一種帶有表面刻度的平板探測(cè)器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及平板探測(cè)領(lǐng)域，特別是涉及一種帶有表面刻度的平板探測(cè)器。
【背景技術(shù)】
[0002]X射線探測(cè)器經(jīng)歷了百年的發(fā)展，由傳統(tǒng)的膠片式逐漸發(fā)展至當(dāng)今的數(shù)字式，這其中又經(jīng)歷了 CR探測(cè)器、(XD X射線探測(cè)器、(XD拼接式X射線探測(cè)器以及目前最為主流的X射線平板探測(cè)器。X射線平板探測(cè)器可以捕獲X光，將被測(cè)物體的X射線影像轉(zhuǎn)變?yōu)閿?shù)字圖像以便于查看、分析、存儲(chǔ)以及傳播，其被廣泛應(yīng)用于醫(yī)療、生物、材料和工業(yè)檢測(cè)等領(lǐng)域。
[0003]X射線平板探測(cè)器可分為直接成像式和間接成像式兩種，直接成像式探測(cè)器直接將X射線轉(zhuǎn)變?yōu)殡娦盘?hào)，而間接成像式探測(cè)器結(jié)構(gòu)由閃爍材料或熒光材料層、具有光電二極管作用的非晶硅層以及TFT陣列構(gòu)成，先采用一層閃爍體或熒光材料將X射線變?yōu)榭梢姽?，再由可見光探測(cè)器將其轉(zhuǎn)變?yōu)殡娦盘?hào)。在獲取電信號(hào)后，探測(cè)器通過(guò)濾波、放大以及模數(shù)轉(zhuǎn)換后，將數(shù)據(jù)按照一定的格式傳送給計(jì)算機(jī)進(jìn)行顯示和存儲(chǔ)。
[0004]平板探測(cè)器通過(guò)整個(gè)探測(cè)面板對(duì)待檢測(cè)物進(jìn)行圖像采集，但是當(dāng)僅對(duì)待檢測(cè)物的局部進(jìn)行檢測(cè)，例如待檢測(cè)物的四分之一區(qū)域，此時(shí)就無(wú)法實(shí)現(xiàn)局部圖像采集。為此，平板探測(cè)器增加了非全屏圖像數(shù)據(jù)采集功能，型號(hào)為NDT0505的平板探測(cè)器就設(shè)計(jì)了 zoom功能，可以通過(guò)軟件的參數(shù)配置修改軟件的采集功能，實(shí)現(xiàn)局部的圖像矩陣數(shù)據(jù)采集。但是，型號(hào)為NDT0505的平板探測(cè)器缺少標(biāo)示引導(dǎo)，沒(méi)有精確地對(duì)局部圖像采集區(qū)域進(jìn)行劃分，因此當(dāng)對(duì)待檢測(cè)物擺位時(shí)無(wú)法實(shí)現(xiàn)精確地?cái)[位。此外，在客戶使用的時(shí)候，客戶有的時(shí)候會(huì)在側(cè)面觀察放置在探測(cè)器上的物體，如果此時(shí)采用zoom功能進(jìn)行圖像數(shù)據(jù)采集，在這種情況下，同樣缺少標(biāo)示引導(dǎo)，無(wú)法實(shí)現(xiàn)精確擺位。
[0005]因此，如何解決平板探測(cè)器局部采集圖像及局部圖像的精確定位已成為本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問(wèn)題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的目的在于提供一種帶有表面刻度的平板探測(cè)器，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中平板探測(cè)器無(wú)法局部采集圖像、局部圖像定位不精確以及擺位困難等問(wèn)題。
[0007]為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實(shí)用新型提供一種帶有表面刻度的平板探測(cè)器，所述帶有表面刻度的平板探測(cè)器至少包括:
[0008]—平板探測(cè)器，所述平板探測(cè)器的探測(cè)面板上設(shè)置有局部采集區(qū)域，所述探測(cè)面板上設(shè)置有與所述局部采集區(qū)域?qū)?yīng)的正面刻度，所述平板探測(cè)器的側(cè)邊上設(shè)置有與所述局部采集區(qū)域?qū)?yīng)的側(cè)邊刻度。
[0009]優(yōu)選地，所述正面刻度包括位于所述局部采集區(qū)域外側(cè)且相互垂直的第一刻度及第二刻度，其中，所述第一刻度的零點(diǎn)對(duì)應(yīng)于所述局部采集區(qū)域的中心，所述第一刻度的零點(diǎn)的兩側(cè)分別標(biāo)有正刻度和負(fù)刻度，所述第二刻度的零點(diǎn)對(duì)應(yīng)于所述局部采集區(qū)域的中心。
[0010]更優(yōu)選地，所述第一刻度的精度由零點(diǎn)向兩側(cè)逐漸減小。
[0011]優(yōu)選地，所述側(cè)邊刻度包括位于所述平板探測(cè)器兩相鄰側(cè)邊的第三刻度及第四刻度，其中，所述第三刻度的零點(diǎn)對(duì)應(yīng)于所述局部采集區(qū)域的中心，所述第三刻度的零點(diǎn)的兩側(cè)分別標(biāo)有正刻度和負(fù)刻度，所述第四刻度的零點(diǎn)對(duì)應(yīng)于所述局部采集區(qū)域的中心。
[0012]更優(yōu)選地，所述第三刻度的精度由零點(diǎn)向兩側(cè)逐漸減小。
[0013]更優(yōu)選地，所述側(cè)邊刻度為設(shè)置于所述平板探測(cè)器的側(cè)邊的凹槽。
[0014]優(yōu)選地，所述側(cè)邊刻度上標(biāo)記有讀數(shù)。
[0015]如上所述，本實(shí)用新型的帶有表面刻度的平板探測(cè)器，具有以下有益效果:
[0016]本實(shí)用新型的帶有表面刻度的平板探測(cè)器通過(guò)增加局部采集區(qū)域及其正面刻度和側(cè)邊刻度，實(shí)現(xiàn)從待檢測(cè)物的正面和側(cè)面對(duì)局部圖像采集進(jìn)行精確定位，提高了平板探測(cè)器的局部圖像采集質(zhì)量和檢測(cè)的靈活性。
【附圖說(shuō)明】
[0017]圖1顯示為本實(shí)用新型的帶有表面刻度的平板探測(cè)器的立體示意圖。
[0018]圖2顯示為本實(shí)用新型的帶有表面刻度的平板探測(cè)器的主視圖。
[0019]圖3?圖4顯示為本實(shí)用新型的帶有表面刻度的平板探測(cè)器的局部放大圖。
[0020]元件標(biāo)號(hào)說(shuō)明
[0021]1帶有表面刻度的平板探測(cè)器
[0022]11局部采集區(qū)域
[0023]12正面刻度
[0024]121第一刻度
[0025]122第二刻度
[0026]13側(cè)邊刻度
[0027]131第三刻度
[0028]132第四刻度
【具體實(shí)施方式】
[0029]以下通過(guò)特定的具體實(shí)例說(shuō)明本實(shí)用新型的實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說(shuō)明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實(shí)用新型的其他優(yōu)點(diǎn)與功效。本實(shí)用新型還可以通過(guò)另外不同的【具體實(shí)施方式】加以實(shí)施或應(yīng)用，本說(shuō)明書中的各項(xiàng)細(xì)節(jié)也可以基于不同觀點(diǎn)與應(yīng)用，在沒(méi)有背離本實(shí)用新型的精神下進(jìn)行各種修飾或改變。
[0030]請(qǐng)參閱圖1?圖4。需要說(shuō)明的是，本實(shí)施例中所提供的圖示僅以示意方式說(shuō)明本實(shí)用新型的基本構(gòu)想，遂圖式中僅顯示與本實(shí)用新型中有關(guān)的組件而非按照實(shí)際實(shí)施時(shí)的組件數(shù)目、形狀及尺寸繪制，其實(shí)際實(shí)施時(shí)各組件的型態(tài)、數(shù)量及比例可為一種隨意的改變，且其組件布局型態(tài)也可能更為復(fù)雜。
[0031]如圖1?圖4所示，本實(shí)用新型提供一種帶有表面刻度的平板探測(cè)器1，所述帶有表面刻度的平板探測(cè)器1至少包括:一平板探測(cè)器，所述平板探測(cè)器包括探測(cè)面板、背部蓋板、位于所述探測(cè)面板和所述背部蓋板之間的控制電路，以及四個(gè)側(cè)邊。四個(gè)側(cè)邊分別為上偵_、下側(cè)邊、左側(cè)邊以及右側(cè)邊，所述上側(cè)邊和所述下側(cè)邊與X軸平行，所述左側(cè)邊和所述右側(cè)邊與Y軸平行。所述平板探測(cè)器的探測(cè)面板上設(shè)置有局部采集區(qū)域11，所述探測(cè)面板上設(shè)置有與所述局部采集區(qū)域11對(duì)應(yīng)的正面刻度12，所述平板探測(cè)器的側(cè)邊上設(shè)置有與所述局部采集區(qū)域11對(duì)應(yīng)的側(cè)邊刻度13，通過(guò)所述正面刻度12以及所述側(cè)邊刻度13可實(shí)現(xiàn)局部圖像采集的精確定位。
[0032]如圖1?圖2所示，在本實(shí)施例中，所述探測(cè)面板上設(shè)置有矩形的局部采集區(qū)域11，所述局部采集區(qū)域11的面積為所述探測(cè)面板的四分之一。所述局部采集區(qū)域11的形狀以及面積可根據(jù)實(shí)際需要做具體的設(shè)定