專利名稱：活體信息檢測(cè)器和活體信息測(cè)定裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及活體信息檢測(cè)器和活體信息測(cè)定裝置等。
背景技術(shù)：
活體信息測(cè)定裝置例如測(cè)定人的脈搏數(shù)、血液中的氧飽和度、體溫、心跳數(shù)等的活 體信息，活體信息測(cè)定裝置的一例是測(cè)定脈搏數(shù)的脈搏計(jì)。并且，脈搏計(jì)等的活體信息測(cè)定 裝置也可以組裝在鐘表、便攜電話、尋呼機(jī)、個(gè)人計(jì)算機(jī)等電子設(shè)備中，或者還可以與電子 設(shè)備進(jìn)行組合。活體信息測(cè)定裝置具有檢測(cè)活體信息的活體信息檢測(cè)器，活體信息檢測(cè)器 具有發(fā)光部，其朝向被檢查體(用戶)的被檢測(cè)部位發(fā)出光；以及受光部，其接受來(lái)自被 檢測(cè)部位的具有活體信息的光。專利文獻(xiàn)1公開(kāi)了脈搏計(jì)(廣義為活體信息測(cè)定裝置)，脈搏計(jì)的受光部(例如專 利文獻(xiàn)1的圖16的受光部12)經(jīng)由擴(kuò)散反射面(例如專利文獻(xiàn)1的圖16的反射部131) 接受被檢測(cè)部位的反射光(例如專利文獻(xiàn)1的圖16的點(diǎn)劃線)。關(guān)于專利文獻(xiàn)1的光探頭 1，在平面圖中發(fā)光部11與受光部12重合，實(shí)現(xiàn)了光探頭1的小型化。專利文獻(xiàn)1日本特開(kāi)2004-337605號(hào)公報(bào)根據(jù)專利文獻(xiàn)1的段落
，基板15將反射部131的內(nèi)部側(cè)形成為擴(kuò)散反射 面。換言之，專利文獻(xiàn)1的基板15對(duì)發(fā)光部11發(fā)出的光進(jìn)行遮光，基板15整體形成遮光 區(qū)域。因此，活體信息檢測(cè)器的檢測(cè)精度不高。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的幾個(gè)方式，能夠提供能夠提高檢測(cè)精度或測(cè)定精度的活體信息檢測(cè) 器和活體信息測(cè)定裝置。本發(fā)明的一個(gè)方式涉及一種活體信息檢測(cè)器，其特征在于，該活體信息檢測(cè)器具 有發(fā)光部；受光部，其接受所述發(fā)光部發(fā)出的光被被檢查體的被檢測(cè)部位反射后的具有 活體信息的光；反射部，其反射所述發(fā)光部發(fā)出的光或所述具有活體信息的光；以及基板， 其具有第1面和與所述第1面相對(duì)的第2面，在所述第1面和所述第2面的任意一方配置 所述受光部，并且，在所述第1面和所述第2面的任意另一方配置所述發(fā)光部，所述基板由 對(duì)于所述發(fā)光部發(fā)出的光的波長(zhǎng)透明的材料構(gòu)成，所述基板的所述第1面和所述第2面中 的至少一方具有包含接至所述發(fā)光部和所述受光部的至少一方的布線的遮光區(qū)域；以及 對(duì)于所述發(fā)光部發(fā)出的光的波長(zhǎng)透明的透光膜，其在平面圖中，至少配置在所述基板上除 了所述遮光區(qū)域以外的區(qū)域中。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方式，來(lái)自發(fā)光部的光被被檢測(cè)部位反射，從而成為包含活體 信息的光，利用受光部檢測(cè)該光，由此檢測(cè)活體信息。也可以利用反射部反射來(lái)自發(fā)光部 的光而使其朝向被檢測(cè)部位，或者，也可以利用反射部反射來(lái)自被檢測(cè)部位的包含活體信 息的光，并利用受光部進(jìn)行檢測(cè)。任意情況下，發(fā)光部發(fā)出的光或具有活體信息的光能夠透 射過(guò)由透明材料構(gòu)成的基板中、除了包含接至發(fā)光部和受光部的至少一方的布線的遮光區(qū)域以外的區(qū)域。因此，到達(dá)受光部或被檢測(cè)部位的光量增加，活體信息檢測(cè)器的檢測(cè)精度提 高。并且，在平面圖中，在除了遮光區(qū)域以外的區(qū)域中，至少基板被透光膜覆蓋，由此，利用 透光膜嵌入基板的至少一面的粗糙面而使其平坦，能夠減少該粗糙面的光的擴(kuò)散。換言之， 透光膜能夠使基板的至少一面平坦，提高直線前進(jìn)的光的透射率。特別地，在為了防止布線 等的剝離而有意將基板面形成為粗糙面的情況下是有效的。因此，到達(dá)受光部或被檢測(cè)部 位的光量增加，活體信息檢測(cè)器的檢測(cè)精度進(jìn)一步提高。另外，透光膜至少配置在平面圖 中基板上除了遮光區(qū)域以外的區(qū)域中即可，也可以形成在平面圖中與遮光區(qū)域重合的區(qū)域 中。并且，在本發(fā)明的一個(gè)方式中，所述布線也可以在所述第1面和所述第2面的所述 任意一方具有接至所述受光部的連接焊盤(pán)，在平面圖中，所述基板也可以在所述第1面和 所述第2面的所述任意一方具有與所述連接焊盤(pán)鄰接且未配置所述透光膜的開(kāi)口部，在平 面圖中，所述開(kāi)口部也可以與所述基板的所述第1面和所述第2面的所述任意另一方側(cè)的 所述遮光區(qū)域重合。這樣，代替透光膜，接至受光部的連接焊盤(pán)的周邊的基板也可以具有開(kāi)口部。需要 使接至受光部的連接焊盤(pán)露出以便能夠進(jìn)行線接合等，無(wú)法全部由透光膜覆蓋。作為由于 影印石版工序等的制造時(shí)的誤差而產(chǎn)生位置偏移的結(jié)果，允許連接焊盤(pán)或透光膜的至少一 方可能形成開(kāi)口部。但是，例如在基板在第1面具有開(kāi)口部的情況下，在與開(kāi)口部相對(duì)的第 2面中存在基板的遮光區(qū)域。在平面圖中與遮光區(qū)域重合的區(qū)域中，即使形成開(kāi)口部，光也 不會(huì)通過(guò)開(kāi)口部。與此不同，在平面圖中開(kāi)口部不與遮光區(qū)域重合的情況下，利用基板的開(kāi) 口部對(duì)發(fā)光部發(fā)出的光或具有活體信息的光進(jìn)行擴(kuò)散。并且，在本發(fā)明的一個(gè)方式中，所述布線也可以在所述第1面和所述第2面的所述 任意另一方具有接至所述發(fā)光部的連接焊盤(pán)，在平面圖中，所述基板也可以在所述第1面 和所述第2面的所述任意另一方具有與所述連接焊盤(pán)鄰接且未配置所述透光膜的開(kāi)口部， 在平面圖中，所述開(kāi)口部也可以與所述基板的所述第1面和所述第2面的所述任意一方側(cè) 的所述遮光區(qū)域重合。這樣，代替透光膜，接至發(fā)光部的連接焊盤(pán)的周邊的基板也可以具有開(kāi)口部。需要 使接至發(fā)光部的連接焊盤(pán)露出以便能夠進(jìn)行線接合等，無(wú)法全部由透光膜覆蓋。作為由于 影印石版工序等的制造時(shí)的誤差而產(chǎn)生位置偏移的結(jié)果，允許連接焊盤(pán)或透光膜的至少一 方可能形成開(kāi)口部。但是，該情況下，例如在基板在第2面具有開(kāi)口部的情況下，在與開(kāi)口 部相對(duì)的第1面中存在基板的遮光區(qū)域。并且，在本發(fā)明的一個(gè)方式中，在平面圖中與所述開(kāi)口部重合的、所述基板的所述 第1面和所述第2面的所述任意另一方側(cè)的所述遮光區(qū)域也可以配置有偽布線。例如在基板在第1面具有開(kāi)口部的情況下，也可以在與開(kāi)口部相對(duì)的第2面中存 在偽布線。這樣，能夠利用偽布線容易地形成遮光區(qū)域。并且，在本發(fā)明的一個(gè)方式中，所述布線也可以具有與所述受光部的電極連接的 連接部，在平面圖中與所述開(kāi)口部重合的、所述基板的所述第1面和所述第2面的所述任意 一方側(cè)的所述遮光區(qū)域也可以配置有所述連接部。例如在基板在第2面具有開(kāi)口部的情況下，也可以在與開(kāi)口部相對(duì)的第1面中存 在與受光部的電極連接的連接部(布線)。通過(guò)使連接部(布線)擴(kuò)張，能夠容易地形成遮光區(qū)域。并且，在本發(fā)明的一個(gè)方式中，所述連接焊盤(pán)也可以具有露出所述連接焊盤(pán)的表 面的一部分的露出部，在平面圖中，所述開(kāi)口部也可以與所述露出部鄰接，所述連接焊盤(pán)的 表面的另一部分也可以被所述透光膜覆蓋。這樣，與連接焊盤(pán)的表面的另一部分重合地設(shè)置透光膜，由此，在該區(qū)域中沒(méi)有間 隙(開(kāi)口部)，另一方面，也可以在連接部的表面的一部分即無(wú)法由透光膜覆蓋的露出部與 透光膜之間，考慮透光膜等的制造誤差而形成開(kāi)口部。該開(kāi)口部在平面圖中與遮光區(qū)域重 合即可。所述布線也可以具有接至所述發(fā)光部和所述受光部中的至少一方的連接焊盤(pán)，所 述連接焊盤(pán)也可以具有露出所述連接焊盤(pán)的表面的一部分的露出部，所述連接焊盤(pán)的表面 的周?chē)部梢员凰鐾腹饽じ采w。這樣，需要使接至發(fā)光部或受光部的連接焊盤(pán)露出以便能夠進(jìn)行線接合等，無(wú)法 全部由透光膜覆蓋。連接焊盤(pán)或透光膜的至少一方由于影印石版工序等的制造時(shí)的誤差 而產(chǎn)生位置偏移，但是，即使產(chǎn)生該最大位置偏移，連接焊盤(pán)的露出部的周?chē)脖煌腹饽じ?蓋，不會(huì)在無(wú)用的區(qū)域形成開(kāi)口部。并且，本發(fā)明的其他方式涉及一種活體信息測(cè)定裝置，其特征在于，該活體信息測(cè) 定裝置具有上述活體信息檢測(cè)器；以及活體信息測(cè)定部，其根據(jù)在所述受光部中生成的 受光信號(hào)來(lái)測(cè)定所述活體信息，所述活體信息是脈搏數(shù)。根據(jù)本發(fā)明的其他方式，使用提高了檢測(cè)精度的活體信息檢測(cè)器，能夠提高活體 信息測(cè)定裝置的測(cè)定精度。


圖1是本實(shí)施方式的活體信息檢測(cè)器的結(jié)構(gòu)例。圖2是發(fā)光部發(fā)出的光或具有活體信息的光朝向基板的照射區(qū)域的說(shuō)明圖。圖3是透光膜和布線的配置例。圖4是示出形成開(kāi)口部的理由和阻止形成開(kāi)口部的原理的說(shuō)明圖。圖5是透光膜的配置例。圖6是連接焊盤(pán)的周邊的配置例。圖7是透光膜和布線的其他配置例。圖8是連接焊盤(pán)的周邊的其他配置例。圖9是發(fā)光部發(fā)出的光的強(qiáng)度特性的一例。圖10是通過(guò)涂敷有透光膜的基板的光的透射特性的一例。圖11是本實(shí)施方式的活體信息檢測(cè)器的其他結(jié)構(gòu)例。圖12是連接焊盤(pán)的周邊的其他配置例。圖13是具有活體信息檢測(cè)器的活體信息測(cè)定裝置的外觀例。圖14是活體信息測(cè)定裝置的結(jié)構(gòu)例。標(biāo)號(hào)說(shuō)明11 基板；IlA 第1面；IlB 第2面；11-1 透光膜；14 發(fā)光部；16 受光部；18 反射部；18-1 邊界；19 保護(hù)部；61、62、63、64 布線；61，、63，、64，連接焊盤(pán)；61A，、62A，、63A，、64A，露出部；62，連接部；61-1、63_1、64_1 接合線；65 偽布線；92 反射部；150 腕帶；161 控制電路；162 放大電路；163、167 :A/D轉(zhuǎn)換電路；164 脈搏數(shù)計(jì)算電路；165 顯示部；166 加速度檢測(cè)部；168 數(shù)字信號(hào)處理電路；0 被檢測(cè)部位；Rl 第1光；R2 第2 光；Rl’ 反射光；SA 被檢查體的表面；δ、δ 1、δ 2、δ 3 開(kāi)口部。
具體實(shí)施例方式下面，說(shuō)明本實(shí)施方式。另外，以下說(shuō)明的本實(shí)施方式并非不恰當(dāng)?shù)叵薅?quán)利要求 書(shū)記載的本發(fā)明的內(nèi)容。并且，在本實(shí)施方式中說(shuō)明的全部結(jié)構(gòu)不一定是本發(fā)明的必要結(jié) 構(gòu)要件。1.活體信息檢測(cè)器圖1 (A)、圖1 (B)示出本實(shí)施方式的活體信息檢測(cè)器的結(jié)構(gòu)例。如圖1 (A)、圖1 (B) 所示，活體信息檢測(cè)器具有基板11、發(fā)光部14、受光部16以及反射部18。并且，雖然在圖 1(A)、圖I(B)中沒(méi)有示出，但是，如后所述，活體信息檢測(cè)器具有布線和透光膜。進(jìn)而，如圖 1(A)、圖I(B)所示，活體信息檢測(cè)器能夠具有保護(hù)部19。如圖1 (A)、圖1⑶所示，發(fā)光部14發(fā)出朝向被檢查體(例如用戶)的被檢測(cè)部位 0的光Rl。受光部16接受發(fā)光部14發(fā)出的光Rl被被檢測(cè)部位0反射后的具有活體信息的 光Rl’(反射光)。反射部18反射發(fā)光部14發(fā)出的光Rl或具有活體信息的光R1’(反射 光)。反射部18能夠在設(shè)于發(fā)光部14與受光部16之間的光路中的穹面(球面或拋物面) 具有反射面?；?1具有第1面(例如表面)IlA和與第1面IlA相對(duì)的第2面(例如背 面)11Β，在第1面IlA和第2面IlB的任意一方(圖1 (A)中為第1面11Α，圖1 (B)中為第 2面11Β)配置受光部16，并且，在第1面IlA和第2面IlB的任意另一方(圖1 (A)中為第 2面11Β，圖I(B)中為第1面11Α)配置發(fā)光部14?；?1由對(duì)于發(fā)光部14發(fā)出的光Rl 的波長(zhǎng)透明的材料構(gòu)成。如后所述，在基板11上，能夠形成接至發(fā)光部14和受光部16的 至少一方的布線以及使發(fā)光部14發(fā)出的光Rl透射過(guò)的透光膜。并且，在平面圖中，至少在 除了配置有布線的基板11的遮光區(qū)域以外的基板11的區(qū)域中配置透光膜。發(fā)光部14發(fā)出的光Rl或具有活體信息的光Rl’ (反射光)能夠透射過(guò)由透明材 料構(gòu)成的基板11。因此，到達(dá)受光部16或被檢測(cè)部位0的光量增加，活體信息檢測(cè)器的檢 測(cè)精度提高。并且，基板11被透光膜覆蓋，由此，利用透光膜嵌入基板11的至少一面的粗 糙面而使其平坦，能夠減少該粗糙面的光的擴(kuò)散。換言之，透光膜使基板11的至少一面平 坦，能夠提高直線前進(jìn)的光的透射率。因此，到達(dá)受光部16或被檢測(cè)部位0的光量增加，活 體信息檢測(cè)器的檢測(cè)精度進(jìn)一步提高。另外，根據(jù)專利文獻(xiàn)1的段落
，基板15將反射部131的內(nèi)部側(cè)形成為擴(kuò)散 反射面。換言之，專利文獻(xiàn)1的基板15不需要由透明材料構(gòu)成，專利文獻(xiàn)1的基板15對(duì)發(fā) 光部11發(fā)出的光進(jìn)行遮光，其結(jié)果，基板15整體形成遮光區(qū)域。因此，專利文獻(xiàn)1的活體 信息檢測(cè)器的檢測(cè)精度不高。圖2 (A)、圖2 (B)、圖2 (C)示出發(fā)光部14發(fā)出的光Rl或具有活體信息的光R1’(反 射光)朝向基板11的照射區(qū)域的說(shuō)明圖。照射區(qū)域例如能夠由反射部18的反射面(在圖 1(A)、圖I(B)的例子中為穹面)與基板11的邊界18-1規(guī)定。邊界18-1的外形例如示出 圓形。
如圖2㈧所示，例如在從圖KA)的受光部16側(cè)觀察的平面圖中，用于與受光部 16的陽(yáng)極(廣義為電極)連接的布線61形成在基板11的第1面IlA上。并且，用于與受光 部16的陰極(廣義為電極)連接的布線62也形成在基板11的第1面IlA上。在圖2㈧ 的例子中，布線61具有接至受光部16的連接焊盤(pán)61’和接合線61-1，布線61的連接焊盤(pán) 61’經(jīng)由接合線61-1與受光部16的陽(yáng)極連接。在圖2(A)的例子中，布線62具有與受光部 16的陰極連接的連接部62’，布線62的連接部62’例如經(jīng)由粘接劑(未圖示)與受光部16 的陰極直接連接。作為導(dǎo)電性的粘接劑，例如能夠采用銀膏。另外，在圖I(B)的例子中，布 線61、62等形成在基板11的第2面IlB上。如圖2⑶所示，例如在從圖KA)的發(fā)光部14側(cè)觀察的平面圖中，用于與發(fā)光部 14的陰極連接的布線63形成在基板11的第2面IlB上。并且，用于與發(fā)光部14的陽(yáng)極連 接的布線64也形成在基板11的第2面IlB上。在圖2(B)的例子中，布線63具有接至發(fā) 光部14的連接焊盤(pán)63’和接合線63-1，布線63的連接焊盤(pán)63’經(jīng)由接合線63_1與發(fā)光 部14的陰極連接。在圖2(B)的例子中，布線64具有接至發(fā)光部14的連接焊盤(pán)64’和接 合線64-1，布線64的連接焊盤(pán)64’經(jīng)由接合線64-1與發(fā)光部14的陽(yáng)極連接。另外，在圖 I(B)的例子中，布線63、64等形成在基板11的第1面IlA上。另外，接至發(fā)光部14的布線63和布線64以及接至受光部16的布線61和布線 62的結(jié)構(gòu)例不由圖2(A)、圖2(B)限定。例如，關(guān)于布線61的連接焊盤(pán)61’的形狀，代替圖 2(A)所示的圓形，例如也可以是矩形、橢圓、多邊形等其他形狀。并且，例如，關(guān)于布線63的 連接焊盤(pán)63’的形狀，代替圖2(B)所示的矩形，例如也可以是圓形、橢圓、多邊形等其他形 狀。進(jìn)而，在圖2㈧的例子中，受光部16在底面具有陰極，但是，也可以如陽(yáng)極那樣在表面 具有陰極。例如如圖1㈧所示，在具有活體信息的光Rl’ (反射光)朝向基板11的情況下， 具有活體信息的光Rl’ (反射光)到達(dá)由反射部18的反射面與基板11的邊界18-1規(guī)定的 照射區(qū)域。如圖2(B)所示，在存在接至發(fā)光部14的布線63和布線64的情況下，至少布線 63和布線64遮斷或反射具有活體信息的光Rl，(反射光)，形成遮光區(qū)域。換言之，照射區(qū) 域中的遮光區(qū)域抑制具有活體信息的光R1’(反射光)進(jìn)入基板11。并且，即使在具有活體 信息的光R1’(反射光)進(jìn)入基板11的內(nèi)部的情況下，如圖2(A)所示，在存在接至受光部 16的布線61和布線62的情況下，至少布線61和布線62抑制具有活體信息的光Rl’ (反 射光)從基板11的內(nèi)部到達(dá)外部。這樣，配置有布線61、布線62、布線63和布線64的基 板11的遮光區(qū)域抑制具有活體信息的光Rl’ (反射光)到達(dá)反射部18。換言之，具有活體 信息的光Rl’ (反射光)能夠透射過(guò)除了基板11的遮光區(qū)域以外的基板11的區(qū)域。例如如圖1⑶所示，在發(fā)光部14發(fā)出的光Rl朝向基板11的情況下，發(fā)光部14發(fā) 出的光Rl到達(dá)基板11的照射區(qū)域。如圖2(A)所示，在存在接至受光部16的布線61和布 線62的情況下，至少布線61和布線62遮斷或反射發(fā)光部14發(fā)出的光R1，形成遮光區(qū)域。 換言之，照射區(qū)域中的遮光區(qū)域抑制發(fā)光部14發(fā)出的光Rl進(jìn)入基板11。并且，即使在發(fā)光 部14發(fā)出的光Rl進(jìn)入基板11的內(nèi)部的情況下，如圖2(B)所示，在存在接至發(fā)光部14的 布線63和布線64的情況下，至少布線63和布線64抑制發(fā)光部14發(fā)出的光Rl從基板11 的內(nèi)部到達(dá)外部。這樣，配置有布線61、布線62、布線63和布線64的基板11的遮光區(qū)域 抑制發(fā)光部14發(fā)出的光Rl到達(dá)被檢測(cè)部位0。
圖2(C)示出在平面圖中觀察到的照射區(qū)域中的遮光區(qū)域，在圖2(C)的例子中，用 黑色描繪遮光區(qū)域。如圖2(C)所示，在平面圖中，遮光區(qū)域能夠由圖2(A)的布線61(包含 連接焊盤(pán)61’和接合線61-1)和布線62 (包含連接部62’)、以及圖2 (B)的布線63(包含 連接焊盤(pán)63’和接合線63-1)和布線64 (包含連接焊盤(pán)64’和接合線64_1)規(guī)定。在平面圖中，能夠在除了配置有布線61、布線62、布線63和布線64的基板11的 遮光區(qū)域以外的基板11的區(qū)域中配置透光膜。透光膜可以僅形成在第1面IlA上，也可以 僅形成在第2面IlB上，還可以形成在第1面IlA和第2面IlB雙方上。例如，在圖2(A) 的例子中，透光膜能夠形成在除了布線61、連接焊盤(pán)61’、布線62和連接部62’以外的照射 區(qū)域內(nèi)。并且，在圖2(B)的例子中，透光膜能夠形成在除了布線63、連接焊盤(pán)63’、布線64 和連接焊盤(pán)64’以外的照射區(qū)域內(nèi)。為了不使基板11上的布線61、布線62、布線63和布線64剝離，基板11的第1面 IlA和第2面IlB能夠制造或加工為粗糙面。S卩，基板11的第1和第2面IlAUlB包含形 成有布線61、布線62、布線63和布線64面在內(nèi)，其整個(gè)面形成為粗糙面。關(guān)于該粗糙面，在 減少布線61等的剝離的方面是適當(dāng)?shù)?，但是，作為光的通過(guò)面，產(chǎn)生擴(kuò)散，是不理想的。因 此，第1面IlA和第2面IlB的至少一方形成透光膜，由此，利用透光膜嵌入基板11的至少 一面的粗糙面，基板11的除了遮光區(qū)域以外的光透射區(qū)域的平坦性提高。換言之，基板11 上的透光膜11-1是平坦膜，所以，光透射過(guò)基板11時(shí)，能夠減少基板11的粗糙面的光的擴(kuò) 散。換言之，由于透光膜的存在，使基板11的至少一面平坦，直線前進(jìn)的光的透射率提高。 因此，到達(dá)受光部16或被檢測(cè)部位0的光量增加，活體信息檢測(cè)器的檢測(cè)精度進(jìn)一步提高。并且，如圖1 (A)、圖1 (B)所示，活體信息檢測(cè)器能夠還具有保護(hù)部19。保護(hù)部19 保護(hù)發(fā)光部14或者受光部16。在圖I(A)的例子中，保護(hù)部19保護(hù)發(fā)光部14。在圖I(B) 的例子中，保護(hù)部19保護(hù)受光部16?；?1被夾持在反射部18與保護(hù)部19之間，發(fā)光部 14在反射部18或保護(hù)部19的任意一方側(cè)配置基板11上，受光部16在反射部18或保護(hù) 部19的任意另一方側(cè)配置基板11上。在圖I(A)的例子中，受光部16在反射部18側(cè)配置 在基板11 (狹義為基板11的第1面11A)上，發(fā)光部14在保護(hù)部19側(cè)配置在基板11 (狹 義為基板11的第2面11B)上。在圖I(B)的例子中，發(fā)光部14在反射部18側(cè)配置在基板 11(第1面)上，受光部16在保護(hù)部19側(cè)配置在基板11(第2面)上。保護(hù)部19具有與 被檢查體接觸的接觸面，保護(hù)部19由對(duì)于發(fā)光部14發(fā)出的光Rl的波長(zhǎng)透明的材料(例如 玻璃)構(gòu)成。并且，基板11也由對(duì)于發(fā)光部14發(fā)出的光Rl的波長(zhǎng)透明的材料(例如聚酰 亞胺)構(gòu)成。基板11被夾持在反射部18與保護(hù)部19之間，所以，即使發(fā)光部14和受光部16 配置在基板11上，也不需要額外設(shè)置支承基板11自身的機(jī)構(gòu)，部件數(shù)量減少。并且，基板 11由對(duì)于發(fā)光波長(zhǎng)透明的材料構(gòu)成，所以，能夠在從發(fā)光部14到受光部16的光路中途配置 基板11，不需要將基板11收納在光路以外的位置、例如反射部18的內(nèi)部。這樣，能夠提供 能夠容易組裝的活體信息檢測(cè)器。并且，反射部18能夠增加到達(dá)受光部16或被檢測(cè)部位 0的光量，活體信息檢測(cè)器的檢測(cè)精度(SN比)提高。另外，在專利文獻(xiàn)1中，需要將發(fā)光部11、受光部12、基板15和透明材料142裝入 反射部131的內(nèi)部。因此，小型光探頭1的組裝并不容易。在圖1 (A)、圖1 (B)的例子中，被檢測(cè)部位0 (例如血管)位于被檢查體的內(nèi)部。第1光Rl進(jìn)入被檢查體的內(nèi)部，在表皮、真皮和皮下組織中擴(kuò)散或散射。然后，第1光Rl到 達(dá)被檢測(cè)部位0，由被檢測(cè)部位0反射。被檢測(cè)部位0的反射光R1’在皮下組織、真皮和表 皮中擴(kuò)散或散射。在圖I(A)中，反射光R1’朝向反射部18。在圖I(B)中，第1光Rl經(jīng)由 反射部18朝向被檢測(cè)部位0。另外，第1光Rl的一部分被被檢測(cè)部位0(血管)吸收。因 此，由于脈搏的影響，血管的吸收率變化，被檢測(cè)部位0的反射光R1’的光量也變化。這樣， 活體信息(例如脈搏數(shù))被反映在被檢測(cè)部位0的反射光R1’中。在圖I(A)的例子中，發(fā)光部14向被檢測(cè)部位0發(fā)出第1光R1，反射部18向受光 部16反射被檢測(cè)部位0的第1光Rl的反射光Rl，，受光部16接受被檢測(cè)部位0的具有活 體信息的反射光R1’。在圖I(B)的例子中，發(fā)光部14經(jīng)由反射部18向被檢測(cè)部位0發(fā)出 第1光Rl，受光部16接受被檢測(cè)部位0的具有活體信息的第1光Rl的反射光R1’?；?1的厚度例如為10[ μ m] 1000 [ μ m]。能夠在基板11上形成接至發(fā)光部 14的布線以及接至受光部16的布線。基板11例如是印刷基板，但是，一般地，印刷基板例 如如專利文獻(xiàn)1的基板15那樣不是由透明材料構(gòu)成的。換言之，本發(fā)明人大膽采用至少對(duì) 于發(fā)光部14的發(fā)光波長(zhǎng)透明的材料來(lái)構(gòu)成印刷基板。保護(hù)部19的厚度例如為1[μπι] 1000[μ m]O活體信息檢測(cè)器的結(jié)構(gòu)例不限于圖1(A)、圖1(B)，也可以變更結(jié)構(gòu)例的一部分 (例如受光部16)的形狀等。并且，活體信息也可以是血液中的氧飽和度、體溫、心跳數(shù)等， 被檢測(cè)部位0也可以位于被檢查體的表面SA。在圖1(A)、圖I(B)的例子中，第1光Rl被 描繪為1條線，但是，實(shí)際上發(fā)光部14向各個(gè)方向發(fā)出大量光。發(fā)光部14例如是LED，LED發(fā)出的光的波長(zhǎng)例如在425[nm] 625[nm]的范圍內(nèi)具 有強(qiáng)度的最大值(廣義為峰值)，例如發(fā)出綠色的光。發(fā)光部14的厚度例如為20[μ m] 1000[μπι]。受光部16例如是光電二極管，一般能夠由Si光電二極管構(gòu)成。受光部16 的厚度例如為20[μπι] 1000[μπι]。Si光電二極管接受的光的波長(zhǎng)例如在800[nm] 1000 [nm]的范圍內(nèi)具有靈敏度的最大值(廣義為峰值)。優(yōu)選受光部16由GaAsP光電二 極管構(gòu)成，GaAsP光電二極管接受的光的波長(zhǎng)例如在550[nm] 650[nm]的范圍內(nèi)具有靈 敏度的最大值(廣義為峰值)?；铙w(水或血紅蛋白)容易透射過(guò)700[nm] 1100[nm]的 范圍內(nèi)包含的紅外線，所以，例如與由Si光電二極管構(gòu)成的受光部16相比，由GaAsP光電 二極管構(gòu)成的受光部16能夠減少由外光引起的噪聲分量。圖3(A)、圖3(B)示出透光膜和布線的配置例。對(duì)與上述結(jié)構(gòu)例相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相 同的標(biāo)號(hào)并省略其說(shuō)明。圖3(A)、圖3(B)對(duì)應(yīng)于圖1(A)，但是，在圖I(B)的結(jié)構(gòu)例中，也 能夠配置透光膜和布線。下面，說(shuō)明與圖I(A)對(duì)應(yīng)的圖3(A)、圖3(B)。透光膜11-1例如 能夠由阻焊劑(廣義為抗蝕劑)構(gòu)成。另外，優(yōu)選透光膜11-1的折射率在空氣的折射率與 基板11的折射率之間。進(jìn)而，優(yōu)選透光膜11-1的折射率與空氣的折射率相比更接近基板 11的折射率。在這種情況下，能夠減少光在基板11與透光膜11-1的邊界面或透光膜11-1 與空氣的邊界面的反射。如圖3(A)所示，在基板11的第2面IlB上不僅配置有發(fā)光部14，還配置有透光 膜11-1和連接焊盤(pán)64’。雖然在圖3(A)中沒(méi)有示出，但是，在基板11的第2面上，還配置 有布線64、連接焊盤(pán)63’和布線63 (參照?qǐng)D2(B))。透光膜11_1能夠配置在沒(méi)有配置布線 63、連接焊盤(pán)63’、布線64和連接焊盤(pán)64，的基板11的第2面IlB上。
透光膜11-1還能夠配置在基板11的第1面IlA上，透光膜11_1能夠配置在沒(méi) 有配置布線61、連接焊盤(pán)61’、布線62和連接焊盤(pán)62’的基板11的第1面IlA上(參照 圖2(A))。在圖3(A)的例子中，基板11的第1面IlA上的透光膜11-1配置在原來(lái)位置的 右側(cè)(在圖3(A)、圖3(B)中，以連接焊盤(pán)61’為基準(zhǔn)，設(shè)受光部16為右方向)，另一方面， 基板11的第2面IlB上的透光膜11-1配置在原來(lái)位置。如圖4(A)那樣，連接焊盤(pán)61’和 透光膜11-1形成在原來(lái)位置時(shí)不產(chǎn)生間隙，但是，在圖3(A)中，如圖4(B)那樣例如透光膜 11-1位置偏移，從而產(chǎn)生間隙δ。這是由于如下原因而產(chǎn)生的在例如使用影印石版形成 透光膜11-1和連接焊盤(pán)61’的至少一方的情況下，透光膜11-1和連接焊盤(pán)61’的至少一 方由于光掩模的位置偏移等的制造誤差的影響，未配置在原來(lái)位置。這樣，在連接焊盤(pán)61’ 與透光膜11-1之間產(chǎn)生圖4(B)所示的間隙δ時(shí)，在圖3(A)的例子中，具有活體信息的光 R1’(反射光)從基板11的內(nèi)部到達(dá)外部時(shí)，由于這種間隙δ的存在，具有活體信息的光 Rl’ (反射光)在基板11的第1面IlA的粗糙面中擴(kuò)散。在圖3(B)的例子中，基板11的第1面IlA上的透光膜11_1配置在原來(lái)位置的右 側(cè)，另一方面，基板11的第2面IlB上的透光膜11-1配置在原來(lái)位置。但是，考慮此后形 成的透光膜11-1的制造誤差，在剖面圖中，圖3(B)的連接焊盤(pán)61’的面積大小比圖3(A) 的連接焊盤(pán)61’大。換言之，根據(jù)透光膜11-1的最大偏移量，能夠增大圖3(B)的連接焊盤(pán) 61’。如圖4(C)所示，設(shè)圖3(A)的連接焊盤(pán)61’的原來(lái)的大小為W，設(shè)透光膜11-1向一個(gè) 方向偏移的最大偏移量為ML透光膜11-1偏移的一個(gè)方向例如是在曝光時(shí)基板11掃描 的二維平面上的垂直兩個(gè)軸Χ、Υ的至少一方。在連接焊盤(pán)61’的左側(cè)和右側(cè)的雙方存在透 光膜11-1，所以，如代替圖4(A)的圖4(C)所示，連接焊盤(pán)61’的大小能夠設(shè)定為W+2 X Aff0 在連接焊盤(pán)61’和透光膜11-1形成在原來(lái)位置的圖4(C)的狀態(tài)下，將掩模設(shè)計(jì)成，兩側(cè)的 透光膜11-1以AW以上的長(zhǎng)度疊加在連接焊盤(pán)61’上。于是，如圖3(B)的例子那樣，例如 即使透光膜11-1向右側(cè)位置偏移了最大量AW，如圖4(D)所示，連接焊盤(pán)61’的兩端也疊 加有透光膜11-1，能夠抑制圖4(B)的例子所示的間隙δ。并且，即使在基板11的第2面 IlB上的透光膜11-1未配置在原來(lái)位置的情況下，也能夠抑制這種間隙。另外，如果將基板 11的第1、第2面IlAUlB上的透光膜11-1和連接焊盤(pán)61’、64’的雙方向一個(gè)方向偏移的 最大偏移量定義為AW/^則即使彼此向相反方向各偏移最大值ΔΙ/2(相對(duì)偏移AWhR 要如圖4(C)那樣設(shè)計(jì)掩模，就能夠抑制產(chǎn)生間隙δ。圖5 (A)、圖5⑶示出透光膜11-1的配置例。圖5㈧和圖5⑶的雙方對(duì)應(yīng)于圖 2(A)。并且，使用圖5㈧的線段Α-Α’的剖面圖對(duì)應(yīng)于圖3(A)，使用圖5(B)的線段Α-Α’ 的剖面圖對(duì)應(yīng)于圖3(B)。在圖5(A)、圖5(B)中，基板11的第1面上的透光膜11-1僅描繪 了與反射部18的反射面和基板11的邊界18-1對(duì)應(yīng)的區(qū)域，如圖3(A)、圖3(B)那樣，也可 以在基板11的第1面IlA與反射部18之間形成透光膜11-1。在圖5(A)、圖5(B)中，基板 11的第1面IlA上的透光膜11-1配置在原來(lái)位置的上側(cè)(在圖5(A)、圖5(B)中，設(shè)標(biāo)號(hào) A為上方向，設(shè)標(biāo)號(hào)Α’為下方向)。并且，如圖5(A)、5 (B)所示，基板11的第1面上的透光 膜11-1還能夠覆蓋遮光區(qū)域即布線61的表面和布線62的表面(參照?qǐng)D2(A))。另外，如 圖5 (A)、圖5 (B)所示，在連接焊盤(pán)61，的表面形成接合線61-1，所以，透光膜11_1無(wú)法覆 蓋連接焊盤(pán)61’的整個(gè)表面(參照?qǐng)D2(A))。換言之，連接焊盤(pán)61’具有露出連接焊盤(pán)61’ 的表面的至少一部分的露出部61Α’ (參照?qǐng)D5 (A)、圖5 (B))。
圖6(A)、圖6(B)示出連接焊盤(pán)的周邊的配置例。圖6 (A)示出圖3(B)的連接焊 盤(pán)61’的周邊的配置例。并且，在圖6(A)中，利用點(diǎn)劃線表示圖5(B)的透光膜11-1的邊 緣。如圖6(A)所示，接至受光部16的連接焊盤(pán)61’具有露出連接焊盤(pán)61’的表面的至少 一部分的露出部61A’。露出部61A’由透光膜11-1的邊緣規(guī)定。在連接焊盤(pán)61’的露出 部61A’形成接合線61-1。在圖6(A)的例子中，連接焊盤(pán)61’的表面的周?chē)慌c連接焊盤(pán) 61’疊加的透光膜11-1覆蓋。并且，在圖6(A)的例子中，接至受光部16的連接部62’具有 露出連接部62’的表面的至少一部分的露出部62A’，連接部62’的表面的周?chē)慌c連接部 62’疊加的透光膜11-1覆蓋。圖6(B)示出圖3(B)的連接焊盤(pán)64’的周邊的配置例。在圖6(B)的例子中，接至 發(fā)光部14的連接焊盤(pán)64’具有露出連接焊盤(pán)64’的表面的至少一部分的露出部64A’，連接 焊盤(pán)64’的表面的周?chē)慌c連接焊盤(pán)64’疊加的透光膜11-1覆蓋(參照?qǐng)D3(B))。并且， 在圖6 (B)的例子中，接至發(fā)光部14的連接焊盤(pán)63’與連接焊盤(pán)64’同樣，具有露出連接焊 盤(pán)63’的表面的至少一部分的露出部63A’，連接焊盤(pán)63’的表面的周?chē)慌c連接焊盤(pán)63’ 疊加的透光膜11-1覆蓋。在連接焊盤(pán)64’的露出部64A’和連接焊盤(pán)63’的露出部63A’ 上分別形成有接合線64-1和接合線63-1?？紤]透光膜11-1等的制造誤差，連接焊盤(pán)61’等例如設(shè)定為比線接合所需要的必 要最小限度的面積大，并將光掩模等設(shè)計(jì)成，連接焊盤(pán)61’等的表面的周?chē)煌腹饽?1-1 覆蓋。于是，即使產(chǎn)生掩模偏移等的制造誤差，也能夠消除連接焊盤(pán)61’等連接焊盤(pán)的表面 的周?chē)c透光膜11-1之間的間隙。與連接焊盤(pán)61’等連接焊盤(pán)的表面的周?chē)徑拥耐腹?膜11-1能夠抑制光的擴(kuò)散。圖7示出透光膜和布線的其他配置例。對(duì)與上述結(jié)構(gòu)例相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的標(biāo) 號(hào)并省略其說(shuō)明。在圖3(B)的例子中，在剖面圖中，在連接焊盤(pán)61’與連接部62’之間存 在基板11的第1面IlA上的透光膜11-1，但是，在圖7的例子中，在連接焊盤(pán)61’與連接部 62’之間存在間隙δ 。換言之，在圖7的例子中，在連接焊盤(pán)61’與連接部62’之間，在基 板11的第1面IlA側(cè)存在開(kāi)口部51。但是，在圖7的例子中，與開(kāi)口部δ 1相對(duì)的偽布線 65形成在基板11的第2面IlB上。偽布線65作為原來(lái)的布線設(shè)置在不必要的區(qū)域中，但 是，是為了對(duì)開(kāi)口部Sl進(jìn)行遮光而形成的，與連接焊盤(pán)61’同樣，形成遮光區(qū)域。偽布線 65能夠是不與其他必要布線連接的浮動(dòng)布線，也可以是與其他必要布線連接的冗長(zhǎng)部分。 因此，偽布線65抑制具有活體信息的光Rl’ (反射光)進(jìn)入基板11。在不存在偽布線65的 情況下，具有活體信息的光Rl’ (反射光)在基板11的第1面IlA的粗糙面(開(kāi)口部δ 1) 擴(kuò)散。在圖7的例子中，在連接焊盤(pán)61’的左側(cè)存在透光膜11-1，所以，代替圖4(C)的尺 寸，僅考慮單側(cè)的偏移，圖7的連接焊盤(pán)61’的大小能夠設(shè)定為W+AW。在圖7的例子中， 代替圖3(B)的透光膜11-1(連接焊盤(pán)61’與連接部62’之間的透光膜11_1)而設(shè)置開(kāi)口 部δ 1，與圖4(C)的連接焊盤(pán)61，的大小(W+2XAW)相比，與開(kāi)口部δ 1鄰接的連接焊盤(pán) 61’的大小能夠減小ML由此，在存在無(wú)法增大連接焊盤(pán)61’的制約的情況下是有利的。偽布線65形成在基板11的第2面上，連接焊盤(pán)64’和布線64等也形成在基板11 的第2面IlB上。因此，偽布線65、連接焊盤(pán)64’和布線64例如能夠使用影印石版同時(shí)形 成，例如由銅箔構(gòu)成。這樣，能夠容易地形成偽布線65。并且，在圖7的例子中，在連接焊盤(pán)64’與發(fā)光部14之間，在基板11的第2面IlB側(cè)存在開(kāi)口部32，另一方面，與開(kāi)口部δ 2對(duì)應(yīng)的連接部62’形成在基板11的第1面IlA 上。但是，與圖3(B)的連接部62’相比，圖7的連接部62’向右側(cè)(在圖7中，以連接焊盤(pán) 61’為基準(zhǔn)，設(shè)受光部16為右方向)擴(kuò)張。在圖7的例子中，增大連接部62’，從而對(duì)遮光 區(qū)域進(jìn)行擴(kuò)張，擴(kuò)張后的遮光區(qū)域與存在于連接焊盤(pán)64’和發(fā)光部14之間的、基板11的第 2面?zhèn)鹊拈_(kāi)口部δ2相對(duì)。連接部62’例如由銅箔構(gòu)成，例如能夠使用影印石版容易地形 成。圖8(A)、圖8(B)示出連接焊盤(pán)的周邊的其他配置例。圖8㈧示出圖7的連接焊 盤(pán)61’的周邊的配置例。圖8(B)示出圖7的連接焊盤(pán)64’的周邊的配置例。使用圖8(A)、 圖8(B)的線段Α-Α’的剖面圖對(duì)應(yīng)于圖7。并且，對(duì)與上述結(jié)構(gòu)例相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的標(biāo) 號(hào)并省略其說(shuō)明。如圖8(A)所示，接至受光部16的連接焊盤(pán)61’具有露出連接焊盤(pán)61’的表面的 一部分的露出部61Α’，連接焊盤(pán)61’的表面的另一部分(周?chē)囊徊糠?被透光膜11-1覆 蓋。在圖8(A)的例子中，連接焊盤(pán)61’的表面的周?chē)皇侨勘煌腹饽?1-1覆蓋，所以， 在連接焊盤(pán)61’與連接部62’(受光部16)之間，在基板11的第1面IlA上形成開(kāi)口部 δ 1 (參照?qǐng)D7)。如圖8㈧所示，在受光部16側(cè)的平面圖中，基板11的第1面IlA上的開(kāi) 口部S 1與連接焊盤(pán)61，的露出部61Α’鄰接。如圖8(B)所示，接至發(fā)光部14的連接焊盤(pán)64’具有露出連接焊盤(pán)64’的表面的 一部分的露出部64Α’，連接焊盤(pán)64’的表面的另一部分(周?chē)囊徊糠?被透光膜11-1覆 蓋。在圖8(B)的例子中，連接焊盤(pán)64’的表面的周?chē)皇侨勘煌腹饽?1-1覆蓋，所以， 在連接焊盤(pán)64’與發(fā)光部14之間，在基板11的第2面上形成開(kāi)口部δ2(參照?qǐng)D7)。如 圖8(B)所示，在發(fā)光部14側(cè)的平面圖中，基板11的第2面IlB上的開(kāi)口部δ 2與連接焊 盤(pán)64’的露出部64Α，鄰接。如圖8(B)所示，在基板11的第2面IlB上形成偽布線65。在平面圖中，偽布線65 與基板11的第1面IlA上的開(kāi)口部δ 1重合(參照?qǐng)D7)。另外，偽布線65不與布線63等 布線連接，但是，代替?zhèn)尾季€65，例如也可以對(duì)布線63或連接焊盤(pán)63’等的布線進(jìn)行擴(kuò)張。如圖8(A)所示，對(duì)基板11的第1面IlA上的連接部62’進(jìn)行擴(kuò)張，以使其與基板 11的第2面IlB上的開(kāi)口部δ 2重合(參照?qǐng)D7)。另外，代替連接部62’，也可以在基板 11的第1面IlA上形成偽布線。并且，如圖8(B)所示，接至發(fā)光部14的連接焊盤(pán)63’也同 樣具有露出連接焊盤(pán)63’的表面的一部分的露出部63Α’，開(kāi)口部δ 3與露出部63Α’鄰接而 形成在基板11的第2面IlB上。該開(kāi)口部δ 3也與開(kāi)口部δ 2同樣，能夠通過(guò)基板11的 第1面IlA上的布線或偽布線進(jìn)行遮光。圖9示出發(fā)光部14發(fā)出的光的強(qiáng)度特性的一例。在圖9的例子中，具有520[nm] 波長(zhǎng)的光的強(qiáng)度示出最大值，利用該強(qiáng)度對(duì)具有其他波長(zhǎng)的光的強(qiáng)度進(jìn)行歸一化。并且，在 圖9的例子中，發(fā)光部14發(fā)出的光的波長(zhǎng)的范圍是470 [nm] 600[nm]。圖10示出通過(guò)涂敷有透光膜11-1的基板11的光的透射特性的一例。在圖10的 例子中，使用透射過(guò)基板11之前的光的強(qiáng)度和透射過(guò)基板11之后的光的強(qiáng)度，計(jì)算透射 率。在圖10的例子中，在活體窗口的下限即700[nm]以下的波長(zhǎng)區(qū)域中，具有525[nm]波 長(zhǎng)的光的透射率示出最大值。或者，在圖6的例子中，在活體窗口的下限即700[nm]以下的 波長(zhǎng)區(qū)域中，通過(guò)透光膜11-1的光的透射率最大的波長(zhǎng)例如進(jìn)入圖9的發(fā)光部14發(fā)出的光的強(qiáng)度最大的波長(zhǎng)的士 10 %以內(nèi)的范圍。這樣，優(yōu)選透光膜11-1選擇性地透射過(guò)發(fā)光部 14發(fā)出的光(例如圖I(A)的第1光Rl的反射光R1’、圖I(B)的第1光Rl)。由于透光膜 11-1的存在，能夠提高基板11的平坦性，并且，在某種程度上防止發(fā)光部14或受光部16的 效率的降低。另外，如圖10的例子所示，例如在可見(jiàn)光區(qū)域中，在具有525[nm]波長(zhǎng)的光的 透射率示出最大值(廣義為峰值)的情況下，透光膜11-1例如示出綠色。圖11示出本實(shí)施方式的活體信息檢測(cè)器的其他結(jié)構(gòu)例。如圖11所示，與圖7的 結(jié)構(gòu)例相比，活體信息檢測(cè)器能夠具有反射光的反射部92。另外，對(duì)圖11所示的與上述結(jié) 構(gòu)例相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略其說(shuō)明。在圖11的例子中，發(fā)光部14發(fā)出朝向被檢 查體(例如用戶)的被檢測(cè)部位0的第1光R1、和朝向與被檢測(cè)部位0不同的方向(反射 部92)的第2光R2。反射部92反射第2光R2并將其引導(dǎo)到被檢測(cè)部位0。受光部16接 受第1光Rl和第2光R2由被檢測(cè)部位0反射后的具有活體信息的光Rl’、R2’ (反射光)。 反射部18反射來(lái)自被檢測(cè)部位0的具有活體信息的光Rl’、R2’ (反射光)并將其引導(dǎo)到 受光部16。由于反射部92的存在，沒(méi)有直接到達(dá)被檢查體(用戶)的被檢測(cè)部位0的第2 光R2也到達(dá)被檢測(cè)部位0。換言之，經(jīng)由反射部92到達(dá)被檢測(cè)部位0的光量增加，發(fā)光部 14的效率提高。因此，活體信息檢測(cè)器的檢測(cè)精度(SN比)提高。另外，專利文獻(xiàn)1公開(kāi)了與反射部18對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)(專利文獻(xiàn)1的圖16的反射部 131)。具體而言，專利文獻(xiàn)1的圖16的受光部12經(jīng)由反射部131接受被檢測(cè)部位的反射 光。但是，專利文獻(xiàn)1沒(méi)有公開(kāi)與反射部92對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)。換言之，在本申請(qǐng)時(shí)，本領(lǐng)域技術(shù) 人員沒(méi)有認(rèn)識(shí)到提高專利文獻(xiàn)1的圖16的發(fā)光部11的效率。在圖11的例子中，偽布線65擴(kuò)張到反射部92與基板11之間。并且，偽布線65 例如經(jīng)由銀膏等的粘接劑(未圖示)與反射部92直接連接。這樣，由于偽布線65的存在， 能夠容易地將反射部92安裝在基板11上。圖12示出連接焊盤(pán)的周邊的其他配置例。圖12示出圖11的連接焊盤(pán)64’的周 邊的配置例。使用圖12的線段A-A’的剖面圖對(duì)應(yīng)于圖11。并且，對(duì)與上述結(jié)構(gòu)例相同的 結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略其說(shuō)明。如圖12所示，為了容易地將反射部92安裝在基板11 上，在平面圖中，偽布線65的面積比反射部92的面積大。換言之，在平面圖中，反射部92 全部與偽布線65重合，反射部92位于偽布線65的內(nèi)部。而且，在基板11的第2面IlB上 形成的偽布線65延伸到與圖8(A)所示的開(kāi)口部δ 1相對(duì)的區(qū)域，對(duì)開(kāi)口部δ 1進(jìn)行遮光。在圖12的例子中，在平面圖中，反射部92的外周為圓形，圓的直徑例如為直徑 200[ μ m] 11000[μπι]。另外，在平面圖中，反射部92的外周例如也可以為四邊形(狹義 為正方形)等的其他形狀。并且，在圖12的例子中，在平面圖中，發(fā)光部14的外周為四邊 形(狹義為正方形)，正方形的1邊例如為100 [μ m] 10000 [μ m]。另外，發(fā)光部14的外 周例如也可以為圓形等的其他形狀。反射部92自身由金屬形成，對(duì)其表面進(jìn)行鏡面加工，從而具有反射構(gòu)造(狹義為 鏡面反射構(gòu)造)。另外，反射部92例如也可以由樹(shù)脂形成，并對(duì)其表面進(jìn)行鏡面加工。具 體而言，例如準(zhǔn)備反射部92的基底金屬，然后，例如對(duì)其表面進(jìn)行電鍍。或者，例如將熱可 塑性樹(shù)脂填充在反射部92的模具(未圖示)中進(jìn)行成形，然后，例如對(duì)其表面蒸鍍金屬膜。 優(yōu)選反射部92的鏡面部具有較高的反射率，鏡面部的反射率例如為80% 90%以上。另 外，在圖12的例子中，與連接焊盤(pán)64’的露出部64A’鄰接地形成開(kāi)口部δ2，與連接焊盤(pán)63’的露出部63A’鄰接地形成開(kāi)口部δ 3。如圖8(A)所示，這些開(kāi)口部δ 2、δ 3能夠通過(guò) 基板11的第1面IlA上的連接部62’的擴(kuò)張區(qū)域進(jìn)行遮光。2.活體信息測(cè)定裝置圖13(A)、圖13(B)是具有圖1等的活體信息檢測(cè)器的活體信息測(cè)定裝置的外觀 例。如圖13(A)所示，例如，圖1的活體信息檢測(cè)器能夠還具有能夠?qū)⒒铙w信息檢測(cè)器安裝 在被檢查體(用戶)的腕部(狹義為手腕)上的腕帶150。在圖13(A)的例子中，活體信息 是脈搏數(shù)，例如示出“72”。并且，活體信息檢測(cè)器安裝在手表中，示出時(shí)刻(例如上午8時(shí) 15分)。并且，如圖13(B)所示，在手表的背蓋設(shè)有開(kāi)口部，例如在開(kāi)口部中露出圖1的保 護(hù)部19。在圖13(B)的例子中，反射部18和受光部16安裝在手表中。在圖13(B)的例子 中，省略了反射部92、發(fā)光部14、腕帶150等。圖14示出活體信息測(cè)定裝置的結(jié)構(gòu)例?；铙w信息測(cè)定裝置具有圖1等的活體信 息檢測(cè)器、以及根據(jù)在活體信息檢測(cè)器的受光部16中生成的受光信號(hào)來(lái)測(cè)定活體信息的 活體信息測(cè)定部。如圖14所示，活體信息檢測(cè)器能夠具有發(fā)光部14、受光部16以及發(fā)光部 14的控制電路161?；铙w信息檢測(cè)器能夠還具有受光部16的受光信號(hào)的放大電路162。并 且，活體信息測(cè)定部能夠具有對(duì)受光部16的受光信號(hào)進(jìn)行A/D轉(zhuǎn)換的A/D轉(zhuǎn)換電路163、 以及計(jì)算脈搏數(shù)的脈搏數(shù)計(jì)算電路164?；铙w信息測(cè)定部能夠還具有顯示脈搏數(shù)的顯示部 165?；铙w信息檢測(cè)器能夠具有加速度檢測(cè)部166，活體信息測(cè)定部能夠還具有對(duì)加 速度檢測(cè)部166的受光信號(hào)進(jìn)行A/D轉(zhuǎn)換的A/D轉(zhuǎn)換電路167、以及對(duì)數(shù)字信號(hào)進(jìn)行處理的 數(shù)字信號(hào)處理電路168?；铙w信息測(cè)定裝置的結(jié)構(gòu)例不限于圖14。圖14的脈搏數(shù)計(jì)算電 路164例如也可以是安裝了活體信息檢測(cè)器的電子設(shè)備的MPU(Micrc) Processing Unit)。圖14的控制電路161驅(qū)動(dòng)發(fā)光部14。控制電路161例如是恒流電路，經(jīng)由保護(hù)電 阻向發(fā)光部14供給給定電壓(例如6[V])，并使流向發(fā)光部14的電流保持為給定值(例如 2[mA])。另外，控制電路161能夠間歇地(例如以128[Hz])驅(qū)動(dòng)發(fā)光部14，以便降低消耗 電流。圖14的放大電路162能夠從在受光部16中生成的受光信號(hào)(電流)中去除直流 分量，僅提取交流分量，對(duì)該交流分量進(jìn)行放大，生成交流信號(hào)。放大電路162例如利用高 通濾波器來(lái)去除給定頻率以下的直流分量，例如利用運(yùn)算放大器來(lái)緩沖交流分量。另外，受 光信號(hào)包含脈動(dòng)分量和體動(dòng)分量。放大電路162或控制電路161能夠向受光部16供給用 于使受光部16例如以逆向偏置的方式進(jìn)行動(dòng)作的電源電壓。在間歇地驅(qū)動(dòng)發(fā)光部14的情 況下，也間歇地供給受光部16的電源，并且，也間歇地放大交流分量。另外，放大電路162 也可以在高通濾波器的前級(jí)具有對(duì)受光信號(hào)進(jìn)行放大的放大器。圖14的A/D轉(zhuǎn)換電路163將在放大電路162中生成的交流信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào) (第1數(shù)字信號(hào))。圖14的加速度檢測(cè)部166例如對(duì)3個(gè)軸(X軸、Y軸和Z軸)的重力加 速度進(jìn)行檢測(cè)，生成加速度信號(hào)。身體(腕部)的動(dòng)作即活體信息測(cè)定裝置的動(dòng)作被反映 在加速度信號(hào)中。圖14的A/D轉(zhuǎn)換電路167將在加速度檢測(cè)部166中生成的加速度信號(hào) 轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)(第2數(shù)字信號(hào))。圖14的數(shù)字信號(hào)處理電路168使用第2數(shù)字信號(hào)，去除或降低第1數(shù)字信號(hào)的體 動(dòng)分量。數(shù)字信號(hào)處理電路168例如能夠由HR濾波器等的自適應(yīng)濾波器構(gòu)成。數(shù)字信號(hào)處理電路168將第1數(shù)字信號(hào)和第2數(shù)字信號(hào)輸入到自適應(yīng)濾波器，生成去除或降低了噪 聲后的濾波器輸出信號(hào)。圖14的脈搏數(shù)計(jì)算電路164例如通過(guò)高速傅立葉轉(zhuǎn)換(廣義為擴(kuò)散傅立葉轉(zhuǎn)換) 對(duì)濾波器輸出信號(hào)進(jìn)行頻率解析。脈搏數(shù)計(jì)算電路164根據(jù)頻率解析的結(jié)果，確定表示脈 動(dòng)分量的頻率，計(jì)算脈搏數(shù)。另外，如上所述對(duì)本實(shí)施方式進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，但是，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠容易地 理解到能夠在實(shí)體上不脫離本發(fā)明的新穎事項(xiàng)和效果的前提下進(jìn)行多種變形。因此，這種 變形例全部包含在本發(fā)明的范圍中。例如，在說(shuō)明書(shū)或附圖中，至少一次與更加廣義或同義 的不同用語(yǔ)一起記載的用語(yǔ)，在說(shuō)明書(shū)或附圖的任何位置均能夠置換成該不同的用語(yǔ)。
權(quán)利要求
1.一種活體信息檢測(cè)器，其特征在于，該活體信息檢測(cè)器具有 發(fā)光部；受光部，其接受所述發(fā)光部發(fā)出的光被被檢查體的被檢測(cè)部位反射后的具有活體信息 的光；反射部，其反射所述發(fā)光部發(fā)出的光或所述具有活體信息的光；以及 基板，其具有第1面和與所述第1面相對(duì)的第2面，在所述第1面和所述第2面的任意 一方配置所述受光部，并且，在所述第1面和所述第2面的任意另一方配置所述發(fā)光部， 所述基板由對(duì)于所述發(fā)光部發(fā)出的光的波長(zhǎng)透明的材料構(gòu)成， 所述基板的所述第1面和所述第2面中的至少一方具有包含接至所述發(fā)光部和所 述受光部的至少一方的布線的遮光區(qū)域；以及對(duì)于所述發(fā)光部發(fā)出的光的波長(zhǎng)透明的透光 膜，其在平面圖中，至少配置在所述基板上除了所述遮光區(qū)域以外的區(qū)域中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的活體信息檢測(cè)器，其特征在于，所述布線在所述第1面和所述第2面的所述任意一方具有接至所述受光部的連接焊，在平面圖中，所述基板在所述第1面和所述第2面的所述任意一方具有與所述連接焊 盤(pán)鄰接且未配置所述透光膜的開(kāi)口部，在平面圖中，所述開(kāi)口部與所述基板的所述第1面和所述第2面的所述任意另一方側(cè) 的所述遮光區(qū)域重合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的活體信息檢測(cè)器，其特征在于，所述布線在所述第1面和所述第2面的所述任意另一方具有接至所述發(fā)光部的連接焊，在平面圖中，所述基板在所述第1面和所述第2面的所述任意另一方具有與所述連接 焊盤(pán)鄰接且未配置所述透光膜的開(kāi)口部，在平面圖中，所述開(kāi)口部與所述基板的所述第1面和所述第2面的所述任意一方側(cè)的 所述遮光區(qū)域重合。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的活體信息檢測(cè)器，其特征在于，在平面圖中與所述開(kāi)口部重合的、所述基板的所述第1面和所述第2面的所述任意另 一方側(cè)的所述遮光區(qū)域配置有偽布線。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的活體信息檢測(cè)器，其特征在于， 所述布線具有與所述受光部的電極連接的連接部，在平面圖中與所述開(kāi)口部重合的、所述基板的所述第1面和所述第2面的所述任意一 方側(cè)的所述遮光區(qū)域配置有所述連接部。
6.根據(jù)權(quán)利要求2 5中的任意一項(xiàng)所述的活體信息檢測(cè)器，其特征在于， 所述連接焊盤(pán)具有露出所述連接焊盤(pán)的表面的一部分的露出部，在平面圖中，所述開(kāi)口部與所述露出部鄰接， 所述連接焊盤(pán)的表面的另一部分被所述透光膜覆蓋。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的活體信息檢測(cè)器，其特征在于，所述布線具有接至所述發(fā)光部和所述受光部中的至少一方的連接焊盤(pán)， 所述連接焊盤(pán)具有露出所述連接焊盤(pán)的表面的一部分的露出部，所述連接焊盤(pán)的表面的周?chē)凰鐾腹饽じ采w。
8. 一種活體信息測(cè)定裝置，其特征在于，該活體信息測(cè)定裝置具有權(quán)利要求1 7中的任意一項(xiàng)所述的活體信息檢測(cè)器；以及活體信息測(cè)定部，其根據(jù)在所述受光部中生成的受光信號(hào)來(lái)測(cè)定所述活體信息，所述活體信息是脈搏數(shù)。
全文摘要
本發(fā)明提供能夠提高檢測(cè)精度的活體信息檢測(cè)器等?；铙w信息檢測(cè)器具有發(fā)光部(14)；受光部(16)，其接受發(fā)光部(14)發(fā)出的光(R1)被被檢查體的被檢測(cè)部位(O)反射后的具有活體信息的光(R1’)；反射部(18)，其反射發(fā)光部(14)發(fā)出的光(R1)或具有活體信息的光(R1’)；以及基板(11)，其具有第1面(11A)和與第1面相對(duì)的第2面(11B)，在第1面和第2面的任意一方配置受光部(16)，在其另一方配置發(fā)光部(14)?；?11)由對(duì)于發(fā)光部(14)發(fā)出的光(R1)的波長(zhǎng)透明的材料構(gòu)成，基板(11)的第1面和第2面中的至少一方具有包含布線(61)的遮光區(qū)域、和在平面圖中至少配置在除了遮光區(qū)域以外的區(qū)域中的透光膜(11-1)。
文檔編號(hào)A61B5/0245GK102133086SQ20111002197
公開(kāi)日2011年7月27日 申請(qǐng)日期2011年1月19日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月21日
發(fā)明者宮坂英男, 山下秀人, 飯島好隆 申請(qǐng)人:精工愛(ài)普生株式會(huì)社