一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)及消毒濕潤(rùn)方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)及消毒濕潤(rùn)方法。系統(tǒng)包括等離子體處理裝置、真空裝置、氣路控制裝置、電源裝置和人機(jī)界面控制裝置。等離子體處理裝置、真空裝置、氣路控制裝置的信號(hào)輸入端分別通過(guò)信號(hào)線與人機(jī)界面控制裝置的信號(hào)輸出端相連，等離子處理裝置的氣體輸出端通過(guò)管路與真空裝置的氣體輸入端相連，等離子處理裝置的氣體輸入端與氣路控制裝置的氣體輸出端相連，等離子體處理裝置、真空裝置、氣路控制裝置分別通過(guò)信號(hào)線與電源裝置電連接。本發(fā)明采用等離子處理器電離氣體方法對(duì)接觸鏡進(jìn)行消毒濕潤(rùn)，該消毒濕潤(rùn)方法具有環(huán)保、安全、高效等特點(diǎn)，不會(huì)對(duì)角膜接觸鏡鏡片和眼睛造成傷害。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)及消毒濕潤(rùn)方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)及消毒濕潤(rùn)方法。
【背景技術(shù)】
[0002]接觸鏡是一種與角膜直接接觸的硬性隱形眼鏡，因?yàn)楹脱劬χ苯咏佑|，所以接觸鏡的日常護(hù)理比較重要。通常采用清潔液、沖洗液和消毒液來(lái)對(duì)接觸鏡進(jìn)行消毒和浸泡。消毒能去除鏡片表面的細(xì)菌，避免其對(duì)眼睛造成傷害。浸潤(rùn)鏡片能提高鏡片的濕潤(rùn)性，使接觸鏡佩戴更舒適。目前，在對(duì)接觸鏡護(hù)理過(guò)程中，多采用一種多功能護(hù)理液來(lái)同時(shí)實(shí)現(xiàn)清潔、沖洗、消毒、濕潤(rùn)、儲(chǔ)存及去蛋白等多種功能。雖然護(hù)理液中的化學(xué)成分不會(huì)吸附在鏡片上，但在護(hù)理過(guò)程中揉擦和沖洗也要十分小心。如果護(hù)理不當(dāng)，不僅會(huì)使配戴不適而導(dǎo)致鏡片屈光不清、使用壽命下降，還會(huì)對(duì)眼睛造成刺激，引發(fā)眼科疾病。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于提供一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)及消毒濕潤(rùn)方法，該消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)及消毒濕潤(rùn)方法具有環(huán)保、安全、高效等特點(diǎn)，不會(huì)對(duì)角膜接觸鏡鏡片和眼睛造成傷害。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了以下技術(shù)方案:一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)，包括等離子體處理裝置、真空裝置、氣路控制裝置、電源裝置和人機(jī)界面控制裝置，所述的等離子體處理裝置、真空裝置、氣路控制裝置的信號(hào)輸入端分別通過(guò)信號(hào)線與人機(jī)界面控制裝置的信號(hào)輸出端相連，所述的等離子處理裝置的氣體輸出端通過(guò)管路與真空裝置的氣體輸入端相連，所述的等離子處理裝置的氣體輸入端與氣路控制裝置的氣體輸出端相連，所述的等離子體處理裝置、真空裝置、氣路控制裝置分別通過(guò)信號(hào)線與電源裝置電連接。
[0005]所述的等離子體處理裝置為等離子體發(fā)生器。
[0006]所述的真空裝置為機(jī)械泵和真空管道，所述的機(jī)械泵通過(guò)真空管道與等離子體處理裝置的氣體輸出端相連，所述的真空管道與等離子體處理裝置氣體輸出端口間設(shè)有電磁閥，所述的電磁閥通過(guò)信號(hào)線與人機(jī)界面控制裝置相連。
[0007]所述的等離子處理裝置、真空裝置、氣路控制裝置、電源裝置和人機(jī)界面控制裝置集成于機(jī)柜內(nèi)。
[0008]本發(fā)明還涉及一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)的消毒濕潤(rùn)方法，該方法包括以下步驟:
(1)打開(kāi)等離子體處理裝置的工作腔腔門(mén)，將待消毒濕潤(rùn)的接觸鏡放置在工作腔內(nèi)的
支撐架上，關(guān)上腔門(mén)。
[0009](2)通過(guò)人機(jī)界面控制裝置設(shè)置等離子處理裝置的處理時(shí)間，并發(fā)送控制信號(hào)啟動(dòng)真空裝置，真空裝置將等離子體處理腔內(nèi)抽為真空。所述的處理時(shí)間的取值范圍為40—80MIN。只有將待處理的接觸鏡放在等離子體處理裝置工作腔內(nèi)處理40— 80MIN，才能達(dá)到理想的消毒濕潤(rùn)效果。
[0010](3)當(dāng)?shù)入x子體處理裝置的工作腔抽為真空后，通過(guò)人機(jī)界面控制裝置設(shè)置等離子體處理裝置的工作氣體和工作氣壓，同時(shí)發(fā)送控制信號(hào)啟動(dòng)氣體控制系統(tǒng)向等離子體處理裝置工作腔內(nèi)充入相應(yīng)氣體，直到工作腔內(nèi)氣壓值達(dá)到工作氣壓為止，所述的工作氣壓的取值范圍為250— 750KP。通過(guò)氣體控制系統(tǒng)向工作腔內(nèi)充氣，當(dāng)工作腔內(nèi)的氣壓位于250— 750KP范圍內(nèi)時(shí)，就可保證工作腔內(nèi)有足夠充分的氣體通過(guò)電離產(chǎn)生大量的等離子，來(lái)對(duì)接觸鏡進(jìn)行消毒濕潤(rùn)。
[0011](4)當(dāng)?shù)入x子體處理裝置的工作腔內(nèi)達(dá)到工作氣壓后，通過(guò)人機(jī)界面控制裝置設(shè)置等離子體處理裝置的放電功率，并發(fā)送控制信號(hào)啟動(dòng)電源裝置，等離子體處理裝置開(kāi)始對(duì)充入到等離子體處理裝置工作腔內(nèi)的氣體進(jìn)行電離，實(shí)現(xiàn)對(duì)接觸鏡的消毒與濕潤(rùn)，直到處理時(shí)間結(jié)束。所述的放電功率的取值范圍為5 — 10KW，當(dāng)?shù)入x子體處理裝置工作腔內(nèi)的放電功率在5 — 10KW范圍內(nèi)時(shí)，才能使充入腔體內(nèi)的氣體發(fā)生電離，產(chǎn)生大量的正負(fù)等離子體，對(duì)接觸鏡進(jìn)行殺菌消毒。
[0012](5)當(dāng)處理時(shí)間結(jié)束后，通過(guò)人機(jī)界面控制裝置發(fā)送控制信號(hào)關(guān)閉電源裝置、真空裝置和氣體控制裝置，并通過(guò)設(shè)在等離子處理裝置氣體輸出端口的放氣閥使等離子體處理裝置工作腔內(nèi)的氣壓恢復(fù)常壓，恢復(fù)常壓后取出接觸鏡。
[0013]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn):
(1)采用等離子對(duì)接觸鏡進(jìn)行消毒濕潤(rùn)。等離子體處理裝置通過(guò)將低電壓在升壓電路作用下升至正高壓及負(fù)高壓，然后利用正高壓及負(fù)高壓電離空氣或氧氣產(chǎn)生大量的正離子及負(fù)離子。等離子體處理裝置產(chǎn)生的正離子與負(fù)離子在空氣中進(jìn)行正負(fù)電荷中和的瞬間產(chǎn)生巨大的能量釋放，從而導(dǎo)致其周?chē)?xì)菌結(jié)構(gòu)的改變或能量的轉(zhuǎn)換，從而致使細(xì)菌死亡，實(shí)現(xiàn)對(duì)鏡片的殺菌消毒作用。因?yàn)榈入x子體處理裝置電離氣體的過(guò)程中是在常溫下進(jìn)行的，所以不會(huì)因高溫對(duì)接觸鏡造成損害。另外，等離子體電離氣體過(guò)程不會(huì)產(chǎn)生刺激性物質(zhì)，從而不會(huì)對(duì)眼睛和環(huán)境造成傷害。
[0014](2)通過(guò)等離子體處理裝置電離空氣與H202的混合物或氧氣與H202的混合物時(shí)，不僅能對(duì)接觸鏡進(jìn)行消毒， 還能產(chǎn)生水分子，對(duì)接觸鏡進(jìn)行有效的滋潤(rùn)，從而使接觸鏡的佩戴更加舒適。若采用氧氣和h202相結(jié)合的方式，能夠提高等離子體處理裝置的電離效率，從而提聞消毒殺菌和濕潤(rùn)的效果。
[0015](3)通過(guò)人機(jī)界面控制裝置控制整個(gè)消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)的運(yùn)轉(zhuǎn)，可實(shí)現(xiàn)接觸鏡的自動(dòng)消毒濕潤(rùn)，從而不僅保證了消毒濕潤(rùn)的質(zhì)量，還大大提高了消毒濕潤(rùn)的效率。
[0016](4)根據(jù)鏡片的消毒狀況，為等離子體處理裝置設(shè)置了適宜的處理時(shí)間、工作氣壓和放電功率，從而既實(shí)現(xiàn)了對(duì)接觸鏡的高效可靠消毒與濕潤(rùn)，又不會(huì)造成浪費(fèi)。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0017]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]其中:
1、機(jī)柜，2、人機(jī)界面控制裝置，3、等離子體處理裝置，4、真空裝置，5、氣路控制裝置?！揪唧w實(shí)施方式】
[0019]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說(shuō)明:
如圖1所示的一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)，包括等離子體處理裝置3、真空裝置4、氣路控制裝置5、電源裝置和人機(jī)界面控制裝置2，所述的等離子體處理裝置3、真空裝置4、氣路控制裝置5的信號(hào)輸入端分別通過(guò)信號(hào)線與人機(jī)界面控制裝置2的信號(hào)輸出端相連，所述的等離子處理裝置3的氣體輸出端通過(guò)管路與真空裝置4的氣體輸入端相連，所述的等離子處理裝置3的氣體輸入端與氣路控制裝置5的氣體輸出端相連，所述的等離子體處理裝置
3、真空裝置4、氣路控制裝置5分別通過(guò)信號(hào)線與電源裝置電連接。
[0020]所述的等離子體處理裝置3為等離子體發(fā)生器。
[0021]所述的真空裝置4為機(jī)械泵和真空管道，所述的機(jī)械泵通過(guò)真空管道與等離子體處理裝置3的氣體輸出端相連，所述的真空管道與等離子體處理裝置氣體輸出端口間設(shè)有電磁閥，所述的電磁閥通過(guò)信號(hào)線與人機(jī)界面控制裝置相連。
[0022]所述的等離子處理裝置3、真空裝置4、氣路控制裝置5、電源裝置和人機(jī)界面控制裝置2集成于機(jī)柜1內(nèi)。
[0023]本發(fā)明還涉及一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)的消毒濕潤(rùn)方法，該方法包括以下步驟:
(1)打開(kāi)等離子體處理裝置的工作腔腔門(mén)，將待消毒濕潤(rùn)的接觸鏡放置在工作腔內(nèi)的
支撐架上，關(guān)上腔門(mén)。
[0024](2)通過(guò)人機(jī)界面控制裝置設(shè)置等離子處理裝置的處理時(shí)間，并發(fā)送控制信號(hào)啟動(dòng)真空裝置，真空裝置將等離子體處理腔內(nèi)抽為真空。所述的處理時(shí)間的取值范圍為40—80MIN。只有將待處理的接觸鏡 放在等離子體處理裝置工作腔內(nèi)處理40— 80MIN，才能達(dá)到理想的消毒濕潤(rùn)效果。
[0025](3)當(dāng)?shù)入x子體處理裝置的工作腔抽為真空后，通過(guò)人機(jī)界面控制裝置設(shè)置等離子體處理裝置的工作氣體和工作氣壓，同時(shí)發(fā)送控制信號(hào)啟動(dòng)氣體控制系統(tǒng)向等離子體處理裝置工作腔內(nèi)充入相應(yīng)氣體，直到工作腔內(nèi)氣壓值達(dá)到工作氣壓為止，所述的工作氣壓的取值范圍為250— 750KP。通過(guò)氣體控制系統(tǒng)向工作腔內(nèi)充氣，當(dāng)工作腔內(nèi)的氣壓位于250— 750KP范圍內(nèi)時(shí)，就可保證工作腔內(nèi)有足夠充分的氣體通過(guò)電離產(chǎn)生大量的等離子，來(lái)對(duì)接觸鏡進(jìn)行消毒濕潤(rùn)。
[0026](4)當(dāng)?shù)入x子體處理裝置的工作腔內(nèi)達(dá)到工作氣壓后，通過(guò)人機(jī)界面控制裝置設(shè)置等離子體處理裝置的放電功率，并發(fā)送控制信號(hào)啟動(dòng)電源裝置，等離子體處理裝置開(kāi)始對(duì)充入到等離子體處理裝置工作腔內(nèi)的氣體進(jìn)行電離，實(shí)現(xiàn)對(duì)接觸鏡的消毒與濕潤(rùn)，直到處理時(shí)間結(jié)束。所述的放電功率的取值范圍為5 — 10KW，當(dāng)?shù)入x子體處理裝置工作腔內(nèi)的放電功率在5 — 10KW范圍內(nèi)時(shí)，才能使充入腔體內(nèi)的氣體發(fā)生電離，產(chǎn)生大量的正負(fù)等離子體，對(duì)接觸鏡進(jìn)行殺菌消毒。
[0027](5)當(dāng)處理時(shí)間結(jié)束后，通過(guò)人機(jī)界面控制裝置發(fā)送控制信號(hào)關(guān)閉電源裝置、真空裝置和氣體控制裝置，并通過(guò)設(shè)在等離子處理裝置氣體輸出端口的放氣閥使等離子體處理裝置工作腔內(nèi)的氣壓恢復(fù)常壓，恢復(fù)常壓后取出接觸鏡。
[0028]綜上所述，本發(fā)明首先通過(guò)采用等離子對(duì)接觸鏡進(jìn)行消毒濕潤(rùn)。等離子體處理裝置通過(guò)將低電壓在升壓電路作用下升至正高壓及負(fù)高壓，然后利用正高壓及負(fù)高壓電離空氣或氧氣產(chǎn)生大量的正離子及負(fù)離子。等離子體處理裝置產(chǎn)生的正離子與負(fù)離子在空氣中進(jìn)行正負(fù)電荷中和的瞬間產(chǎn)生巨大的能量釋放，從而導(dǎo)致其周?chē)?xì)菌結(jié)構(gòu)的改變或能量的轉(zhuǎn)換，從而致使細(xì)菌死亡，實(shí)現(xiàn)對(duì)鏡片的殺菌消毒作用。因?yàn)榈入x子體處理裝置電離氣體的過(guò)程中是在常溫下進(jìn)行的，所以不會(huì)因高溫對(duì)接觸鏡造成損害。另外，等離子體電離氣體過(guò)程不會(huì)產(chǎn)生刺激性物質(zhì)，從而不會(huì)對(duì)眼睛和環(huán)境造成傷害。其次，通過(guò)等離子體處理裝置電離空氣與h202的混合物或氧氣與h2o2的混合物時(shí)，不僅能對(duì)接觸鏡進(jìn)行消毒，還能產(chǎn)生水分子，對(duì)接觸鏡進(jìn)行有效的滋潤(rùn)，從而使接觸鏡的佩戴更加舒適。若采用氧氣和h202相結(jié)合的方式，能夠提高等離子體處理裝置的電離效率，從而提高消毒殺菌和濕潤(rùn)的效果。再次，通過(guò)人機(jī)界面控制裝置控制整個(gè)消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)的運(yùn)轉(zhuǎn)，可實(shí)現(xiàn)接觸鏡的自動(dòng)消毒濕潤(rùn)，從而不僅保證了消毒濕潤(rùn)的質(zhì)量，還大大提高了消毒濕潤(rùn)的效率。根據(jù)鏡片的消毒狀況，為等離子體處理裝置設(shè)置了適宜的處理時(shí)間、工作氣壓和放電功率，從而既實(shí)現(xiàn)了對(duì)接觸鏡的高效可靠消毒與濕潤(rùn)，又不會(huì)造成浪費(fèi)。
[0029]以上所述的實(shí)施例僅僅是對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行描述，并非對(duì)本發(fā)明的范圍進(jìn)行限定，在不脫離本發(fā)明設(shè)計(jì)精神的前提下，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作出的各種變形和改進(jìn)，均應(yīng)落入本發(fā)明權(quán)利要求書(shū)確定的`保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)，其特征在于:包括等離子體處理裝置、真空裝置、氣路控制裝置、電源裝置和人機(jī)界面控制裝置，所述的等離子體處理裝置、真空裝置、氣路控制裝置的信號(hào)輸入端分別通過(guò)信號(hào)線與人機(jī)界面控制裝置的信號(hào)輸出端相連，所述的等離子處理裝置的氣體輸出端通過(guò)管路與真空裝置的氣體輸入端相連，所述的等離子處理裝置的氣體輸入端與氣路控制裝置的氣體輸出端相連，所述的等離子體處理裝置、真空裝置、氣路控制裝置分別通過(guò)信號(hào)線與電源裝置電連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)，其特征在于:所述的等離子體處理裝置為等離子體發(fā)生器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)，其特征在于:所述的真空裝置為機(jī)械泵和真空管道，所述的機(jī)械泵通過(guò)真空管道與等離子體處理裝置的氣體輸出端相連，所述的真空管道與等離子體處理裝置氣體輸出端口間設(shè)有電磁閥，所述的電磁閥通過(guò)信號(hào)線與人機(jī)界面控制裝置相連。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)，其特征在于:所述的等離子處理裝置、真空裝置、氣路控制裝置、電源裝置和人機(jī)界面控制裝置集成于機(jī)柜內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)的消毒濕潤(rùn)方法，其特征在于:該方法包括以下步驟:(1)打開(kāi)等離子體處理裝置的工作腔腔門(mén)，將待消毒濕潤(rùn)的接觸鏡放置在工作腔內(nèi)的支撐架上，關(guān)上腔門(mén)；(2)通過(guò)人機(jī)界面控制裝置設(shè)置等離子處理裝置的處理時(shí)間，并發(fā)送控制信號(hào)啟動(dòng)真空裝置，真空裝置將等離子體處理腔內(nèi)抽為真空；(3) 當(dāng)?shù)入x子體處理裝置的工作腔抽為真空后，通過(guò)人機(jī)界面控制裝置設(shè)置等離子體處理裝置的工作氣體和工作氣壓，同時(shí)發(fā)送控制信號(hào)啟動(dòng)氣體控制系統(tǒng)向等離子體處理裝置工作腔內(nèi)充入相應(yīng)氣體，直到工作腔內(nèi)氣壓值達(dá)到工作氣壓為止；(4)當(dāng)?shù)入x子體處理裝置的工作腔內(nèi)達(dá)到工作氣壓后，通過(guò)人機(jī)界面控制裝置設(shè)置等離子體處理裝置的放電功率，并發(fā)送控制信號(hào)啟動(dòng)電源裝置，等離子體處理裝置開(kāi)始對(duì)充入到等離子體處理裝置工作腔內(nèi)的氣體進(jìn)行電離，實(shí)現(xiàn)對(duì)接觸鏡的消毒與濕潤(rùn)，直到處理時(shí)間結(jié)束；(5)當(dāng)處理時(shí)間結(jié)束后，通過(guò)人機(jī)界面控制裝置發(fā)送控制信號(hào)關(guān)閉電源裝置、真空裝置和氣體控制裝置，并通過(guò)設(shè)在等離子處理裝置氣體輸出端口的放氣閥使等離子體處理裝置工作腔內(nèi)的氣壓恢復(fù)常壓，恢復(fù)常壓后取出接觸鏡。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)的消毒濕潤(rùn)方法，其特征在于:步驟(2)中所述的處理時(shí)間的范圍為40— 80MIN。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)的消毒濕潤(rùn)方法，其特征在于:步驟(3)中所述的工作氣壓的范圍為250— 750KP。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種接觸鏡消毒濕潤(rùn)系統(tǒng)的消毒濕潤(rùn)方法，其特征在于:步驟(4)中所述的放電功率的范圍為5 — 10KW。
【文檔編號(hào)】A61L12/02GK103721290SQ201310694900
【公開(kāi)日】2014年4月16日 申請(qǐng)日期:2013年12月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月18日
【發(fā)明者】王小立, 蔣玉潔 申請(qǐng)人:歐普康視科技（合肥）有限公司