專(zhuān)利名稱(chēng)：具有多維流體分配器的淋浴頭的制作方法
具有多維流體分配器的淋浴頭背景技術(shù)及

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明大體涉及淋浴頭，且確切地說(shuō)，涉及包括多維流體分配器的淋浴頭。已知淋浴頭組件用于通過(guò)噴嘴等出口對(duì)水進(jìn)行分配，從而在沐浴區(qū)內(nèi)產(chǎn)生噴水。某些此種淋浴頭組件包括一些機(jī)械裝置，用于調(diào)節(jié)從出口分散出來(lái)的噴水。已知也可以提供一種包括手握式淋浴器的淋浴頭組件，所述淋浴頭組件可以引導(dǎo)噴水與底座或固定的淋浴頭分離。手握式淋浴器可以以可拆除方式安裝或?qū)拥焦潭ǖ牧茉☆^，其中水可以通過(guò)淋浴頭和手握式淋浴器輸送到沐浴區(qū)。例如，此種淋浴頭組件在列夫(Lev)的第7，360, 723號(hào)美國(guó)專(zhuān)利、列夫(Lev)的第7，665，676號(hào)美國(guó)專(zhuān)利以及吉諾德(Genord)等人的第2009/0007330號(hào)美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)案中有所描述。根據(jù)本發(fā)明的一項(xiàng)說(shuō)明性實(shí)施例，提供一種淋浴頭組件，該組件包括多個(gè)多維射流裝置，用于提供多維噴霧圖案。在一項(xiàng)說(shuō)明性實(shí)施例中，淋浴頭組件包括以可拆除方式耦接到底座淋浴頭的手握式淋浴器。多個(gè)二維(2D)射流裝置由手握式淋浴器支撐，而且經(jīng)配置以使水圍繞中心軸振蕩，從而在平面內(nèi)生成水扇。多個(gè)三維(3D)射流裝置由底座淋浴頭支撐，而且經(jīng)配置以使水在平面中的每個(gè)平面內(nèi)圍繞相應(yīng)中心軸發(fā)生振蕩，從而在發(fā)散平面內(nèi)生成多個(gè)水扇。根據(jù)本發(fā)明的另一項(xiàng)說(shuō)明性實(shí)施例，淋浴頭組件包括:第一流體分配單元，其包括多個(gè)第一射流裝置；以及第二流體分配單元，其以可拆除方式耦接到所述第一流體分配單元而且包括多個(gè)第二射流裝置。所述第一射流裝置和所述第二射流裝置各自提供多維噴霧圖案。根據(jù)本發(fā)明的又一項(xiàng)說(shuō)明性實(shí)施例，淋浴頭組件包括:底座；以及以可拆除方式耦接到所述底座的手握式淋浴器。多個(gè)二維射流裝置由手握式淋浴器支撐，而且經(jīng)配置以使水圍繞中心軸振蕩，從而在平面內(nèi)生成水扇。流量控制閥經(jīng)配置以對(duì)輸送到二維射流裝置的水的流速進(jìn)行控制，所述二維射流裝置由手握式淋浴器支撐。所屬領(lǐng)域的一般技術(shù)人員可以通過(guò)仔細(xì)考慮下述對(duì)說(shuō)明性實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明來(lái)清楚地了解本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)，其中所述說(shuō)明性實(shí)施例舉例說(shuō)明了目前公認(rèn)的實(shí)施本發(fā)明的最佳方式。


對(duì)圖式的詳細(xì)描述尤其參考以下附圖，其中:圖1為本發(fā)明的說(shuō)明性淋浴頭組件的透視圖，示出了與底座淋浴頭對(duì)接的手握式淋浴器；圖2為圖1中說(shuō)明性手握式淋浴器組件的透視圖，示出了與底座淋浴頭分開(kāi)的手握式淋浴器；圖3為沿著圖1中的線(xiàn)3-3截取的截面圖；圖4為沿著圖1中的線(xiàn)4-4截取的截面圖；圖5為圖1中說(shuō)明性淋浴頭組件的平面正視圖6A和圖6B為圖1中底座淋浴頭的分解透視圖；圖7為沿著圖5中的線(xiàn)7-7截取的底座淋浴頭水路的截面圖；圖8A為圖7中水路的細(xì)節(jié)圖；圖8B為圖7中水路的進(jìn)一步的細(xì)節(jié)圖；圖9為圖1中手握式淋浴器的正面分解透視圖；圖10為圖1中手握式淋浴器的后方部分分解透視圖；圖11為沿著圖5中的線(xiàn)11-11截取的手握式淋浴器水路的截面圖；圖12為由本發(fā)明的二維射流裝置進(jìn)行分配的水的局部透視示意圖；圖13A為由本發(fā)明的三維射流裝置進(jìn)行分配的水的局部透視示意圖；圖13B為由圖13A中三維射流裝置進(jìn)行分配的水的局部俯視平面示意圖；圖13C為由圖13A中三維射流裝置進(jìn)行分配的水的局部側(cè)面示意圖；圖14為又一說(shuō)明性淋浴頭的放大的正面透視圖；圖15為沿著線(xiàn)15-15截取的圖14所示淋浴頭的截面圖；圖16為沿著線(xiàn)16-16截取的圖15所示淋浴頭的截面圖；圖17為圖14中淋浴頭的分解透視圖；圖18為說(shuō)明性淋浴頭組件的透視圖，示出了手握式淋浴器與底座淋浴頭之間的
又一對(duì)接布置；圖19為圖18中說(shuō)明性手握式淋浴器組件的部分分解透視圖，示出了與底座淋浴頭和手握式淋浴器的內(nèi)部水路部件分開(kāi)的手握式淋浴器，為了清晰起見(jiàn)，將手握式淋浴器的內(nèi)部水路部件移除。圖20A為圖19中說(shuō)明性手握式淋浴器組件的截面圖，示出了耦接到底座淋浴頭的手握式淋浴器；圖20B為類(lèi)似于圖20A的截面圖，示出了部分與底座淋浴頭分開(kāi)的手握式淋浴器；圖21A為盤(pán)式磁體磁場(chǎng)的說(shuō)明性磁通線(xiàn)的示意圖；圖21B為支架元件(backing element)內(nèi)所容納的盤(pán)式磁體磁場(chǎng)的說(shuō)明性磁通線(xiàn)的不意圖；圖22為包括流量控制閥的說(shuō)明性淋浴頭組件的透視圖；圖23A為圖22中淋浴頭組件的部分截面圖，示出了在低流速模式下的流量控制閥；圖23B為類(lèi)似于圖23A的部分截面圖，示出了在高流速模式下的流量控制閥；圖24為圖22中流量控制閥的分解透視圖；圖25為本發(fā)明的又一說(shuō)明性淋浴頭組件的平面正視圖；圖26為本發(fā)明的又一說(shuō)明性淋浴頭組件的平面正視圖；圖27為本發(fā)明的又一說(shuō)明性淋浴頭組件的平面正視圖；以及圖28為本發(fā)明的又一說(shuō)明性淋浴頭組件的平面正視圖。
具體實(shí)施例方式本文所述的本發(fā)明的實(shí)施例并不用于徹底說(shuō)明，或者將本發(fā)明限于所揭示的精確形式。事實(shí)上，為此番描述而選出的實(shí)施例的目的是為了使所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)嵺`本發(fā)明。首先參考圖1和圖2，淋浴頭組件10示范性地包括第一流體分配單元12和第二流體分配單元14，所述第二流體分配單元14以可拆除方式耦接到第一流體分配單元12。說(shuō)明性地，第一流體分配單元12包括固定的或底座淋浴頭，其經(jīng)配置以得到用戶(hù)(通常稱(chēng)為頂噴)上方的浴室墻壁(未示出)的支撐。第二流體分配單元14說(shuō)明性地包括手動(dòng)桿或手握式淋浴器。手握式淋浴器14以可拆除方式與底座淋浴頭12耦接或?qū)?。供水系統(tǒng)22將水供應(yīng)到所述底座淋浴頭12和可拆除手握式淋浴器14。供水系統(tǒng)22通過(guò)流體連接器24與淋浴頭組件10流體連通。參考圖3、圖4和圖6B，流體連接器24說(shuō)明性地包括浴球(shower ball) 26以及容納在滾珠墊圈30與滾珠連接器32之間的環(huán)首螺釘28。浴球26使淋浴頭12能夠圍繞正交軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。浴球26中的內(nèi)螺紋36促進(jìn)與導(dǎo)管或立管40 (圖1和圖3示出)的外螺紋38進(jìn)行連接，所述導(dǎo)管或立管40由浴室墻壁(未示出)支撐。如本文進(jìn)一步詳述，可以提供限流器來(lái)對(duì)從供水系統(tǒng)22進(jìn)入淋浴頭組件10中的水的流速進(jìn)行限制。在圖1和圖2的說(shuō)明性實(shí)施例中，底座淋浴頭12包括弧形外殼44，所述弧形外殼與中心凹槽或開(kāi)口 46形成圓環(huán)，所述中心凹槽或開(kāi)口 46配置成以可拆除方式容納手握式淋浴器14。外殼44說(shuō)明性地包括前飾板(front trim) 48,所述前飾板通過(guò)多個(gè)彈性鎖閂舌片52 (圖6A示出)耦接到后飾板(rear trim) 50。發(fā)動(dòng)機(jī)組件54容納在外殼44內(nèi)。參考圖6A、圖6B和圖7，發(fā)動(dòng)機(jī)組件54說(shuō)明性地包括水路56，所述水路56通過(guò)多個(gè)螺釘60緊固到噴水面58。密封墊62在水路56與噴水面58之間提供密封。水室63形成于水路56與密封墊62之間(圖8A示出)。在某些其他實(shí)施例中，水路56和噴水面58可以通過(guò)使它們密封的其他方式耦接在一起，包括通過(guò)粘合劑或熱板焊進(jìn)行耦接，從而消除對(duì)螺釘60以及密封墊62的需求。參考圖3和圖6A，水路56說(shuō)明性地包括入口 64，所述入口 64通過(guò)一對(duì)管臂68、70與弧形構(gòu)件66流體連通。入口 64支撐流體連接器24。螺母34將后飾板50緊固到入口 64。管狀構(gòu)件72由水路56支撐，而且可以通過(guò)撓性軟管74 (圖3示出)與手握式淋浴器14流體連通。限流器75可以在靠近入口 64的后端處得到支撐，而且經(jīng)配置以將穿過(guò)其中的水流速率限制為不超過(guò)預(yù)定值。在一項(xiàng)說(shuō)明性實(shí)施例中，限流器75將水流速率限制為不超過(guò)2.5加侖/分鐘(gpm)。在另一項(xiàng)說(shuō)明性實(shí)施例中，根據(jù)美國(guó)國(guó)家環(huán)境保護(hù)局(U.S.Environmental Protection Agency)在2010年3月4日發(fā)行的淋浴頭的節(jié)水規(guī)范(WaterSense Specification for Showerheads)(可在網(wǎng)站 http://www.epa.gov/watersense/does/showerheads_finalspec508.pdf 獲得)，限流器 75 將流速限制為不超過(guò)
2.0加侖/分鐘(gpm)。插塞76和O形環(huán)78可以對(duì)入口 64的前端進(jìn)行密封。插塞76可以使用常規(guī)耦合器緊固到入口 64，所述常規(guī)耦合器例如，彈性指針、螺紋或卡口式聯(lián)接器?；蛘?，插塞76可以通過(guò)粘合劑或熱板焊進(jìn)行耦接等方式密封地緊固到入口 64的前端，從而消除對(duì)O形環(huán)78的需求。參考圖4和圖6B，分流閥80由水路56支撐，而且經(jīng)配置以將選擇性的或組合的水流供應(yīng)給底座淋浴頭12和手握式淋浴器14或其中一者。分流閥80說(shuō)明性地包括控制構(gòu)件82，所述控制構(gòu)件82耦接到旋鈕84，以隨著旋鈕84 —起旋轉(zhuǎn)?？刂茦?gòu)件82通過(guò)固定夾85說(shuō)明性地以可旋轉(zhuǎn)方式耦接到入口 64?？刂茦?gòu)件82與密封墊86配合，以選擇性地將水引導(dǎo)至管臂68、70 (以及淋浴頭12的噴水面58)和/或管狀構(gòu)件72 (以及手握式淋浴器14)。由于彈簧90而偏離的插銷(xiāo)88選擇性地將控制構(gòu)件82鎖定在三個(gè)位置中的一個(gè)位置，每個(gè)位置都從相鄰位置偏移45度。在第一位置，通過(guò)分流閥80將水流引導(dǎo)至淋浴頭12的噴水面58。在第二位置，將水流引導(dǎo)至管狀構(gòu)件72和手握式淋浴器14。在第三位置，將水流引導(dǎo)至(淋浴頭12的)噴水面58和(通過(guò)軟管74)將水流引導(dǎo)至管狀構(gòu)件72 (以及手握式淋浴器14)。多個(gè)多維流體分配器或射流裝置92由噴水面58支撐，而且與水路56的水室63流體連通。如本文進(jìn)一步詳述，多維射流裝置經(jīng)配置以生成至少在二維中運(yùn)動(dòng)的水流或水柱。每個(gè)射流裝置92說(shuō)明性地容納在外殼94內(nèi)，而外殼94容納在一個(gè)突出部分或凸起部96內(nèi)，其中突出部分或凸起部96形成于噴水面58中。說(shuō)明性地，射流裝置92的大小經(jīng)過(guò)設(shè)置，以壓入配合到外殼94內(nèi)，且外殼94的大小經(jīng)過(guò)設(shè)置，以壓入配合到凸起部96內(nèi)。外殼94也可以以超聲波方式焊接到凸起部96。參考圖7至圖8B，形成于水路56與密封墊62之間的水室63經(jīng)配置以有效地將腔室63的體積最小化，從而提高射流裝置92對(duì)水流活動(dòng)的響應(yīng)性(即，“快速打開(kāi)”所有射流裝置92)。密封墊62保持在水路56的外向表面或基座98與噴水面58的內(nèi)向表面或基座100之間。說(shuō)明性地，射流裝置92從噴水面58得到大體向外的支撐。如圖8A的說(shuō)明性實(shí)施例中所示，射流裝置92的入口 102支撐為與噴水面58的基座100大體齊平(即，大體在相同平面內(nèi))。凸起部96從基座100向前延伸，從而在密封墊62與水路56的基座98之間提供大體恒定的橫截面流動(dòng)區(qū)域。換言之，射流裝置92之間的水室63的體積未產(chǎn)生較大變化。在說(shuō)明性實(shí)施例中，密封墊62與基座98之間的尺寸“a”(圖8B示出)約為0.080英寸，從而使射流裝置92對(duì)水活動(dòng)作出快速響應(yīng),而射流裝置92的入口 102之間的尺寸“b”(圖8A示出)約為0.120英寸，從而將適當(dāng)?shù)乃魈峁┙o射流裝置92，且使射流裝置92運(yùn)行。前飾板48包括弧形外部或環(huán)104，所述弧形外部或環(huán)104得到噴水面58的向前支撐。前部48和發(fā)動(dòng)機(jī)組件54配合以形成中心凹槽46，所述中心凹槽46經(jīng)配置以容納出口部分或手握式淋浴器14的噴頭外殼108。相對(duì)面IlOaUlOb形成下槽112，以容納手握式淋浴器14的手柄114。說(shuō)明性地由合成橡膠制成的一對(duì)相對(duì)的緩沖器116a、116b可以有助于將手柄114保持在槽112內(nèi)的合適位置。在本文進(jìn)一步詳述的某些說(shuō)明性實(shí)施例中，至少一個(gè)磁體118可以由前飾板48的后壁120支撐，而且配置成以可拆除方式將手握式淋浴器14緊固到底座淋浴頭12。盡管說(shuō)明性實(shí)施例中，發(fā)動(dòng)機(jī)組件54和前飾板48用與下槽112 —起形成半圓來(lái)顯示，但也可以使用其他配置來(lái)將其替代。例如，發(fā)動(dòng)機(jī)組件54和前飾板48可以采用其他多邊形形式，例如，矩形和三角形。下文參考圖25至圖28對(duì)其他配置進(jìn)行詳細(xì)描述。參考圖3、圖9、圖10和圖11，手握式淋浴器14說(shuō)明性地包括殼體130，所述殼體130形成手柄114和噴頭外殼108。水路132容納在手柄114中，且與水路適配器134流體連通，所述水路適配器134與水路132之間具有O形環(huán)133。水路適配器134配置成與撓性軟管74流體連通，所述撓性軟管74延伸到淋浴頭12的入口 64。密封構(gòu)件135位于適配器134與手柄114之間。手握式淋浴器發(fā)動(dòng)機(jī)136容納在噴頭外殼108內(nèi)，而且與水路132流體連通。手握式淋浴器發(fā)動(dòng)機(jī)136說(shuō)明性地包括手握式淋浴器發(fā)動(dòng)機(jī)水路138，水路138耦接到手握式淋浴器發(fā)動(dòng)機(jī)噴水面140 (圖10和圖11示出)。一對(duì)同心O形環(huán)142和144說(shuō)明性地位于水路138和噴水面140中間，以便使它們密封接合。水路室145形成于水路138與噴水面140之間。多個(gè)螺釘146說(shuō)明性地將噴水面140耦接到水路138。在某些其他實(shí)施例中，水路138和噴水面140可以通過(guò)使它們密封的其他方式耦接在一起，包括通過(guò)粘合劑或熱板焊進(jìn)行耦接，從而消除對(duì)螺釘146以及O形環(huán)142和144的需求。螺釘148等的緊固件可以將手握式淋浴器發(fā)動(dòng)機(jī)136耦接到殼體130。外蓋或飾板150說(shuō)明性地耦接到噴頭外殼108。水路138包括開(kāi)口 152，所述開(kāi)口 152與水路132的出口 154流體連通，而且通過(guò)O形環(huán)156與之密封。金屬墊圈158等的吸磁構(gòu)件說(shuō)明性地由外殼108的前表面160支撐，而且經(jīng)配置以被淋浴頭12的磁體118吸引。噴水面140包括多個(gè)突出部分或凸起部162，這些突出部分或凸起部162形成腔室164，以容納多維流體分配器或射流裝置166。飾板150包括開(kāi)口 168，所述開(kāi)口 168與射流裝置166的出口 169對(duì)齊，以容納從射流裝置166分散出來(lái)的水。說(shuō)明性地，裝置166的大小經(jīng)過(guò)設(shè)置，以壓入配合到凸起部162的腔室164內(nèi)。在又一說(shuō)明性實(shí)施例中，外殼(未示出)可以支撐凸起部162內(nèi)的射流裝置166。參考圖11，正如淋浴頭12的水室63那樣，形成于水路138與噴水面140之間的水路室145經(jīng)配置以有效地將腔室145的體積最小化，從而提高射流裝置166對(duì)水流活動(dòng)的響應(yīng)性(即，“快速打開(kāi)”所有射流裝置166)。說(shuō)明性地，射流裝置166從噴水面140得到大體向外的支撐，以使得射流裝置166的入口 170與噴水面140的向內(nèi)表面172大體處于同一水平(即，大體在相同平面內(nèi))。盡管在圖11中，鑒于O形環(huán)142和144的密封配置，入口170從噴水面140的表面172向內(nèi)偏移，但是應(yīng)注意，在去除O形環(huán)142和144的配置中，入口 170和表面172可以大體齊平。凸起部162從表面172向前延伸，從而在水路室145內(nèi)形成大體恒定的橫截面流動(dòng)區(qū)域。換言之，從入口到射流裝置166的水室145的體積未產(chǎn)生較大變化。進(jìn)一步參考圖11，水路138與表面172之間的尺寸“c”約為0.2英寸,而水路138與射流裝置166的入口 170之間的尺寸“d”約為0.120英寸，從而將適當(dāng)?shù)乃魈峁┙o射流裝置166，且在使射流裝置166運(yùn)行的同時(shí)，促進(jìn)其快速作出響應(yīng)。如上所述，底座淋浴頭12和可拆除的手握式淋浴器14分別包括多維射流裝置92和166，以提供多維噴霧圖案。說(shuō)明性地，射流裝置92和166為低壓式反饋通道自由的射流振蕩器，它采用扇角形來(lái)進(jìn)行圖案化噴霧分布和/或使水噴霧連貫起來(lái)。說(shuō)明性地，射流裝置92和166可以屬于由美國(guó)馬里蘭州哥倫比亞(Columbia, Maryland, USA)的鮑爾斯應(yīng)用流體學(xué)公司(Bowles Fluidics Corporation)制造的類(lèi)型。參考圖12，射流裝置166說(shuō)明性地為二維(2D)射流裝置或噴嘴，經(jīng)配置以通過(guò)使水流178圍繞中心軸180振蕩而在平面176內(nèi)生成水扇174。所得到的噴霧181以截面示為一條直線(xiàn)。典型的2D射流裝置166包括以下表格中詳述的說(shuō)明性特征。2D射流裝置
權(quán)利要求
1.一種淋浴頭組件，其包括: 底座淋浴頭； 手握式淋浴器，其以可拆除方式耦接到所述底座淋浴頭； 多個(gè)二維射流裝置，其由所述手握式淋浴器支撐，而且經(jīng)配置以通過(guò)使水圍繞中心軸振蕩而在平面內(nèi)生成水扇；以及 多個(gè)三維射流裝置，其由所述底座淋浴頭支撐，而且經(jīng)配置以在發(fā)散平面內(nèi)生成多個(gè)水扇，水在所述平面中的每個(gè)平面內(nèi)圍繞中心軸發(fā)生振蕩。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的淋浴頭組件，其進(jìn)一步包括:磁體，所述磁體由所述底座淋浴頭和所述手握式淋浴器中的一個(gè)支撐；以及吸磁構(gòu)件，所述吸磁構(gòu)件由所述手握式淋浴器和所述底座淋浴頭中的另一個(gè)支撐，其中所述磁體吸引所述吸磁構(gòu)件，從而相對(duì)于所述底座淋浴頭固定所述手握式淋浴器。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的淋浴頭組件，其進(jìn)一步包括支架元件，所述支架元件可操作地耦接到所述磁體，從而使所述磁體產(chǎn)生的磁場(chǎng)重新定向。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的淋浴頭組件，其中所述支架元件包括杯狀物，所述杯狀物包括基盤(pán)和圓柱形側(cè)壁。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的淋浴頭組件，其進(jìn)一步包括分流閥，所述分流閥由所述底座淋浴頭支撐，而且經(jīng)配置以對(duì)從入口流到以下項(xiàng)之一的水流進(jìn)行控制:所述手握式淋浴器的所述二維射流裝置、所述底座淋浴頭的所述三維射流裝置，以及所述二維射流裝置和所述三維射流裝置兩者。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的淋浴頭組件，其進(jìn)一步包括:入口，所述入口由所述底座淋浴頭支撐，而且配置成與供水系統(tǒng)流體連通；以及限流器，所述限流器由所述底座淋浴頭支撐，而且經(jīng)配置以將穿過(guò)所述入口的水的流速限制為不超過(guò)2.5加侖/分鐘。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的淋浴頭組件，其中所述手握式淋浴器進(jìn)一步包括流量控制閥，所述流量控制閥經(jīng)配置以對(duì)輸送到所述二維射流裝置的水的流速進(jìn)行控制，所述二維射流裝置由所述手握式淋浴器支撐。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的淋浴頭組件，其中所述流量控制閥包括分離的低流位置和高流位置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的淋浴頭組件，其進(jìn)一步包括多個(gè)防水擋板，所述防水擋板至少部分圍繞所述二維射流裝置的三個(gè)側(cè)面延伸，從而將水朝著所述二維射流裝置的入口引導(dǎo)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的淋浴頭組件，其中所述底座淋浴頭包括弧形外殼，所述弧形外殼形成中心開(kāi)口，用于容納所述手握式淋浴器的噴頭外殼。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的淋浴頭組件，其中所述底座淋浴頭的所述弧形外殼包括逐漸變細(xì)的對(duì)接環(huán)，而所述手握式淋浴器包括手柄，所述手柄耦接到所述噴頭外殼并包括配置成以可拆除方式容納在所述逐漸變細(xì)的對(duì)接環(huán)內(nèi)的頸部。
12.—種淋浴頭組件， 其包括: 第一流體分配單元，其包括多個(gè)第一射流裝置； 第二流體分配單元，其以可拆除方式耦接到所述第一流體分配單元，而且包括多個(gè)第二射流裝置；以及其中所述第一射流裝置和所述第二射流裝置各自提供多維噴霧圖案。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的淋浴頭組件，其中所述第一流體分配單元包括底座淋浴頭，而所述第二流體分配單元包括手握式淋浴器。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的淋浴頭組件，其中: 所述第一射流裝置包括二維射流裝置，所述二維射流裝置由所述手握式淋浴器支撐，而且經(jīng)配置以通過(guò)使水圍繞中心軸振蕩而在平面內(nèi)生成水扇；以及 所述第二射流裝置包括三維射流裝置，所述三維射流裝置由所述底座淋浴頭支撐，而且經(jīng)配置以在發(fā)散平面內(nèi)生成多個(gè)水扇，水在所述平面中的每個(gè)平面內(nèi)圍繞中心軸發(fā)生振蕩。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的淋浴頭組件，其進(jìn)一步包括:磁體，所述磁體由所述底座淋浴頭和所述手握式淋浴器中的一個(gè)支撐；以及吸磁構(gòu)件，所述吸磁構(gòu)件由所述手握式淋浴器和所述底座淋浴頭中的另一個(gè)支撐，其中所述磁體吸引所述吸磁構(gòu)件，從而相對(duì)于所述底座淋浴頭固定所述手握式淋浴器。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的淋浴頭組件，其進(jìn)一步包括支架元件，所述支架元件可操作地耦接到所述磁體，從而使所述磁體產(chǎn)生的磁場(chǎng)重新定向。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的淋浴頭組件，其中所述支架元件包括杯狀物，所述杯狀物包括基盤(pán)和圓柱形側(cè)壁。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的淋浴頭組件，其進(jìn)一步包括分流閥，所述分流閥由所述底座淋浴頭支撐，而且經(jīng)配置以對(duì)從入口流到以下項(xiàng)之一的水流進(jìn)行控制:所述手握式淋浴器的所述二維射流裝置、所述底座淋浴頭的所述三維射流裝置，以及所述二維射流裝置和所述三維射流裝置兩者。
19.根據(jù)權(quán)利要求14所述的淋浴頭組件，其中所述手握式淋浴器進(jìn)一步包括流量控制閥，所述流量控制閥經(jīng)配置以對(duì)輸送到所述二維射流裝置的水的流速進(jìn)行控制，所述二維射流裝置由所述手握式淋浴器支撐。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的淋浴頭組件，其中所述流量控制閥包括分離的低流速位置和高流速位置。
21.根據(jù)權(quán)利要求14所述的淋浴頭組件，其進(jìn)一步包括多個(gè)防水擋板，所述防水擋板至少部分圍繞所述二維射流裝置的三個(gè)側(cè)面延伸，從而將水朝著所述二維射流裝置的入口引導(dǎo)。
22.根據(jù)權(quán)利要求13所述的淋浴頭組件，其中所述底座淋浴頭包括弧形外殼，所述弧形外殼形成中心開(kāi)口，用于容納所述手握式淋浴器的噴頭外殼。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述淋浴頭組件，其中所述底座淋浴頭的所述弧形外殼包括逐漸變細(xì)的對(duì)接環(huán)，而所述手握式淋浴器包括手柄，所述手柄耦接到所述噴頭外殼并包括配置成以可拆除方式容納在所述逐漸變細(xì)的對(duì)接環(huán)內(nèi)的頸部。
24.一種淋浴頭組件，其包括: 底座； 手握式淋浴器，其以可拆除方式耦接到所述底座； 多個(gè)二維射流裝置，其由所述手握式淋浴器支撐，而且經(jīng)配置以通過(guò)使水圍繞中心軸振蕩而在平面內(nèi)生成水扇；以及流量控制閥，其經(jīng)配置以對(duì)輸送到所述二維射流裝置的水的流速進(jìn)行控制，所述二維射流裝置由所述手握式淋浴器支撐。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的淋浴頭組件，其中所述底座包括固定的淋浴頭，而多個(gè)三維射流裝置由所述固定的淋浴頭支撐，而且經(jīng)配置以在發(fā)散平面內(nèi)生成多個(gè)水扇，水在所述平面中的每個(gè)平面內(nèi)圍繞中心軸發(fā)生振蕩。
26.根據(jù)權(quán)利要求24所述的淋浴頭組件，其中所述流量控制閥包括分立的低流速位置和高流速位置。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的淋浴頭組件，其中所述流量控制閥包括:按鈕；滑閘，其可操作地耦接到所述按鈕；密封件，其由所述滑閘支撐；以及肘形組件，其配置成在所述按鈕第一次被按下的狀態(tài)下，處于所述高流速位置，而在所述按鈕第二次被按下的狀態(tài)下，處于所述低流速位置。
28.根據(jù)權(quán)利要求24所述的淋浴頭組件，其中所述手握式淋浴器包括:水路，所述水路與所述二維射流裝置的入口流體連通；以及多個(gè)防水擋板，所述防水擋板至少部分圍繞所述二維射流裝置的三個(gè)側(cè)面延伸，從而將水朝著所述二維射流裝置的所述入口引導(dǎo)。
29.根據(jù)權(quán)利要求24所述的淋浴頭組件，其進(jìn)一步包括: 磁體和吸磁構(gòu)件，其中所述磁體吸引所述吸磁構(gòu)件，從而相對(duì)于所述底座固定所述手握式淋浴器；以及 支架元件，所述支架元件可操作地耦接到所述磁體，從而使所述磁體產(chǎn)生的磁場(chǎng)重新定向。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的淋浴頭組件， 其中所述支架元件包括杯狀物，所述杯狀物包括基盤(pán)和圓柱形側(cè)壁。
全文摘要
一種淋浴頭組件，包括第一流體分配單元，其包括多個(gè)第一射流裝置；以及第二流體分配單元，其以可拆除方式耦接到所述第一流體分配單元而且包括多個(gè)第二射流裝置。所述第一射流裝置和所述第二射流裝置各自提供多維噴霧圖案。
文檔編號(hào)A47K3/28GK103140155SQ201180046920
公開(kāi)日2013年6月5日 申請(qǐng)日期2011年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月28日
發(fā)明者A·斯龐格爾, P·巴頓, 加里·R·馬蒂, B·強(qiáng)森 申請(qǐng)人:印地安納馬斯科公司