋光磚它是在對磚坯用色彩釉料進行滲花，或在模壓時通過二次布料的方法壓制出具有隨機花色的磚坯，經(jīng)燒成后對平面的磚體正表面進行拋光，從而使陶瓷磚顯示出滲印的花紋和二次布料的隨機花紋，花色較單調(diào)。拋光磚的特點是磚面光亮，具很高的光澤度，但它外觀顯得過于冷峻、硬朗；且因磚體表皮被拋磨掉使磚體內(nèi)的毛細孔外露而易吸污，存在因磚面光亮而防滑性能較差、經(jīng)過幾年的使用后因耐磨度有限易被磨損而失去光澤等問題。
若對印花仿古磚直接進行拋光，其磚表面的印花層將會全部被拋磨掉，使之變成一塊失去花紋與色彩的“光面磚”，而普通拋光磚又無法獲得印花仿古磚所具有的豐富花色。

發(fā)明內(nèi)容
由于市場上廣泛流行的印花仿古磚和拋光磚都各有其優(yōu)缺點，本發(fā)明的目的就是，既要保留印花仿古磚花色豐富的優(yōu)點，又要克服其外觀缺乏層次及呆板的缺點，同時擁有拋光磚的光澤感，還要具有防滑耐磨性能，且磚面質(zhì)感又不致過于冷硬等要求，從而提出一種表面具有部分拋光和凹凸堆積紋理的陶瓷磚制造工藝，實現(xiàn)取印花仿古磚和拋光磚二者之長，舍二者之短的目的，讓陶瓷磚具有更高的裝飾檔次，美化人們的生活。
本發(fā)明的目的是通過如下技術(shù)方案實現(xiàn)的表面具有部分拋光和凹凸堆積紋理的陶瓷磚制造工藝，其常規(guī)的工藝順序為坯料制備工序，磚坯成型工序，施底釉或印花釉工序，其特征在于磚坯施底釉或印花釉后，在其表面再施一層粘結(jié)劑，該層粘結(jié)劑須在煅燒后能全部揮發(fā)掉且不留下任何顏色；然后在粘結(jié)劑表面均勻布施一層顆粒度為20-160目的干釉粒，干釉粒被粘結(jié)劑所粘結(jié)；將表面粘附有干釉粒的磚坯放入輥道窯中經(jīng)1100～1250℃的高溫煅燒，直至干釉粒局部熔融，形成高低不平、凹凸均勻的珠粒狀?；詫樱焕鋮s后，對磚坯上的珠粒狀?；詫拥耐鬼敳糠诌M行磨削拋光，且被拋磨掉的凸頂高度為原有凸頂高度的1/3～1/2，得成品。進一步地，干釉粒是以高純度的長石、熔塊及堿土金屬氧化物為配料，用常規(guī)球磨和噴霧干燥的方法，造出不同粒徑的釉粒，經(jīng)800～900℃的高溫硬化處理，然后進行顆粒篩分而制成。
當磚坯上施有印花釉圖案時，施用于磚坯上的干釉粒經(jīng)高溫煅燒后最好是透明的，以充分顯現(xiàn)其下面印花釉的色彩和圖案。與之相反，為達到若隱若現(xiàn)、蒙朧的效果，干釉粒的配料中加入釉用色料，高溫煅燒后是體現(xiàn)出顏色的，而非透明的。為保證粘結(jié)劑不會影響磚坯上的色彩和圖案，粘結(jié)劑采用甲基纖維素、乙二醇或甲基纖維素和乙二醇配比成。為保證磚坯上形成自然的紋理，粘附有干釉粒的磚坯在輥道窯中高溫煅燒的時間取決于，讓干釉粒只是表面熔融，干釉粒與干釉粒之間、干釉粒與磚坯之間由融化的釉層粘連，而干釉粒本身并沒有完全熔融平化，只是矮化，從而使磚坯表面形成高低起伏、分布均勻、凹凸堆積的珠粒狀?；詫?。
采用上述工藝，本發(fā)明的具有明顯的優(yōu)點和積極的效果它既保留了傳統(tǒng)印花仿古磚的圖案和色彩豐富的優(yōu)點，克服了其缺乏層次、呆板和沉悶的風格，又具有了拋光磚的光澤和質(zhì)感，相當于印花仿古磚和拋光磚優(yōu)點的集合。由于它表面有了一層厚度為0.5mm～1.5mm左右或更厚的由干釉粒形成的?；詫?，當干釉粒是透明的或淺顏色的，它就既可以讓其下的印花色彩、圖案充分得到外顯，又讓這些花色通過表層釉面的覆蓋而得到有效的保護，使這些花色幾乎達到永不磨損成為可能。當干釉粒是深彩色的，釉下的印花就較難得到充分的外顯，若隱若現(xiàn)，蒙蒙朧朧，裝飾效果別具一格。由于干釉粒是高溫釉，它的硬度高，內(nèi)部結(jié)構(gòu)致密，沒有普通拋光磚所存在的因磚坯內(nèi)固有的毛細氣孔外露而吸污的問題，從而使本發(fā)明的產(chǎn)品將具有更為良好的防污性和耐磨性。
由于本發(fā)明只對珠粒狀?；詫颖砻娴纳喜客鬼斶M行了部分磨削拋光，加上釉粒的散光作用，所以磚面的光澤度比普通拋光磚低，正因為如此，本發(fā)明避免了普通拋光磚的鏡面般的光亮與冷硬，而增加了因光線散射而產(chǎn)生的柔和與高雅，在陽光或燈光下如珍珠落地般星光閃爍，質(zhì)感別致而高貴，裝飾效果比傳統(tǒng)印花仿古磚或普通拋光磚更勝一籌。


圖1是本發(fā)明的陶瓷磚層面效果示意圖。
圖中標注，1是磚坯，2是底釉層，3是印花釉層，4是珠粒狀?；詫?，5是被拋磨掉的玻化釉層的凸頂。
具體實施例方式
本發(fā)明的陶瓷磚制造工藝包括如下基本工藝順序坯料制備工序、磚坯成型工序、施底釉或印花釉工序、施粘結(jié)劑工序、施干釉粒工序、煅燒工序、磨削拋光工序。上述工序中，坯料制備工序、磚坯成型工序、施底釉或印花釉工序與傳統(tǒng)的技術(shù)類同，而施粘結(jié)劑工序、施干釉粒工序、煅燒工序、磨削拋光工序則與傳統(tǒng)技術(shù)存在較大的不同。
其中，干釉粒要預先制取備用，以較高純度的長石、熔塊、堿土金屬氧化物等化工類原料組成配方(注這種干釉粒屬高溫釉，其配方須能配合磚坯在1100～1250℃左右的溫度下燒成使用)，用傳統(tǒng)球磨和噴霧干燥的方法，制造出不同粒徑的干燥釉粒，經(jīng)800～900℃的高溫硬化處理，再將它們進行顆粒篩分，按顆粒的不同大小分開包裝備用，這就是干釉粒。若在配方中加入某種釉用色料(如綠、藍、紅、黃、灰、白、黑…)，用上述方法制造的干釉粒就是彩色的，叫彩色干釉粒；配方中若不配加釉用色料，制得的干釉粒是白色的，但將它施用于磚面上經(jīng)高溫燒成后是透明的，故稱之為透明干釉粒?？傊捎粤５念伾Q是以其用于磚體經(jīng)高溫燒成后所發(fā)出的顏色來決定。使用前須對干釉粒進行顆粒篩分，才能凸現(xiàn)產(chǎn)品的珠狀?；粤７植季鶆颍_保釉粒間縫隙界線分明而均勻。
實施例一大顆粒透明干釉粒的陶瓷磚制造工藝白料坯料制造-→全自動壓磚機壓制成型(用PH980壓機，制成600mm×300mm×10mm磚坯)-→坯體干燥(用臥式干燥器，坯體含水率＜1％)-→施底釉(乳濁釉，釉漿密度1.75±0.50，用量500±100g/m2)-→印花(用4種印花釉，4臺印花機，重疊印4重，形成巖石狀紋飾)-→施粘結(jié)劑(用甲基纖維素∶乙二醇∶水＝1∶3～5∶30～50配制而成，用量300±50g/m2)-→均撒大顆粒透明干釉粒(顆粒度為30目～80目，用量400±100g/m2)-→煅燒(輥道窯，燒成溫度1180±50℃，燒成時間60±10min)-→局部拋光(冷卻后，拋磨掉凸頂部約1/3高度)。產(chǎn)品的特點是磚的正表面珠狀顆粒粗而大，凹凸明顯而強烈，視覺沖擊力大。
實施例二小顆粒透明干釉粒的陶瓷磚制造工藝白料坯料制造-→全自動壓磚機壓制成型(用PH980壓機，制成600mm×300mm×10mm磚坯)-→坯體干燥(用臥式干燥器，坯體含水率＜1％)-→施底釉(乳濁釉，釉漿密度1.75±0.50，用量500±100g/m2)-→印花(用5種印花釉，5臺印花機，重疊印5重，形成巖石狀紋飾)-→施粘結(jié)劑(用甲基纖維素∶乙二醇∶水＝1∶3～5∶30～50配制而成，用量230±50g/m2)-→均撒小顆粒透明干釉粒(顆粒度為60目～160目，用量200±60g/m2)-→煅燒(輥道窯，燒成溫度1180±50℃，燒成時間60±10min)-→局部拋光(冷卻后，拋磨掉凸頂部約1/2高度)。產(chǎn)品的特點是磚的正表面珠狀顆粒密而細，表面光亮度較高，凹凸沒那么明顯強烈，視覺沖擊力小些。
實施例三大顆粒彩色干釉粒的陶瓷磚制造工藝白料坯料制造-→全自動壓磚機壓制成型(用PH980壓機，制成600mm×300mm×10mm磚坯)-→坯體干燥(用臥式干燥器，坯體含水率＜1％)-→不施底釉-→印花(用3種印花釉，3臺印花機，重疊印3重，形成巖石狀紋飾)-→施粘結(jié)劑(用甲基纖維素∶乙二醇∶水＝1∶3～5∶30～50配制而成，用量300±50g/m2)-→均撒大顆粒淺紅色干釉粒(顆粒度為20目～40目，用量400±100g/m2)-→煅燒(輥道窯，燒成溫度1180±50℃，燒成時間60±10min)-→局部拋光(冷卻后，拋磨掉凸頂部約1/3高度)。產(chǎn)品的特點是磚的正表面淺紅色珠狀顆粒比實施例一更加粗而大，凹凸明顯而強烈，視覺沖擊力大。
實施例四小顆粒淺黃色干釉粒的陶瓷磚制造工藝白料坯料制造-→全自動壓磚機壓制成型(用PH980壓機，制成600mm×300mm×10mm磚坯)-→坯體干燥(用臥式干燥器，坯體含水率＜1％)-→施底釉(乳濁釉，釉漿密度1.75±0.50，用量500±100g/m2)-→印花(用2種印花釉，2臺印花機，重疊印2重，形成泥土狀紋飾)-→施粘結(jié)劑(用甲基纖維素∶乙二醇∶水＝1∶3～5∶30～50配制而成，用量230±50g/m2)-→均撒小顆粒淺黃色干釉粒(顆粒度為60目～160目，用量200±60g/m2)-→煅燒(輥道窯，燒成溫度1180±50℃，燒成時間60±10min)-→局部拋光(冷卻后，拋磨掉凸頂部約1/2高度)。產(chǎn)品的特點是磚的正表面淺黃色珠狀顆粒密而細，與實施例二一樣，表面光亮度較高，凹凸沒那么明顯強烈，視覺沖擊力小些。
由上述4個實施例可知，若將干釉粒的粒度梯度再行細分，使撒到磚坯上的干釉粒顆粒的大小更均勻一致，加上掌握控制好對珠狀?；詫油鬼敳糠忠圆煌膾伖饬?，就可將陶瓷磚產(chǎn)品的光亮度和隙紋分布所產(chǎn)生的視覺沖擊力由大到小分成若干個等級，使紋理、花色品種更加豐富多彩，以滿足不同要求的消費者。當然，這里僅列舉了幾種較佳的實施方式，其它等同、類同的工藝均應屬于本專利的保護范疇，這里不再贅述。
權(quán)利要求
1.表面具有部分拋光和凹凸堆積紋理的陶瓷磚制造工藝，其常規(guī)的工藝順序為坯料制備工序，磚坯成型工序，施底釉或印花釉工序，其特征在于磚坯施底釉或印花釉后，在其表面再施一層粘結(jié)劑，該層粘結(jié)劑須在煅燒后能全部揮發(fā)掉且不留下任何顏色；然后在粘結(jié)劑表面均勻布施一層顆粒度為20-160目的干釉粒，干釉粒被粘結(jié)劑所粘結(jié)；將表面粘附有干釉粒的磚坯放入輥道窯中經(jīng)1100～1250℃的高溫煅燒，直至干釉粒局部熔融，形成高低不平、凹凸均勻的珠粒狀?；詫?；冷卻后，對磚坯上的珠粒狀玻化釉層的凸頂部分進行磨削拋光，且被拋磨掉的凸頂高度為原有凸頂高度的1/3～1/2，得成品。
2根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷磚制造工藝，其特征是干釉粒是以高純度的長石、熔塊及堿土金屬氧化物為配料，用常規(guī)球磨和噴霧干燥的方法，造出不同粒徑的釉粒，經(jīng)800～900℃的高溫硬化處理，然后進行顆粒篩分而制成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的陶瓷磚制造工藝，其特征是施用于磚坯上的干釉粒經(jīng)高溫煅燒后是透明的，以顯現(xiàn)其下面印花釉的色彩和圖案。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的陶瓷磚制造工藝，其特征是干釉粒的配料中加入釉用色料，高溫煅燒后是體現(xiàn)出顏色的，而非透明的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的陶瓷磚制造工藝，其特征是粘結(jié)劑采用甲基纖維素、乙二醇或甲基纖維素和乙二醇配比成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的陶瓷磚制造工藝，其特征是粘附有干釉粒的磚坯在輥道窯中高溫煅燒的時間取決于，讓干釉粒只是表面熔融，干釉粒與干釉粒之間、干釉粒與磚坯之間由融化的釉層粘連，而干釉粒本身并沒有完全熔融平化，只是矮化，從而使磚坯表面形成高低起伏、分布均勻、凹凸堆積的珠粒狀?；詫?。
全文摘要
本發(fā)明涉及表面具有部分拋光和凹凸堆積紋理的陶瓷磚制造工藝，在傳統(tǒng)工藝的基礎上進行創(chuàng)新，磚坯施底釉或印花釉后，在其表面再施一層煅燒后能全部揮發(fā)掉且不留下任何顏色的粘結(jié)劑；在粘結(jié)劑表面均勻布施一層20－160目的干釉粒；將表面粘附有干釉粒的磚坯放入輥道窯中經(jīng)1100～1250℃的高溫煅燒，直至干釉粒局部熔融，形成高低不平、凹凸均勻的珠粒狀?；詫樱焕鋮s后，對磚坯上的珠粒狀?；詫拥耐鬼敳糠诌M行原有凸頂高度1/3～1/2的磨削拋光，得到的陶瓷磚成品既保留了傳統(tǒng)印花仿古磚花色豐富的優(yōu)點，又克服了其外觀缺乏層次及呆板的缺點，同時擁有拋光磚的光澤感，還具有優(yōu)異的防滑、防污、耐磨性能，使陶瓷磚具有更高的裝飾檔次。
文檔編號C04B33/32GK1974471SQ20061016685
公開日2007年6月6日 申請日期2006年12月5日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月5日
發(fā)明者羅杰華, 駱建民, 霍建強, 何玉方 申請人:羅杰華, 駱建民