專利名稱：內(nèi)置式植體基臺(tái)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種用于固定假牙的內(nèi)置式植體基臺(tái)，屬于口腔醫(yī)療器械 領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
目前用于種植覆蓋義齒的植體基臺(tái)，例如MK1為冠外固位，對(duì)咬合距離的 最低要求是6mm; ERA基臺(tái)為根上固位，呈倒"T"型，對(duì)咬合距離的最低要求 是3mm。上過(guò)兩種基臺(tái)因?yàn)椴荒苈袢胙例l中，這就限制了種植覆蓋義齒對(duì)于超 低咬合距離患者的應(yīng)用范圍。 發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種可以埋入牙齦中的內(nèi)置式植體基臺(tái)。
本實(shí)用新型的內(nèi)置式植體基臺(tái)，其呈"T"形狀，"T"形上部為同心式內(nèi) 圓和外圓構(gòu)成的雙環(huán)扣結(jié)構(gòu)，下部柱體為外螺紋螺釘。
使用時(shí)，內(nèi)置式植體基臺(tái)下部的螺釘與牙植入體連接，上部的雙環(huán)扣結(jié)構(gòu) 與假牙上的塑料環(huán)扣形成陰陽(yáng)扣鎖相連。由于內(nèi)置式植體基臺(tái)上部的雙環(huán)扣結(jié) 構(gòu)可以埋入牙齦中，其頂部可與牙齦表面平齊，甚至稍低于牙齦表面，從而極 大的降低了種植覆蓋義齒需要的咬合高度。
本實(shí)用新型的進(jìn)一步特征是，上部雙環(huán)扣結(jié)構(gòu)的表面有氮化鈦涂層，以增 加雙環(huán)扣結(jié)構(gòu)表面的硬度和耐磨性能，提高內(nèi)置式植體基臺(tái)的使用壽命。
本實(shí)用新型的有益效果是
內(nèi)置式植體基臺(tái)埋入牙齦中，其上部雙環(huán)扣結(jié)構(gòu)可以與牙齦表面平齊甚至 稍低，因此，降低了種植覆蓋義齒需要的咬合高度，克服了現(xiàn)有義齒植體基臺(tái) 應(yīng)用范圍受咬合高度限制的缺陷。

圖1是本實(shí)用新型的內(nèi)置式植體基臺(tái)的示意圖。
具體實(shí)施方式

參照?qǐng)D1，本實(shí)用新型的內(nèi)置式植體基臺(tái)，呈"T"形狀，"T"形上部為 同心式內(nèi)圓1和外圓2構(gòu)成的雙環(huán)扣結(jié)構(gòu)，下部柱體3為外螺紋螺釘。 進(jìn)一步技術(shù)特征是，上部雙環(huán)扣結(jié)構(gòu)的表面有氮化鈦涂層。
權(quán)利要求1.內(nèi)置式植體基臺(tái)，其特征是呈“T”形狀，“T”形上部為同心式內(nèi)圓(1)和外圓(2)構(gòu)成的雙環(huán)扣結(jié)構(gòu)，下部柱體(3)為外螺紋螺釘。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的內(nèi)置式植體基臺(tái)，其特征是上部雙環(huán)扣結(jié)構(gòu)的表面有氮化鈦涂層。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)的內(nèi)置式植體基臺(tái)，其呈“T”形狀，“T”形上部為同心式內(nèi)圓和外圓構(gòu)成的雙環(huán)扣結(jié)構(gòu)，下部柱體為外螺紋螺釘。內(nèi)置式植體基臺(tái)下部的螺釘與牙植入體連接，上部的雙環(huán)扣結(jié)構(gòu)與假牙上的塑料環(huán)扣形成陰陽(yáng)扣鎖相連。由于上部的雙環(huán)扣結(jié)構(gòu)可以埋入牙齦中，其頂部可與牙齦表面平齊，甚至稍低于牙齦表面，從而極大的降低了種植覆蓋義齒需要的咬合高度。較現(xiàn)有義齒植體基臺(tái)應(yīng)用范圍寬。
文檔編號(hào)A61C8/00GK201379662SQ20092011594
公開(kāi)日2010年1月13日 申請(qǐng)日期2009年3月19日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月19日
發(fā)明者耿建平 申請(qǐng)人:耿建平