X線放射設(shè)備及其曝光系統(tǒng)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及X線放射設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，提供了一種X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)，該曝光系統(tǒng)包括：一厚度測(cè)量裝置，用于測(cè)量待檢對(duì)象的厚度；一曝光參數(shù)設(shè)置裝置，用于根據(jù)待檢對(duì)象的厚度設(shè)置曝光參數(shù)；一X線發(fā)生器，用于根據(jù)所述曝光參數(shù)發(fā)出X線。本實(shí)用新型還提供了一種X線放射設(shè)備。采用本實(shí)用新型的技術(shù)，不需要用另一個(gè)曝光來(lái)測(cè)量待檢對(duì)象厚度，減少了待檢對(duì)象所受到的劑量。另外，本實(shí)用新型的方案不需要操作者手動(dòng)設(shè)置曝光參數(shù)，實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)設(shè)置曝光參數(shù)。
【專(zhuān)利說(shuō)明】X線放射設(shè)備及其曝光系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及X線的曝光【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是一種X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)，以及一種X線放射設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]在諸如數(shù)字透視拍片(DigitalFluoroscopy & Radiography,DFR)系統(tǒng)等的X線放射設(shè)備中，如何降低X線劑量是個(gè)永恒的話題。
[0003]本申請(qǐng)將致力于進(jìn)一步降低X線劑量。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]有鑒于此，本實(shí)用新型提出了一種X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)，用以降低X線劑量。本實(shí)用新型還欲提出一種包括該曝光系統(tǒng)的X線放射設(shè)備。
[0005]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，提供了一種X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)，該曝光系統(tǒng)包括:
[0006]一厚度測(cè)量裝置，用于測(cè)量待檢對(duì)象的厚度；
[0007]—曝光參數(shù)設(shè)置裝置，用于根據(jù)待檢對(duì)象的厚度設(shè)置曝光參數(shù)；
[0008]一 X線發(fā)生器，用于根據(jù)所述曝光參數(shù)發(fā)出X線。
[0009]采用該曝光系統(tǒng)，不需要用另一個(gè)曝光來(lái)測(cè)量待檢對(duì)象厚度，減少了待檢對(duì)象所受到的劑量。另外，采用該曝光系統(tǒng)，不需要操作者手動(dòng)設(shè)置曝光參數(shù)，實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)設(shè)置曝光參數(shù)，所以還優(yōu)化了操作流程，能提高效率。
[0010]根據(jù)一實(shí)施方式，所述厚度測(cè)量裝置為一激光測(cè)厚儀。
[0011]可選地，所述激光測(cè)厚儀包括:
[0012]相對(duì)設(shè)置的第一激光測(cè)距單元和第二激光測(cè)距單元，其中，第一激光測(cè)距單元用于測(cè)量其與待檢對(duì)象的距離，第二激光測(cè)距單元用于測(cè)量其與待檢對(duì)象的距離；
[0013]一輸出單元，用于計(jì)算第一激光測(cè)距單元和第二激光測(cè)距單元之間的距離減去第一激光測(cè)距單元與待檢對(duì)象的距離以及第二激光測(cè)距單元與待檢對(duì)象的距離，得到待檢對(duì)象的厚度并輸出。
[0014]可選地，所述激光測(cè)厚儀包括:
[0015]與一基準(zhǔn)器相對(duì)設(shè)置的第三激光測(cè)距單元，用于測(cè)量其與待檢對(duì)象的距離；
[0016]一輸出單元，用于計(jì)算基準(zhǔn)器與第三激光測(cè)距單元之間的距離減去第三激光測(cè)距裝置與待檢對(duì)象的距離，得到待檢對(duì)象的厚度并輸出。
[0017]根據(jù)另一實(shí)施例，所述厚度測(cè)量裝置包括:一三維光學(xué)照相機(jī)，用于拍攝待檢對(duì)象的三維圖像，根據(jù)所述三維圖像計(jì)算所述待檢對(duì)象的厚度并輸出。
[0018]根據(jù)再一實(shí)施例，所述厚度測(cè)量裝置為一手動(dòng)測(cè)量裝置。
[0019]根據(jù)一種實(shí)施方式，所述曝光參數(shù)設(shè)置裝置中存儲(chǔ)有待檢對(duì)象厚度與曝光參數(shù)之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系，該曝光參數(shù)設(shè)置裝置根據(jù)測(cè)量的厚度提取對(duì)應(yīng)的曝光參數(shù)并設(shè)置。[0020]可選地，所述的曝光系統(tǒng)還包括一連接所述曝光參數(shù)設(shè)置裝置和所述X線發(fā)生器的主機(jī)橋。
[0021]根據(jù)本實(shí)用新型的另一實(shí)施例，提供了一種X線放射設(shè)備，包括如任一如上所述的曝光系統(tǒng)。
[0022]所述X線放射設(shè)備為X線拍片機(jī)、或者透視設(shè)備、或者數(shù)字透視拍片系統(tǒng)。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0023]下面將通過(guò)參照附圖詳細(xì)描述本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，使本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員更清楚本實(shí)用新型的上述及其它特征和優(yōu)點(diǎn)，附圖中:
[0024]圖1為根據(jù)一實(shí)施例的X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)的示意圖。
[0025]圖2為根據(jù)另一實(shí)施例的厚度測(cè)量裝置的示意圖。
[0026]圖3為根據(jù)再一實(shí)施例的厚度測(cè)量裝置的示意。
[0027]圖4為根據(jù)本實(shí)用新型又一實(shí)施例的X線放射設(shè)備的示意圖。
[0028]其中，附圖標(biāo)記如下:
[0029]100X線放射設(shè)備的曝光系 110厚度測(cè)量裝置120曝光參數(shù)設(shè)置裝置
[0030]統(tǒng)
[0031]130X線發(fā)生器210第一激光測(cè)距單元 220第二激光測(cè)距單元
[0032]230、330待檢對(duì)象 210第三激光測(cè)距單元320基準(zhǔn)器
[0033]S待檢對(duì)象的厚度 Dl第一激光測(cè)距單元與第 D2第一激光測(cè)距單元與待檢
[0034]二激光測(cè)距單元的距離對(duì)象的距離
[0035]D3第二激光測(cè)距單元與待檢D4第三激光測(cè)距單元與基準(zhǔn)D5第三激光測(cè)距單
[0036]對(duì)象的距離器的距離元與待檢對(duì)象的距離
[0037]410三維光學(xué)照相機(jī)420工作站(曝光參數(shù)設(shè)置 430高壓發(fā)生器
[0038]裝置)
[0039]440X線管450病人(待檢對(duì)象) 460主機(jī)橋(host bridge)
[0040]470胸片架480平板490檢查床
【具體實(shí)施方式】
[0041]為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，以下舉實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
[0042]在數(shù)字透視拍片系統(tǒng)中，操作者在曝光之前，可以執(zhí)行透視，來(lái)測(cè)量待檢對(duì)象的水值(water value) 0水值可以用來(lái)表示待檢對(duì)象(例如病人)的厚度。系統(tǒng)根據(jù)所計(jì)算出的水值，自動(dòng)決定曝光參數(shù)，例如電壓和電流。這種方法可以保證圖像品質(zhì)的情況下保證較少的劑量。
[0043]在某些應(yīng)用場(chǎng)景下，例如拍片系統(tǒng)中，不可能執(zhí)行透視。所以，本申請(qǐng)進(jìn)一步提出了新的技術(shù)，可以用來(lái)降低X線劑量，也可以用來(lái)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)設(shè)置曝光參數(shù)。
[0044]如圖1所不,根據(jù)一實(shí)施例的一種X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)。該曝光系統(tǒng)100包括:一厚度測(cè)量裝置110、一曝光參數(shù)設(shè)置裝置120、以及一 X線發(fā)生器130。
[0045]其中，厚度測(cè)量裝置，用于測(cè)量待檢對(duì)象的厚度，并提供給曝光參數(shù)設(shè)置裝置120.。曝光參數(shù)設(shè)置裝置120，用于根據(jù)待檢對(duì)象的厚度設(shè)置曝光參數(shù)。X線發(fā)生器130，用于根據(jù)所述曝光參數(shù)發(fā)出X線。
[0046]需要指出的是，本申請(qǐng)省略了曝光系統(tǒng)中與厚度測(cè)量無(wú)關(guān)的現(xiàn)有零部件，從而便于本領(lǐng)域技術(shù)人員重點(diǎn)理解本申請(qǐng)的技術(shù)方案。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)能知曉所省略的現(xiàn)有零部件。
[0047]圖2和圖3分別顯示了厚度測(cè)量裝置，并且此時(shí)的厚度測(cè)量裝置110為激光測(cè)厚儀。
[0048]根據(jù)附圖2所示，在一種實(shí)施方式中，激光測(cè)厚儀包括:相對(duì)設(shè)置的兩套激光測(cè)距單元210和220，以及一輸出單元(圖中未顯示)。
[0049]相對(duì)設(shè)置的兩套激光測(cè)距單元210和220 (即第一激光測(cè)距單元210和第二激光測(cè)距單元220)，每套激光測(cè)距單元210和220分別用于測(cè)量其與待檢對(duì)象230的距離。換言之，第一激光測(cè)距單元210用于測(cè)量第一激光測(cè)距單元210與待檢對(duì)象230的距離D2，第二激光測(cè)距單元220用于測(cè)量第二激光測(cè)距單元與待檢對(duì)象230的距離D3。
[0050]輸出單元與第一激光測(cè)距單元210、第二激光測(cè)距單元220、以及曝光參數(shù)設(shè)置裝置120相連接，該輸出單元用于計(jì)算兩套激光測(cè)距單元210和220之間的距離Dl減去各激光測(cè)距單元與待檢對(duì)象的距離D2和D3，即D1-D2-D3，得到待檢對(duì)象的厚度S，并輸出給曝光參數(shù)設(shè)置裝置120。
[0051]如圖3所示，在另一實(shí)施方式中，激光測(cè)厚儀包括:與一基準(zhǔn)器320相對(duì)設(shè)置的第三激光測(cè)距單元310，以及一輸出單元(圖中未顯示)。
[0052]第三激光測(cè)距單元310用于測(cè)量其與待檢對(duì)象330的距離D5。
[0053]其中，基準(zhǔn)器320可以是墻壁，也可以是一專(zhuān)門(mén)設(shè)置的板子，或者是其它相對(duì)固定的物體。在測(cè)量厚度時(shí)，待檢對(duì)象330靠著該基準(zhǔn)器320。
[0054]輸出單元用于計(jì)算基準(zhǔn)器320與第三激光測(cè)距單元310之間的距離D4減去第三激光測(cè)距裝置310與待檢對(duì)象330的距離D5，從而得到待檢對(duì)象的厚度S，并輸出給曝光參數(shù)設(shè)置裝置120。
[0055]根據(jù)再一實(shí)施例，所述厚度測(cè)量裝置包括一三維光學(xué)照相機(jī)，該三維光學(xué)照相機(jī)用于拍攝待檢對(duì)象的三維圖像，并根據(jù)三維圖像計(jì)算待檢對(duì)象的厚度S，輸出給曝光參數(shù)設(shè)置裝置120。
[0056]根據(jù)又一實(shí)施例，厚度測(cè)量裝置可以為一手動(dòng)測(cè)量裝置。該手動(dòng)測(cè)量裝置測(cè)量得到待檢對(duì)象的厚度D后，輸出給曝光參數(shù)設(shè)置裝置120。
[0057]根據(jù)本申請(qǐng)一實(shí)施方式，曝光參數(shù)設(shè)置120裝置中存儲(chǔ)有待檢對(duì)象厚度與曝光參數(shù)之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系，該曝光參數(shù)設(shè)置裝置根據(jù)測(cè)量的厚度提取對(duì)應(yīng)的曝光參數(shù)，并設(shè)置。這樣就能實(shí)現(xiàn)曝光參數(shù)的自動(dòng)設(shè)置，那么操作者無(wú)需手動(dòng)設(shè)置曝光參數(shù)，只需要按下曝光按鈕進(jìn)行圖像采集。
[0058]根據(jù)本申請(qǐng)一實(shí)施例，本申請(qǐng)還提供了一種X線放射設(shè)備，該X線放射設(shè)備上述任意一種曝光系統(tǒng)。
[0059]可選地，該X線放射設(shè)備為X線拍片機(jī)、或者透視設(shè)備、或者數(shù)字透視拍片系統(tǒng)等
坐寸ο
[0060]圖4示意性地給出了一個(gè)X線放射設(shè)備的簡(jiǎn)要示意圖。如圖4所示，曝光系統(tǒng)包括:作為厚度測(cè)量裝置的三維光學(xué)照相機(jī)410、作為曝光參數(shù)設(shè)置裝置的工作站420、作為X發(fā)生器的高壓發(fā)生器430和X線管。該曝光系統(tǒng)還可以包括一主機(jī)橋460，用來(lái)實(shí)現(xiàn)工作站420和高壓發(fā)生器430之間的網(wǎng)絡(luò)連接。
[0061]X線放射設(shè)備還包括胸片架470、平板480、病床490等。這些部件用來(lái)實(shí)現(xiàn)不同的曝光方式。
[0062]參照?qǐng)D4，三維光學(xué)照相機(jī)410拍攝病人450的三維圖像，并根據(jù)三維圖像計(jì)算病人450的厚度，然后輸出給工作站420。工作站420根據(jù)厚度提取一預(yù)先設(shè)置的對(duì)應(yīng)的曝光參數(shù)并設(shè)置。曝光參數(shù)經(jīng)由主機(jī)橋460傳輸?shù)礁邏喊l(fā)生器430。在操作者按下曝光按鈕后，高壓發(fā)生器430和X線管440根據(jù)所設(shè)置的曝光參數(shù)，對(duì)病人450進(jìn)行曝光。
[0063]本實(shí)用新型涉及X線放射設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，提供了一種X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)，該曝光系統(tǒng)包括:一厚度測(cè)量裝置，用于測(cè)量待檢對(duì)象的厚度；一曝光參數(shù)設(shè)置裝置，用于根據(jù)待檢對(duì)象的厚度設(shè)置曝光參數(shù)；一X線發(fā)生器，用于根據(jù)所述曝光參數(shù)發(fā)出X線。本實(shí)用新型還提供了一種X線放射設(shè)備。采用本實(shí)用新型的技術(shù)，不需要用另一個(gè)曝光來(lái)測(cè)量待檢對(duì)象厚度，減少了待檢對(duì)象所受到的劑量。另外，本實(shí)用新型的方案不需要操作者手動(dòng)設(shè)置曝光參數(shù)，實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)設(shè)置曝光參數(shù)。
[0064]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)(100)，其特征在于，該曝光系統(tǒng)包括: 一厚度測(cè)量裝置(110)，用于測(cè)量待檢對(duì)象(230，330，450)的厚度； 一曝光參數(shù)設(shè)置裝置(120)，用于根據(jù)待檢對(duì)象的厚度設(shè)置曝光參數(shù)； 一 X線發(fā)生器(130)，用于根據(jù)所述曝光參數(shù)發(fā)出X線。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述厚度測(cè)量裝置為一激光測(cè)厚儀。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述激光測(cè)厚儀包括: 相對(duì)設(shè)置的第一激光測(cè)距單元(210)和第二激光測(cè)距單元(220)，其中，第一激光測(cè)距單元用于測(cè)量其與待檢對(duì)象的距離(D2)，第二激光測(cè)距單元用于測(cè)量其與待檢對(duì)象的距離(D3)； 一輸出單元，用于計(jì)算第一激光測(cè)距單元和第二激光測(cè)距單元之間的距離(Dl)減去第一激光測(cè)距單元與待檢對(duì)象的距離(D2)以及第二激光測(cè)距單元與待檢對(duì)象的距離(D3)，得到待檢對(duì)象的厚度(S)并輸出。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述激光測(cè)厚儀包括: 與一基準(zhǔn)器(320)相對(duì)設(shè)置的第三激光測(cè)距單元(310)，用于測(cè)量其與待檢對(duì)象的距尚(D5)； 一輸出單元，用于計(jì)算基準(zhǔn)器與第三激光測(cè)距單元之間的距離(D4)減去第三激光測(cè)距裝置與待檢對(duì)象的距離(D5)，得到待檢對(duì)象的厚度(S)并輸出。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述厚度測(cè)量裝置包括:一三維光學(xué)照相機(jī)(410)，用于拍攝待檢對(duì)象的三維圖像，根據(jù)所述三維圖像計(jì)算所述待檢對(duì)象的厚度并輸出。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述厚度測(cè)量裝置為一手動(dòng)測(cè)量裝置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述曝光參數(shù)設(shè)置裝置中存儲(chǔ)有待檢對(duì)象厚度與曝光參數(shù)之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系，該曝光參數(shù)設(shè)置裝置根據(jù)測(cè)量的厚度提取對(duì)應(yīng)的曝光參數(shù)并設(shè)置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，還包括一連接所述曝光參數(shù)設(shè)置裝置和所述X線發(fā)生器的主機(jī)橋(460)。
9.一種X線放射設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的曝光系統(tǒng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的X線放射設(shè)備，其特征在于，該X線放射設(shè)備為X線拍片機(jī)、或者透視設(shè)備、或者數(shù)字透視拍片系統(tǒng)。
【文檔編號(hào)】A61B6/00GK203424939SQ201320378363
【公開(kāi)日】2014年2月12日 申請(qǐng)日期:2013年6月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月28日
【發(fā)明者】欒干, 張炤 申請(qǐng)人:上海西門(mén)子醫(yī)療器械有限公司