一種復(fù)合核素放射性支架及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種復(fù)合核素放射性支架,其特征在于,包括一支架本體、一第一放射層、一第二放射層與一保護(hù)層;所述第一放射層與所述第二放射層全部或部分覆蓋所述支架本體;所述支架本體上同時(shí)覆蓋所述第一放射層與所述第二放射層的部分,所述第二放射層位于所述第一放射層之外;所述保護(hù)層位于所述第二放射層之外,包覆整個(gè)支架。本發(fā)明支架所用核素的核性質(zhì)互補(bǔ),能夠同時(shí)對(duì)不同分化程度的腫瘤細(xì)胞起到良好的療效,更適用于臨床應(yīng)用;放射性物質(zhì)難溶于各種介質(zhì),且以微米級(jí)微粒、微米森林或復(fù)合結(jié)構(gòu)的形式附著于普通支架表面,不與人體直接接觸,亦不易發(fā)生滲透泄露,安全性強(qiáng);放射層與支架為一整體,不易脫落。
【專利說(shuō)明】一種復(fù)合核素放射性支架及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及醫(yī)療器械領(lǐng)域,尤其是一種復(fù)合核素放射性支架及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]惡性腫瘤是威脅人類健康的重大疾病,因惡性腫瘤所引起的血管、消化道、泌尿生殖道、呼吸道等管腔組織的狹窄和梗阻一直困擾著人類。管腔內(nèi)支架對(duì)于緩解此類癥狀具有良好效果,但支架本身對(duì)腫瘤治療并無(wú)意義,隨著腫瘤增生可能出現(xiàn)再次狹窄,導(dǎo)致需要再次植入支架。而利用低能放射性核素(如1251、ltl3PcU 131Cs等)進(jìn)行近距離照射在腫瘤治療中已經(jīng)得到肯定。因此,將管腔內(nèi)支架與放射性核素結(jié)合起來(lái)制成放射性支架,不僅可以利用支架的機(jī)械支撐作用預(yù)防各種管腔再狹窄等癥狀,還可以利用放射性核素的射線殺死殺傷腫瘤細(xì)胞,達(dá)到治療或者控制惡性腫瘤的目的,從而避免再狹窄導(dǎo)致的病情惡化。
[0003]鑒于放射性支架的優(yōu)勢(shì),國(guó)內(nèi)外相關(guān)研究學(xué)者對(duì)本領(lǐng)域進(jìn)行了不斷地開拓和創(chuàng)新。在現(xiàn)有技術(shù)中,以單一核素放射性支架為主,但是單一核素往往只對(duì)某種分化程度的腫瘤細(xì)胞有較好的效果,而體內(nèi)腫瘤組織往往是不同分化程度的腫瘤細(xì)胞的復(fù)合體,將不同性質(zhì)的核素結(jié)合起來(lái)才能得到更好的治療效果,因此實(shí)現(xiàn)同時(shí)含有兩種或多種不同核素的放射性支架是目前亟待解決的問(wèn)題,之前有人通過(guò)懸掛或者捆綁或者包裹的方式在支架上面附加例如放射性粒子的方式,制備單一核素放射性支架,通過(guò)這種方式,亦可以實(shí)現(xiàn)同一支架攜帶不同放射性核素,然而此種實(shí)現(xiàn)方式卻面臨諸多問(wèn)題,其一在于,編織管腔支架的金屬絲或塑料絲直徑一般很細(xì)(直徑0.05-0.2mm),而放射性粒子直徑一般為0.8mm,很難將其固定于管腔支架上,而且此種實(shí)現(xiàn)方式中的放射性粒子,必定與支架有一個(gè)結(jié)合處,由于放射性粒子的本身結(jié)構(gòu)所限,其與支架結(jié)合處位置并不自然,結(jié)合處容易松動(dòng),繼而脫落,從而遷移到其他位置而損傷其它組織;其二在于,該法要借助其他材料包裹或捆綁放射性粒子,體內(nèi)管腔組織內(nèi)徑較小,放射性粒子的引入增大了支架的整體體積,植入腔道占用較大空間,影響正常生理活動(dòng),官腔內(nèi)物質(zhì)運(yùn)動(dòng)亦容易造成放射性粒子脫落,從而損傷其它組織;其三在于,放射性粒子更傾向于點(diǎn)放射,難以使支架產(chǎn)生均勻放射,傳統(tǒng)支架放射性核素集中于放射性粒子部位,在支架表面分布不均勻,靠近放射性粒子的腫瘤細(xì)胞能夠得至IJ很好的控制,而遠(yuǎn)離放射性粒子的腫瘤細(xì)胞受射線劑量相對(duì)較小,受控效果較差,引入更多放射性粒子反而會(huì)引起或加重前述其他問(wèn)題。
[0004]鑒于上述缺陷,本發(fā)明創(chuàng)作者經(jīng)過(guò)長(zhǎng)時(shí)間的研究和實(shí)踐終于獲得了本創(chuàng)作。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種放射性支架,用以克服上述技術(shù)缺陷。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種復(fù)合核素放射性支架,其特征在于,包括一支架本體、一第一放射層、一第二放射層與一保護(hù)層;
[0007]其中,所述第一放射層包括第一放射性物質(zhì),所述第二放射層包括第二放射性物質(zhì);
[0008]所述第一放射層與所述第二放射層全部或部分覆蓋所述支架本體;
[0009]所述支架本體上同時(shí)覆蓋所述第一放射層與所述第二放射層的部分,所述第二放射層位于所述第一放射層之外;
[0010]所述保護(hù)層位于所述第二放射層之外,包覆整個(gè)支架。
[0011]較佳的,所述第一放射性物質(zhì)為ltl3Pd,所述第二放射性物質(zhì)Ag125I ;
[0012]所述保護(hù)層材料為聚氨酯。
[0013]較佳的,所述第一放射層為微米級(jí)微粒狀結(jié)構(gòu),所述第二放射層為微米級(jí)微粒狀、微米森林狀或復(fù)合結(jié)構(gòu)。
[0014]較佳的,所述本體分為一第一部分、一第二部分與一第三部分,所述第一部分不覆蓋所述第二放射層,所述第三部分不覆蓋所述第一放射層,所述第二部分覆蓋所述第一放射層與所述第二放射層。
[0015]較佳的,所述第一放射層還包括非放射性鈀,所述第二放射層還包括溴化銀與非放射性碘化銀。
[0016]較佳的,所述第一放射層厚度為1-10 μ m,所述第二放射層厚度為1_10 μ m,所述保護(hù)層厚度為10-100 μ m。
[0017]一種復(fù)合核素放射性支架的制備方法,其特征在于,包括步驟,
[0018]S1:普通支架依次經(jīng)過(guò)噴砂糙化表面、丙酮清洗除油、硝酸浸蝕除去附著物、水洗除去殘留酸液;
[0019]S2:采用化學(xué)沉積的方法,使支架表面形成所述第一放射層;
[0020]S3:將支架取出并用去離子水清洗;
[0021]S4:采用化學(xué)沉積的方法,使支架表面形成所述第二放射層;
[0022]S5:將支架用去離子水清洗,并在溫和氣流下干燥;
[0023]S6:旋轉(zhuǎn)條件下在支架表面涂刷5-20%的脂肪族聚碳酸型聚氨酯或聚醚型聚氨酯的四氫呋喃溶液,并一直旋轉(zhuǎn)至干燥固化,從而形成所述保護(hù)層。
[0024]較佳的,所述步驟S2具體為,
[0025]S2a:在支架表面噴淋0.2_lg/L氯化鈀溶液,隨后噴淋5_20%肼溶液,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著;
[0026]S2b:將支架置于由0.l_2g/L氯化鈀、15-25%氫氧化銨、60_90g/L乙二胺四乙酸二鈉、0.25-2%肼及放射性ltl3Pd組成的溶液中,35-50°C攪拌反應(yīng)l_5h。
[0027]較佳的,所述步驟S4具體為,
[0028]S4a:在支架表面噴淋5_20g/L銀氨溶液,氨水濃度5_25%,隨后噴淋1_20%肼溶液,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著;
[0029]S4b:將支架置于由0.5-2.5g/L硝酸銀、15-25 %氫氧化銨、30_80g/L乙二胺四乙酸二鈉、0.3-2%肼組成的溶液中,室溫下攪拌反應(yīng)0.5-10h ;
[0030]S4c:將支架取出并用去離子水清洗;
[0031]S4d:將支架置于由6-12g/L溴化鈉、(λ 1_0.5g/L碘化鈉、l_100mg/L氫氧化鈉、5-10g/L鐵氰化鉀及放射性125I組成的溶液中,室溫下攪拌反應(yīng)10-30min。
[0032]較佳的,所述步驟S2具體為,
[0033]S2a:在支架表面噴淋10_20g/L氯化亞錫溶液,隨后噴淋0.5_2g/L氯化鈀溶液,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著;
[0034]S2b:將支架置于由0.5-2g/L氯化鈀、25_35g/L氯化銨、12-20 %氫氧化銨、10-15g/L亞磷酸鈉及放射性ltl3Pd組成的溶液中,75-90°C攪拌反應(yīng)1.5_3h。
[0035]所述步驟S4具體為,
[0036]S4a:在支架表面噴淋20_50g/L硝酸銀-氨溶液,氨水濃度0.5_5 %,隨后噴淋5-20g/L硫酸肼-氨溶液,氨水濃度1-5%。,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著;
[0037]S4b:配置A液與B液,其中,所述A液由40_45g/L硝酸銀、30_45g/L氫氧化鈉、
2-5%氫氧化銨組成,所述B液由35-55g/L葡萄糖、3_4g/L酒石酸、6-10%乙醇組成,所述A液與所述B液取等體積混合得到混合液,將所述步驟S4a處理過(guò)的支架置入所述混合液中,攪拌反應(yīng)l_5h ;
[0038]S4c:將支架取出并用去離子水清洗;
[0039]S4d:將支架放入8_15g/L高錳酸鉀和0.2-0.6g/L溴化鉀的混合溶液,振蕩反應(yīng)20-60min,取出支架,用去離子水清洗,然后放入5_50mg/L碘化鈉和放射性Na125I的混合溶液中,通過(guò)震蕩進(jìn)行攪拌,反應(yīng)5-12h。其中所述高錳酸鉀還可以為雙氧水、次氯酸鈉等,所述溴化鉀還可以為溴化鈉、氯化鈉、氯化鉀等。
[0040]較佳的,對(duì)于支架不覆蓋所述第一放射層的部分,還包括步驟,
[0041]S2a':在所述步驟SI之后,所述步驟S2a之前,用濾紙包覆不覆蓋所述第一放射層的部分;
[0042]S2a'':所述步驟S2a結(jié)束后將濾紙揭去。
[0043]較佳的,對(duì)于支架不覆蓋所述第二放射層的部分,還包括步驟,
[0044]S4c':所述步驟S4c結(jié)束后,所述步驟S4d開始之前,用0.5_5mol/L的硝酸將不覆蓋所述第二放射層的部位的銀層除去并用去離子水清洗干凈,繼而轉(zhuǎn)至所述步驟S4d。
[0045]與現(xiàn)有技術(shù)比較,本發(fā)明的有益效果在于:
[0046]本發(fā)明所述的支架中,同時(shí)含有兩種或多種放射性核素,如同時(shí)含有l(wèi)tl3Pd和1251,核性質(zhì)互補(bǔ),能夠同時(shí)對(duì)不同分化程度的腫瘤細(xì)胞起到良好的療效,更適用于臨床應(yīng)用;放射性物質(zhì)化學(xué)形態(tài)為ltl3Pd和Ag125I,難溶于各種介質(zhì),且以微米級(jí)微粒、微米森林或復(fù)合結(jié)構(gòu)的形式附著于普通支架表面,且在聚氨酯覆膜的保護(hù)下,不與人體直接接觸,亦不易發(fā)生滲透泄露,安全性強(qiáng);放射層與支架為一整體,不易脫落;放射層與保護(hù)層厚度共計(jì)僅有12-120 μ m,體積小,植入腔道不會(huì)占用過(guò)多空間,不會(huì)影響腔道內(nèi)物質(zhì)運(yùn)動(dòng),實(shí)用性強(qiáng);放射性核素覆蓋部分分布均勻,而且兩種核素可以分別根據(jù)需要選擇性的覆蓋于部分支架表面,靈活性強(qiáng);所用制備方法簡(jiǎn)單、易于操作,放射性核素利用率高,所用聚氨酯為良性彈性體,不易破裂,而且具有良好的生物相容性和穩(wěn)定性。
【專利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0047]圖1為本發(fā)明復(fù)合核素放射性支架第一實(shí)施例的整體示意圖;
[0048]圖2為本發(fā)明復(fù)合核素放射性支架第一實(shí)施例的部分放大示意圖;
[0049]圖3為本發(fā)明復(fù)合核素放射性支架第二實(shí)施例的部分放大示意圖;
[0050]圖4為本發(fā)明復(fù)合核素放射性支架第三實(shí)施例的整體示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0051]以下結(jié)合附圖,對(duì)本發(fā)明上述的和另外的技術(shù)特征和優(yōu)點(diǎn)作更詳細(xì)的說(shuō)明。
[0052]實(shí)施例一
[0053]請(qǐng)參見圖1所示,圖1為本發(fā)明復(fù)合核素放射性支架實(shí)施例一的整體示意圖,其整體結(jié)構(gòu)為普通的支架,為管狀網(wǎng)式結(jié)構(gòu),其包括兩端的環(huán)狀收口以及連接所述環(huán)狀收口的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
[0054]請(qǐng)參閱圖2所示,圖2為本發(fā)明復(fù)合核素放射性支架實(shí)施例一的部分放大示意圖,其為所述環(huán)狀收口或所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的徑向切面示意圖,其包括一支架本體層1,一第一放射層2、一第二放射層3以及一保護(hù)層4。
[0055]所述支架本體層I為支架本體結(jié)構(gòu),其可以為金屬材質(zhì)、塑料材質(zhì)或其他材質(zhì)。在所述支架本體層I外,存在一第一放射層2,所述第一放射層2包括第一放射性物質(zhì),作為本發(fā)明所述的復(fù)合核素放射性支架的放射源之一,所述第二放射層3位于所述第一放射層2之外并包含第二放射物質(zhì),作為本發(fā)明所述的復(fù)合核素放射性支架的放射源之二。
[0056]本實(shí)施例中,所述第一放射層2中的所述第一放射性物質(zhì)優(yōu)選為放射性鈀(103Pd),呈微米級(jí)微粒狀樣貌;所述第二放射層3中的所述第二放射性物質(zhì)為放射性碘化銀(Ag125I),其樣貌呈現(xiàn)為或微米柱(微米森林)狀。
[0057]所述第一放射性物質(zhì)亦可以為放射性碘化銀(Ag125I),呈微米柱(微米森林)狀樣貌,所述第二放射性物質(zhì)亦可以為放射性鈀(ltl3Pd),呈微米微粒狀樣貌。
[0058]所述第一放射性物質(zhì)亦可以為其他具有放射治療作用的放射性核素的難溶單質(zhì)或化合物形態(tài),所述放射性核素可以為以下核素1251、lcl3Pd、131CS、198AU、169Yb、32P、9°Y、114mIn、241Am、192Ir、181W、211At 等。
[0059]所述第二放射性物質(zhì)亦可以為其他具有放射治療作用的放射性核素的難溶單質(zhì)或化合物形態(tài),所述放射性核素可以為以下核素1251、lcl3Pd、131CS、198AU、169Yb、32P、9°Y、114mIn、241Am、192Ir、181W、211At 等。
[0060]所述第二放射層3外部存在一保護(hù)層4,所述保護(hù)層4包覆所述第二放射層3。
[0061]本實(shí)施例中,所述保護(hù)層3優(yōu)選為脂肪族聚碳酸型聚氨酯,其可以替換為其他無(wú)毒穩(wěn)定柔韌的有機(jī)高分子材料,所述無(wú)毒,為在人體組織中長(zhǎng)期存留不產(chǎn)生毒性,所述穩(wěn)定,為在人體組織中長(zhǎng)期存留不融化、降解,所述柔韌,為可以承受受體管狀器官的正常彎曲形變。
[0062]所述第一放射層2還可包括非放射性材料,本實(shí)施例中優(yōu)選為非放射性鈀。
[0063]所述第二放射層3還可包括非放射性材料,本實(shí)施例中優(yōu)選為溴化銀和非放射性碘化銀。
[0064]103Pd半衰期16.96天,平均射線能量21_23keV,初始劑量率0.20-0.24Gy/h,適用于治療增殖較快、分化較差的腫瘤。125I半衰期59.43天,平均射線能量27-28keV,初始劑量率0.07Gy/h,對(duì)增殖緩慢、分化較好的腫瘤更有優(yōu)勢(shì)。二者在治療上可以形成一定的互補(bǔ)。臨床上,同一腫瘤病灶中,往往不是單一分化程度的腫瘤細(xì)胞,而是分化較好與分化較差、增殖較快與增殖較慢的腫瘤細(xì)胞并存,因此單一核素往往達(dá)不到最好的治療效果?;谂R床腫瘤的特性和兩種核素的優(yōu)點(diǎn),ltl3Pd和125I可以聯(lián)合應(yīng)用'3Pd初始劑量高,釋放50%的劑量只有8.5天,作為攻擊腫瘤細(xì)胞的“一線部隊(duì)” ;1251初始劑量低,釋放50%的劑量需要30天,正好成為ltl3Pd之后的“第二梯隊(duì)”。
[0065]本實(shí)施例中,所述第一放射層2完全覆蓋支架本體,所述第二放射層3完全覆蓋所述第一放射層2,所述保護(hù)層4完全包覆所述第二放射層3。
[0066]所述保護(hù)層4包覆在此種所述第二放射層3之外,對(duì)所述第二放射層3相對(duì)松散的結(jié)構(gòu)起到一個(gè)固定的作用,防止所述第二放射層3中的放射性物質(zhì)從所述放射性支架中脫落,同時(shí),由于所述第二放射層3結(jié)構(gòu)中存在相對(duì)較大、較多的空隙,所述放射層2同時(shí)也起到了對(duì)于所述保護(hù)層4的保護(hù)固定作用,防止保護(hù)層4從所述第二放射層3外剝離出去。
[0067]所述第一實(shí)施例的制備方法為,
[0068]步驟SI,預(yù)處理:普通支架依次經(jīng)過(guò)噴砂糙化表面、丙酮清洗除油、硝酸浸蝕除去附著物、水洗除去殘留的酸液;
[0069]步驟S2,沉積第一放射層:采用化學(xué)沉積的方法,使支架表面均勻覆蓋一層含有103Pd的所述第一放射層;
[0070]步驟S3,清洗:將支架取出并用去離子水清洗干凈;
[0071]步驟S4,沉積第二放射層:采用化學(xué)沉積的方法,使支架表面均勻覆蓋一層含有Ag125I的所述第二放射層;
[0072]步驟S5,清洗干燥:將支架用去離子水清洗干凈,并在溫和氣流下干燥;
[0073]步驟S6,覆膜:旋轉(zhuǎn)條件下在支架表面涂刷一層10%脂肪族聚碳酸酯型聚氨酯的四氫呋喃溶液,并一直旋轉(zhuǎn)至干燥固化,從而形成一層脂肪族聚碳酸酯型聚氨酯保護(hù)層。
[0074]所述步驟S2具體為,
[0075]S2a:在支架表面噴淋0.6g/L氯化鈀溶液,隨后噴淋10%肼溶液,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著;
[0076]S2b:將支架置于由0.5g/L氯化鈀、18%氫氧化銨、70g/L乙二胺四乙酸二鈉、
0.5%肼及放射性ltl3Pd組成的溶液中,40°C攪拌反應(yīng)2h,使支架表面均勻覆蓋含有l(wèi)tl3Pd的鈀微粒層。
[0077]所述步驟S4具體為,
[0078]S4a:在支架表面噴淋10g/L銀氨溶液,氨水濃度12.5%,隨后噴淋10%肼溶液,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著;
[0079]S4b:將支架置于由lg/L硝酸銀、18%氫氧化銨、40g/L乙二胺四乙酸二鈉、0.5%肼組成的溶液中,室溫下攪拌反應(yīng)5h,使支架表面均勻覆蓋一層銀;
[0080]S4c:將支架取出并用去離子水清洗;
[0081]S4d:將支架置于由10g/L溴化鈉、0.3g/L碘化鈉、10mg/L氫氧化鈉、8g/L鐵氰化鉀及放射性125I組成的溶液中,室溫下攪拌反應(yīng)20min,使支架表面的銀層鹵化而形成含有Ag125I的溴化銀和碘化銀微粒層。
[0082]本工藝條件得到所述第一放射層2厚度為5 μ m,所述第二放射層3厚度為5 μ m,所述保護(hù)層4厚度為50 μ m。
[0083]實(shí)施例二
[0084]請(qǐng)參閱圖3所示,圖3為本發(fā)明第二實(shí)施例的部分放大示意圖。
[0085]第二實(shí)施例與第一實(shí)施例的區(qū)別在于,所述第二放射層3包括一底層31與一頂層32,所述頂層32為溴化銀與碘化銀共存,所述底層31為未鹵化的銀層,所述頂層32起到放射源的作用,而所述底層31 —方面在支架制備過(guò)程中作為銀源,另一方面,其起到一個(gè)粘附層的作用,其與所述第一放射層2、所述頂層32材料粘附性要大于所述第一放射層2與所述頂層32材料直接接觸的粘附性,可以使各放射層更穩(wěn)固。
[0086]制備方法與第一實(shí)施例相似,不同之處在于
[0087]所述步驟S4a中,銀氨溶液濃度5g/L、氨水濃度5 %,肼溶液濃度為20% ;
[0088]所述步驟S4b中,硝酸銀濃度2.5g/L、氫氧化銨濃度25%、乙二胺四乙酸二鈉80g/L、肼濃度0.3%,反應(yīng)時(shí)間1h;
[0089]所述步驟S4d中,溴化鈉濃度12g/L、碘化鈉濃度0.lg/L、氫氧化鈉濃度100mg/L、鐵氰化鉀濃度10g/L,反應(yīng)時(shí)間30min。
[0090]本工藝條件得到的所述第二放射層的所述頂層呈以微米柱狀為主的樣貌。所述第一放射層2厚度為5 μ m,所述第二放射層3厚度為10 μ m。
[0091]實(shí)施例三
[0092]請(qǐng)參閱圖4所示,圖4為本發(fā)明第三實(shí)施例示意圖,所述支架本體分為第一部分
11、第二部分12與第三部分13,本實(shí)施例中,所述第一部分11只具有所述第一放射層2,所述第三部分13只具有所述第二放射層3,所述第二部分12同時(shí)具有所述第一放射層2和所述第二放射層3。
[0093]所述第一部分的所述第一放射層2初始劑量強(qiáng)、有效治療時(shí)間短,所述第三部分13的所述第二放射層3初始劑量小、有效治療時(shí)間長(zhǎng),此支架一方面可以適應(yīng)特定性質(zhì)的腫瘤,對(duì)于一端增殖快、分化較差,另一端增殖慢、分化較好的腫瘤效果較佳;另一方面,對(duì)于較為平均的腫瘤,第三實(shí)施例的支架可以起到定向驅(qū)散的作用,可以使腫瘤產(chǎn)生輕微的定向移動(dòng),即從所述第一部分11向所述第三部分13進(jìn)行移動(dòng),可以幫助使腫瘤發(fā)展方向避開病患要害器官,配合治療策略產(chǎn)生較好的效果。
[0094]第三實(shí)施例中包括一個(gè)所述第二放射層3與所述第一放射層2交疊的第二部分12,所述第二部分12為過(guò)渡部分,亦可不交疊,即存在一段不存在任何放射層的區(qū)域。
[0095]制備方法與第一實(shí)施例相似,不同之處在于,
[0096]所述步驟S2a之前存在步驟S2a',具體為,用濾紙包覆所述第三部分13 ;
[0097]所述步驟S2a之后存在步驟S2a'',具體為,所述步驟S2a結(jié)束后將濾紙揭去;
[0098]所述步驟S4c之后存在步驟S4c',具體為,所述步驟S4c結(jié)束后,用lmol/L的硝酸將此部位的銀層除去并用去離子水清洗干凈,繼而轉(zhuǎn)至所述步驟S4d。
[0099]所述步驟S2a'與S2a''可以單獨(dú)使用,用于支架上僅不需要覆蓋所述第一放射層2的情形和區(qū)域;
[0100]所述步驟S4c'可以單獨(dú)使用,用于支架上僅不需要覆蓋所述第二放射層3的情形和區(qū)域。
[0101]本實(shí)施例中,所述步驟S2結(jié)束后形成所述第一放射層2,呈復(fù)合樣貌1,所述復(fù)合樣貌I為微米微粒狀與支架本體原貌的結(jié)合,更確切的說(shuō)部分支架為第一放射層的微米微粒狀樣貌,部分支架為支架本體原貌;所述步驟S4結(jié)束后形成所述第二放射層3,呈復(fù)合樣貌2,所述復(fù)合樣貌2為微米微粒狀與微米柱(微米森林)狀的結(jié)合,更確切的說(shuō)部分支架為第一放射層的微米微粒狀樣貌,部分支架為第二放射層的微米柱(微米森林)狀樣貌。
[0102]實(shí)施例四
[0103]第四實(shí)施例與第一實(shí)施例相似,不同之處在于,
[0104]所述步驟S4a中,銀氨溶液濃度20g/L、氨水濃度25%,肼溶液濃度為1% ;
[0105]所述步驟S4b中,硝酸銀濃度0.5g/L、氫氧化銨濃度15%、乙二胺四乙酸二鈉30g/L、肼濃度2%,反應(yīng)時(shí)間0.5h ;
[0106]所述步驟S4d中,溴化鈉濃度6g/L、碘化鈉濃度0.5g/L、氫氧化鈉濃度lmg/L、鐵氰化鉀濃度5g/L,反應(yīng)時(shí)間1min。得到所述第二放射層3厚度為I μ m。
[0107]第四實(shí)施例得到以微米柱(微米森林)樣貌為主的所述第二放射層。
[0108]實(shí)施例五
[0109]第五實(shí)施例與第一實(shí)施例相似,不同之處在于,
[0110]所述步驟S2a中,氯化鈀溶液濃度0.2g/L,肼溶液濃度20% ;
[0111]所述步驟S2b中,氯化鈀濃度0.lg/L、氫氧化銨濃度15%、乙二胺四乙酸二鈉60g/L、肼濃度0.25%,50°C攪拌反應(yīng)Ih。得到所述第一放射層2厚度為I μ m。
[0112]實(shí)施例六
[0113]第六實(shí)施例與第一實(shí)施例相似,不同之處在于,
[0114]所述步驟S2a中,氯化鈀溶液濃度lg/L,肼溶液濃度5% ;
[0115]所述步驟S2b中,氯化鈀濃度2g/L、氫氧化銨濃度25 %、乙二胺四乙酸二鈉90g/L、肼濃度2%,35°C攪拌反應(yīng)5h。得到所述第一放射層2厚度為10 μ m。
[0116]實(shí)施例七
[0117]第七實(shí)施例與第一實(shí)施例相似,不同之處在于,所述步驟S6中脂肪族聚碳酸型聚氨酯的四氫呋喃溶液的質(zhì)量濃度為20%,得到所述保護(hù)層4厚度為100 μ m。
[0118]實(shí)施例八
[0119]第八實(shí)施例與第一實(shí)施例相似,不同之處在于,所述步驟S6中脂肪族聚碳酸型聚氨酯的四氫呋喃溶液的質(zhì)量濃度為5%,得到所述保護(hù)層4厚度為10 μ m。
[0120]實(shí)施例九
[0121]第九實(shí)施例與第一實(shí)施例相似,不同之處在于,所述步驟S6中采用聚醚型聚氨酯的四氫呋喃溶液。
[0122]實(shí)施例十
[0123]實(shí)施例十與實(shí)施例一相似,不同之處在于,
[0124]所述步驟S2具體為,
[0125]S2a:在支架表面噴淋15g/L氯化亞錫溶液,隨后噴淋lg/L氯化鈀溶液,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著;
[0126]S2b:將支架置于由lg/L氯化鈀、30g/L氯化銨、16%氫氧化銨、12g/L亞磷酸鈉及放射性ltl3Pd組成的溶液中,80°C攪拌反應(yīng)2h。
[0127]所述步驟S4具體為,
[0128]S4a:在支架表面噴淋25g/L硝酸銀-氨溶液,氨水濃度I %,隨后噴淋10g/L硫酸肼-氨溶液,氨水濃度2.5%。,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著;
[0129]S4b:配置A液與B液,其中,所述A液由硝酸銀43g/L、氫氧化鈉38g/L、氫氧化銨
3.5%組成,所述B液由葡萄糖45g/L、酒石酸3.5g/L、乙醇8%組成,所述A液與所述B液取等體積混合得到混合液,將所述步驟S4a處理過(guò)的支架置入所述混合液中,攪拌反應(yīng)2.5h ;
[0130]S4c:將支架取出并用去離子水清洗;
[0131 ] S4d:將支架放入12g/L高錳酸鉀和0.4g/L溴化鉀的混合溶液中,振蕩反應(yīng)30min,取出支架,用去離子水清洗,然后放入10mg/L碘化鈉和放射性Na125I的混合溶液中,通過(guò)震蕩進(jìn)行攪拌,反應(yīng)10h。
[0132]實(shí)施例1^一
[0133]實(shí)施例^ 與實(shí)施例一相似,不同之處在于,
[0134]所述步驟S2具體為,
[0135]S2a:在支架表面噴淋10g/L氯化亞錫溶液,隨后噴淋2g/L氯化鈀溶液,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著;
[0136]S2b:將支架置于由0.5g/L氯化鈀、25g/L氯化銨、12%氫氧化銨、10g/L亞磷酸鈉及放射性ltl3Pd組成的溶液中,90°C攪拌反應(yīng)1.5h。
[0137]所述步驟S4具體為,
[0138]S4a:在支架表面噴淋50g/L硝酸銀-氨溶液,氨水濃度5%,隨后噴淋5g/L硫酸肼-氨溶液,氨水濃度1%。,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著;
[0139]S4b:配置A液與B液,其中,所述A液由硝酸銀40g/L、氫氧化鈉30g/L、氫氧化銨2%組成,所述B液由葡萄糖55g/L、酒石酸4g/L、乙醇10%組成,所述A液與所述B液取等體積混合得到混合液,將所述步驟S4a處理過(guò)的支架置入所述混合液中,攪拌反應(yīng)5h ;
[0140]S4c:將支架取出并用去離子水清洗;
[0141]S4d:將支架放入8g/L高錳酸鉀和0.6g/L溴化鉀的混合溶液中,振蕩反應(yīng)60min,取出支架,用去離子水清洗,然后放入50mg/L碘化鈉和放射性Na125I的混合溶液中,通過(guò)震蕩進(jìn)行攪拌,反應(yīng)12h。
[0142]實(shí)施例十二
[0143]實(shí)施例十二與實(shí)施例一相似,不同之處在于,
[0144]所述步驟S2具體為,
[0145]S2a:在支架表面噴淋20g/L氯化亞錫溶液,隨后噴淋0.5g/L氯化鈀溶液,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著;
[0146]S2b:將支架置于由2g/L氯化鈀、35g/L氯化銨、20%氫氧化銨、15g/L亞磷酸鈉及放射性ltl3Pd組成的溶液中,75°C攪拌反應(yīng)3h。
[0147]所述步驟S4具體為,
[0148]S4a:在支架表面噴淋20g/L硝酸銀-氨溶液,氨水濃度0.5%,隨后噴淋20g/L硫酸肼-氨溶液,氨水濃度5%0,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著;
[0149]S4b:配置A液與B液,其中,所述A液由硝酸銀45g/L、氫氧化鈉45g/L、氫氧化銨5%組成,所述B液由葡萄糖35g/L、酒石酸3g/L、乙醇6%組成,所述A液與所述B液取等體積混合得到混合液,將所述步驟S4a處理過(guò)的支架置入所述混合液中,攪拌反應(yīng)Ih ;
[0150]S4c:將支架取出并用去離子水清洗;
[0151]S4d:將支架放入15g/L高錳酸鉀和0.2g/L溴化鉀的混合溶液中,振蕩反應(yīng)20min,取出支架,用去離子水清洗,然后放入5mg/L碘化鈉和放射性Na125I的混合溶液中,通過(guò)震蕩進(jìn)行攪拌,反應(yīng)5h。
[0152]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例,對(duì)發(fā)明而言僅僅是說(shuō)明性的,而非限制性的。本專業(yè)技術(shù)人員理解,在發(fā)明權(quán)利要求所限定的精神和范圍內(nèi)可對(duì)其進(jìn)行許多改變,修改,甚至等效,但都將落入本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種復(fù)合核素放射性支架,其特征在于,包括一支架本體、一第一放射層、一第二放射層與一保護(hù)層; 其中,所述第一放射層包括第一放射性物質(zhì),所述第二放射層包括第二放射性物質(zhì); 所述第一放射層與所述第二放射層全部或部分覆蓋所述支架本體; 所述支架本體上同時(shí)覆蓋所述第一放射層與所述第二放射層的部分,所述第二放射層位于所述第一放射層之外; 所述保護(hù)層位于所述第二放射層之外,包覆整個(gè)支架。
2.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合核素放射性支架,其特征在于,所述第一放射性物質(zhì)為1Q3Pd,所述第二放射性物質(zhì)Ag125I ; 所述保護(hù)層材料為聚氨酯。
3.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合核素放射性支架,其特征在于,所述第一放射層為微米級(jí)微粒狀結(jié)構(gòu),所述第二放射層為微米級(jí)微粒狀、微米森林狀或復(fù)合結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合核素放射性支架,其特征在于,所述本體分為一第一部分、一第二部分與一第三部分,所述第一部分不覆蓋所述第二放射層,所述第三部分不覆蓋所述第一放射層,所述第二部分覆蓋所述第一放射層與所述第二放射層。
5.如權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的復(fù)合核素放射性支架,其特征在于,所述第一放射層還包括非放射性鈀,所述第二放射層還包括溴化銀與非放射性碘化銀。
6.如權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的復(fù)合核素放射性支架,其特征在于,所述第一放射層厚度為1-1Oym,所述第二放射層厚度為1-10 μ m,所述保護(hù)層厚度為10-100 μ m。
7.一種復(fù)合核素放射性支架的制備方法,其特征在于,包括步驟, 51:普通支架依次經(jīng)過(guò)噴砂糙化表面、丙酮清洗除油、硝酸浸蝕除去附著物、水洗除去殘留酸液; 52:采用化學(xué)沉積的方法,使支架表面形成所述第一放射層; 53:將支架取出并用去離子水清洗; 54:采用化學(xué)沉積的方法,使支架表面形成所述第二放射層; 55:將支架用去離子水清洗,并在溫和氣流下干燥; 56:旋轉(zhuǎn)條件下在支架表面涂刷5-20%的脂肪族聚碳酸型聚氨酯或聚醚型聚氨酯的四氫呋喃溶液,并一直旋轉(zhuǎn)至干燥固化,從而形成所述保護(hù)層。
8.如權(quán)利要求7所述的復(fù)合核素放射性支架的制備方法,其特征在于, 所述步驟S2具體為, S2a:在支架表面噴淋0.2-lg/L氯化鈀溶液,隨后噴淋5-20%肼溶液,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著; S2b:將支架置于由0.l_2g/L氯化鈀、15-25%氫氧化銨、60-90g/L乙二胺四乙酸二鈉、0.25-2%肼及放射性ltl3Pd組成的溶液中,35-50°C攪拌反應(yīng)l_5h ; 所述步驟S4具體為, S4a:在支架表面噴淋5-20g/L銀氨溶液,氨水濃度5_25 %,隨后噴淋1_20 %肼溶液,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著; S4b:將支架置于由0.5-2.5g/L硝酸銀、15-25%氫氧化銨、30-80g/L乙二胺四乙酸二鈉、0.3-2%肼組成的溶液中,室溫下攪拌反應(yīng)0.5-10h ; S4c:將支架取出并用去離子水清洗; S4d:將支架置于由6-12g/L溴化鈉、0.1-0.5g/L碘化鈉、l-100mg/L氫氧化鈉、5-10g/L鐵氰化鉀及放射性125I組成的溶液中,室溫下攪拌反應(yīng)10-30min。
9.如權(quán)利要求7所述的復(fù)合核素放射性支架制備方法,其特征在于, 所述步驟S2具體為, S2a:在支架表面噴淋10-20g/L氯化亞錫溶液,隨后噴淋0.5_2g/L氯化鈀溶液,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著; S2b:將支架置于由0.5-2g/L氯化鈀、25-35g/L氯化銨、12-20%氫氧化銨、10-15g/L亞磷酸鈉及放射性ltl3Pd組成的溶液中,75-90°C攪拌反應(yīng)1.5-3h ; 所述步驟S4具體為, S4a:在支架表面噴淋20-50g/L硝酸銀-氨溶液,氨水濃度0.5_5%,隨后噴淋5_20g/L硫酸肼-氨溶液,氨水濃度1-5%。,然后干燥至無(wú)明顯液滴附著; S4b:配置A液與B液,其中,所述A液由40-45g/L硝酸銀、30_45g/L氫氧化鈉、2_5%氫氧化銨組成,所述B液由35-55g/L葡萄糖、3-4g/L酒石酸、6-10%乙醇組成,所述A液與所述B液取等體積混合得到混合液,將所述步驟S4a處理過(guò)的支架置入所述混合液中,攪拌反應(yīng)l-5h ; S4c:將支架取出并用去離子水清洗; S4d:將支架放入8-15g/L高錳酸鉀和0.2-0.6g/L溴化鉀的混合溶液中,振蕩反應(yīng)20-60min,取出支架,用去離子水清洗,然后放入5_50mg/L碘化鈉和放射性Na125I的混合溶液中,通過(guò)震蕩進(jìn)行攪拌,反應(yīng)5-12h ;其中所述高錳酸鉀還可以為雙氧水、次氯酸鈉等,所述溴化鉀還可以為溴化鈉、氯化鈉、氯化鉀等。
10.如權(quán)利要求8或9所述的復(fù)合核素放射性支架的制備方法,其特征在于, 對(duì)于支架不覆蓋所述第一放射層的部分,還包括步驟, S2a':在所述步驟SI之后,步驟S2a之前,用濾紙包覆不需覆蓋所述第一放射層的部分; S2a'':所述步驟S2a結(jié)束后將濾紙揭去; 對(duì)于支架不覆蓋所述第二放射層的部分,還包括步驟, S4c':所述步驟S4c結(jié)束后,所述步驟S4d開始之前,用0.5-5mol/L的硝酸將不需要覆蓋第二放射層的部位的銀層除去并用去離子水清洗干凈,繼而轉(zhuǎn)至所述步驟S4d。
【文檔編號(hào)】A61L31/16GK104127915SQ201410323377
【公開日】2014年11月5日 申請(qǐng)日期:2014年7月8日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月8日
【發(fā)明者】高惠波, 李忠勇, 張文輝, 韓連革, 周棱 申請(qǐng)人:原子高科股份有限公司