專利名稱：具有污漬掩蔽特性的吸收制品的制作方法
具有污漬掩蔽特性的吸收制品發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明涉及如婦女衛(wèi)生巾的吸收制品。更具體地，本發(fā)明涉及改進(jìn)了液體處理性和污漬掩蔽(stain masking)性的衛(wèi)生巾。發(fā)明背景在個人護(hù)理產(chǎn)品如婦女衛(wèi)生巾中使用多孔膜是本領(lǐng)域中眾所周知的。這些 膜可以作為接觸身體的面層、作為液體處理層、或者作為個人護(hù)理產(chǎn)品的其他 組件使用。使用這些膜在婦女衛(wèi)生防護(hù)制品中作為接觸身體的面層時，通常已 經(jīng)發(fā)現(xiàn)，膜的開孔面積越大，就越能有效地將月經(jīng)液轉(zhuǎn)移至制品的下層(例如 轉(zhuǎn)移層、吸收芯)。可惜，還已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，膜的開孔面積越大，在將月經(jīng)液轉(zhuǎn)移 至制品的下層之后，就越不能有效地對吸收的月經(jīng)液進(jìn)行"污漬掩蔽"。也就 是說，膜的開孔面積越大，在制品吸收了月經(jīng)液之后，就越容易看見月經(jīng)液污 漬。本發(fā)明的目的是提供一種改進(jìn)了液體處理性的吸收制品。具體地，本發(fā)明 的目的是提供一種改進(jìn)了液體處理性，同時具有有效的污漬掩蔽特性的吸收制叩o發(fā)明概述考慮到以上內(nèi)容，本發(fā)明第一方面提供一種衛(wèi)生巾，該衛(wèi)生巾包括面對身 體的蓋層以及與所述蓋層相鄰的吸收系統(tǒng)，用于接受來自蓋層的液體，所述衛(wèi)生巾的掩蔽值(maskingvalue)小于115,000，平均液體滲透時間小于約45秒， 按照本文所述的測試方法，平均再潤濕(averagerewet)小于約0.05克。本發(fā)明第二方面提供一種衛(wèi)生巾，該衛(wèi)生巾包括蓋層和與所述蓋層相鄰的 吸收系統(tǒng)，用于接受自蓋層的液體，所述衛(wèi)生巾的平均掩蔽值小于約60,000， 平均液體滲透時間小于約45秒。本發(fā)明第三方面提供一種衛(wèi)生巾，該衛(wèi)生巾包括多孔膜蓋層和與所述蓋層 相鄰的吸收系統(tǒng)，用于接受自蓋層的液體，所述衛(wèi)生巾的平均掩蔽值小于約55,000，平均液體滲透時間小于約45秒。附圖簡述圖la是用于本發(fā)明的吸收制品的三維膜的示意圖。圖lb是圖la中所示的膜沿圖la中虛線1B的部分剖開透視圖。圖lc是圖la中所示的三維膜的放大顯微照片，顯示出其頂面。圖Id是圖lc中所示的三維膜的放大顯微照片，顯示出其底面。圖le是根據(jù)第二實(shí)施方式用于本發(fā)明的吸收制品的三維膜的示意圖。圖If是圖le中所示的膜沿圖le中虛線"If"的部分剖開透視圖。圖lg是圖le中所示的三維膜頂面的顯微照片。圖lh是圖lg中所示的三維膜底面的顯微照片。圖li是圖lg中所示的三維膜的一部分的放大顯微照片，這一部分對應(yīng)于圖le中用圓圈"If"圈出的膜的部分。圖lj是圖li中所示三維膜的這部分的顯微照片，顯示出其底面。 圖2是一種三維形貌的支承元件的示意圖，該元件可用于制造本發(fā)明的膜。 圖3是一種加工設(shè)備的示意圖，該設(shè)備對工件進(jìn)行激光雕刻，形成可用于制造本發(fā)明的吸收制品的膜的支承元件。圖4是用于圖3設(shè)備的計算機(jī)控制系統(tǒng)的示意圖。圖5是對工件進(jìn)行激光雕刻的文件的圖形表示，可制得適合于制造圖la-ld 中所示的多孔膜的三維形貌的支承元件。圖5a是圖5中所示文件的圖形表示，示出其放大部分。圖5b是對工件進(jìn)行激光雕刻的文件的圖形表示，可制得用于制造圖le-lj 中所示多孔膜的三維形貌的支承元件。圖5c是圖5b中所示文件的圖形表示的放大部分，示出圖5b中圓圈5c圈 出的文件部分。圖5d是圖5b中所示文件的圖形表示的放大部分，示出圖5b中圓圈5d圈 出的文件部分。圖5e是圖5d中所示的圖形表示的放大部分，示出圖5d中圓圈5e圈出的 文件部分。圖6是利用圖5的文件對工件進(jìn)行雕刻之后的工件的顯微照片。圖6a是利用圖5b-5e中所示的文件對工件進(jìn)行雕刻之后的工件的顯微照片。圖6b是圖6a所示的工件的放大部分，所述放大部分對應(yīng)于圖6a中圓圈 6b圈出的區(qū)域。圖7是用來使本發(fā)明的膜在膜形成設(shè)備上就位的支承元件的圖。 圖8是用于制造根據(jù)本發(fā)明的多孔膜的設(shè)備的示意圖。 圖9是圖8中圈出部分的示意圖。

圖10是表示本發(fā)明的吸收制品的污漬密度(stain intensity)的平均直方圖。圖ll是利用光柵掃描鉆機(jī)對工件進(jìn)行鉆孔的文件的圖形表示，制得用于制造多孔膜的三維形貌的支承元件。圖12是根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施方式的吸收制品的截面圖。圖13a和13b示出第二吸收層的三層和四層的實(shí)施方式，該吸收層可用于本發(fā)明的衛(wèi)生巾。發(fā)明詳述本發(fā)明涉及一種吸收制品，如婦女衛(wèi)生巾，這種吸收制品提高了液體處理 能力，同時具有有效的污漬掩蔽特性。參見圖12，該圖示出本發(fā)明的第一實(shí)施方式的衛(wèi)生巾800。該衛(wèi)生巾800 包括蓋層842、第一吸收層846、第二吸收層848和阻擋層850。在下面將分 別進(jìn)一步詳細(xì)描述這些層。蓋層蓋層842優(yōu)選是多孔膜材料，更優(yōu)選是下面參見圖la-lj進(jìn)一步詳細(xì)描述 的類型的多孔膜材料?，F(xiàn)參見圖la-ld，這些圖中描繪了根據(jù)本發(fā)明一個實(shí)施方式的多孔膜10。 膜IO包括多個重復(fù)的互相連接的構(gòu)架12。在圖la-ld所示的實(shí)施方式中，每 個構(gòu)架12都包括相對的末端區(qū)域12a和12b以及相對的側(cè)壁12c和12d。末端 區(qū)域12a和12b中的每一個都彼此隔開，相對的側(cè)壁12c和12d中的每一個也 都彼此隔開。在圖la-ld所示的特定實(shí)施方式中，每個構(gòu)架12都與相鄰的構(gòu) 架12互相連接。更具體地說，如圖所示，每個構(gòu)架12都與直接相鄰的構(gòu)架12 "共有"共同的側(cè)壁12c、 12d。同樣，每個構(gòu)架12都與直接相鄰的構(gòu)架12共有共同的末端區(qū)域12a、 12b。多孔膜IO進(jìn)一步包括第一和第二交叉元件14a 和14b。如圖所示，交叉元件14b從第一側(cè)壁12c延伸至構(gòu)架12的相對的側(cè)壁 12d。同樣，交叉元件14a從末端區(qū)域12a延伸至相對的末端區(qū)域12b。在圖 la-le中所示的本發(fā)明實(shí)施方式中，交叉元件14a和14b在所示構(gòu)架的中心處 相交。另外，在圖la-le中所示的本發(fā)明實(shí)施方式中，交叉元件14a和14b彼 此之間以正交方式排列。雖然圖la-ld中所示的本發(fā)明實(shí)施方式顯示多孔膜10具有兩個交叉元件 14a和14b，但是也可以只使用單個的交叉元件，只要該交叉元件延伸通過構(gòu) 架12限定的開孔區(qū)域即可。而且，雖然顯示構(gòu)架12的形狀一般為六邊形，但 是，構(gòu)架12也可以采用其他形狀。交叉元件14a和14b中的每一個優(yōu)選具有 約4. 0-24. 0密耳(1密耳=0. 001英寸)的寬度"a"(參見圖lb)。交叉元件14a 和14b中的每一個優(yōu)選具有約30. 0-150. 0密耳的長度"b"(參見圖lb)。膜 10可以任選地包括多個凸塊11或類似元件，這些凸塊或類似元件排列在膜的 表面上，最好如圖la中所示。膜10進(jìn)一步包括多個孔16。每個孔16都以構(gòu)架12的至少一部分以及交 叉元件14a和14b中一個元件的至少一部分為界?，F(xiàn)參見圖lb，該圖是圖1中 所示膜10沿圖la的虛線1B的部分剖開透視圖。每個孔都以交叉元件14a和 14b中每個元件的至少一部分以及構(gòu)架12的一部分為界。更具體地說，最好如 圖lb中所示，每個孔16都以構(gòu)架12的各側(cè)壁12c、 12d的對應(yīng)內(nèi)壁22、 24 為界。每個孔16進(jìn)一步以交叉元件14b的對應(yīng)內(nèi)壁26或28、以及交叉元件 14a的對應(yīng)內(nèi)壁30、 32為界。最后，每個孔16都以對應(yīng)末端區(qū)域12a、 12b的 各內(nèi)壁34、 36為界。再參見圖lb，膜10—般包括在假想平面23中的第一通常平坦頂面18、 以及在假想平面25中的相對的第二通常平坦底面21。側(cè)壁12c和12d的頂面 38、以及末端區(qū)域12a和12b的頂面40都與平面23共面。但是，交叉元件14a 和14b的頂面42和44都相對于平面23凹進(jìn)。更具體地說，交叉元件14a和 14b的頂面42和44都位于平面27，平面27位于平面23和25的下方。優(yōu)選 交叉元件14a和14b的頂面42和44相對于膜的頂面18凹進(jìn)(即，相對于平面 23凹進(jìn))，凹進(jìn)深度約為3.0-17. O密耳。交叉元件14a和14b的頂面42和44 優(yōu)選基本平行于假想平面23和25。側(cè)壁12c和12d的內(nèi)壁22、 24，交叉元件14a的內(nèi)壁26、 28，交叉元件14b的內(nèi)壁30、 32，以及末端區(qū)域12a、 12b的內(nèi)壁34、 36， 一起限定孔16， 這些內(nèi)壁中的每一個都在平面25下方延伸，使得每個孔16的底部開孔都位于 膜的底部平坦表面21的下方(g卩，位于假想平面25下方)。更具體地說，側(cè)壁 12c和12d的內(nèi)壁22、 24，交叉元件14a的內(nèi)壁26、 28，交叉元件14b的內(nèi)壁 30、 32，以及末端區(qū)域12a、 12b的內(nèi)壁34、 36，都向下延伸，使得每個孔的 底部開孔都位于假想平面29，假想平面29位于假想平面23、 25和27的下方。 要指出，假想平面23、 25、 27和29都彼此基本平行。由于交叉元件14a和14b的頂面42、 44相對于膜10的頂面18凹進(jìn)(即， 相對于假想平面23凹進(jìn))，因此，第一較大孔有效限定為從膜10的頂面18至 交叉元件的頂面42、 44。交叉元件14a和14b將該較大孔分成4個較小孔，這 些較小孔從交叉元件14a和14b的頂面42、 44 一直至每個孔16的底部開孔與 較大孔連通。換種方式說，在每個構(gòu)架元件12之內(nèi)，較大孔限定為從平面23 至平面27，多個較小孔限定為從平面27至29，這些較小孔與較大孔連通。在 圖la-ld中所示的實(shí)施方式中，限定為從平面27至29的每個較小孔的面積都 小于限定為從平面23至27的較大孔的總面積的四分之一。在采用單個交叉元 件的實(shí)施方式中，由交叉元件限定的每個較小孔的面積都小于較大孔的總面積 的二分之一。為了簡便和清楚起見，對讀者提出以下說明附圖中把上述"較 小"和"較大"孔都用附圖標(biāo)號16來表示。參見圖le-lj，這些圖描繪了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施方式的多孔膜100。在 圖le-lj中，使用與圖la-ld中相同或類似的附圖標(biāo)號表示與圖la-ld中以及 與上述內(nèi)容相同和/或?qū)?yīng)的結(jié)構(gòu)。最好如圖le和lg中所示，膜IOO包括至少第一部分102和至少第二部分 104。第一部分102由多個重復(fù)的互相連接的構(gòu)架12限定，該構(gòu)架12限定了 如上所述的多個孔16。在圖le-lj中所示的實(shí)施方式中，每個構(gòu)架12都包括 相對的末端區(qū)域12a和12b，以及相對的側(cè)壁12c和12d。多孔膜100還包括 第一和第二交叉元件14a和14b。交叉元件14a和14b優(yōu)選具有約4. 0-24. 0密 耳的寬度"a"。交叉元件14a和14b中的每一個都優(yōu)選具有約30.0-150. 0密 耳的長度"b"。優(yōu)選交叉元件14a和14b的頂面42和44相對于膜的頂面18 凹進(jìn)(即，相對于平面23凹進(jìn))，凹進(jìn)深度約為3.0-17. O密耳。參見圖lf，膜100—般包括在假想平面23中的基本平坦頂面18、以及在 假想平面25中的相對的基本平坦的第二底面21。末端區(qū)域12a和12b，以及側(cè)壁12c和12d中交叉元件14b與側(cè)壁12c和12d相交處的部分12c'和12d，， 以一定方式形成，使得在這些區(qū)域中，膜的頂面的至少一部分相對于假想平面 23凹進(jìn)。在圖If中所示的膜100的具體實(shí)施方式
中，末端區(qū)域12a和12b， 以及側(cè)壁12c和12d中交叉元件14b與側(cè)壁12c和12d相交處的部分12c'和 12d'，具有基本為"w"的形狀，或者具有正弦曲線形狀，限定一對低洼lll和 頂峰113的橫截面排列在低洼111之間。如圖所示，低洼111區(qū)域中膜115的 頂面位于平面35中，平面35相對于假想平面23凹進(jìn)。具體地說，平面35位 于平面23和平面25之間。優(yōu)選低洼111在相對于平面23的最凹進(jìn)點(diǎn)的深度 約為2-5密耳(相對于平面23)。
雖然在具體實(shí)施方式
100中，末端區(qū)域12a和12b，以及側(cè)壁12c和12d 在交叉元件14b與側(cè)壁12c和12d相交處的部分12c'和12d'，形成的橫斷 面基本為形狀，但是，形成的這些區(qū)域也可以具有其他形狀和構(gòu)造，其 中，交叉元件14a和14b與構(gòu)架12相交區(qū)域中的膜的至少部分頂面相對于平 面23凹進(jìn)。通過在交叉元件14a與末端區(qū)域12a和12b相交處的區(qū)域中以及 交叉元件14b與側(cè)壁12c和12d相交處的區(qū)域中形成膜100，使該膜的至少一 部分相對于平面23凹進(jìn)，從而提高膜的感知軟度。雖然在圖lf中所示的本發(fā) 明具體實(shí)施方式
中，膜100在末端區(qū)域12a和12b中以及在側(cè)壁12c和12d的 部分12c'和12d'中形成，使得膜表面的至少一部分相對于平面23凹進(jìn)，但 是，也可以這樣構(gòu)制膜，使得只有這些區(qū)域中的一個區(qū)域相對于平面23凹進(jìn)。 例如，只有部分12c'和12d'凹進(jìn)，或者只有末端區(qū)域12a和12b凹進(jìn)。
最好如圖le中所示，多孔膜100a的第二部分104包括第二多個孔106， 可以在視覺上將第二多個孔106與第一多個孔16區(qū)分開來。本文使用術(shù)語"可 以在視覺上區(qū)分開來"表示第二多個孔106中每一個的形狀和/或尺寸都與第 一多個孔16中每一個的形狀和/或尺寸明顯不同，使得用肉眼觀察時能夠?qū)⒌?二多個孔106中的每一個與第一多個孔16中的每一個區(qū)分開來。在圖le-lj 所示的本發(fā)明的一個實(shí)施方式中，第二多個孔106中每一個通常都是橢圓形， 具有長軸"y"和短軸"z"。長軸"y"和短軸"z"中每一個的長度優(yōu)選都約 為5-150密耳。在一個具體的實(shí)施方式中，長軸長度約為43密耳，短軸長度 約為16密耳。在本發(fā)明的一個優(yōu)選實(shí)施方式中，第二多個孔106中每一個都 以約為10-100密耳的距離"n"彼此隔開，所述距離沿水平線從一個孔的中心 至水平相鄰孔的中心測量，第二多個孔106中每一個都以約為10-70密耳的距離"0"與垂直相鄰的孔106隔開，所述距離沿連接每個孔中心的斜線從一個
孔的中心至垂直相鄰的孔的中心測量。在本發(fā)明的具體實(shí)施方式
中，距離"n" 為40密耳，距離"o"為34密耳。
第二多個孔106可以排列成圖案，確定一種圖樣、標(biāo)記、文本等，或者它 們的組合。例如，在圖le和lg中所示的本發(fā)明實(shí)施方式中，第二多個孔106 排列確定了一種蝴蝶圖樣。雖然在參照圖le-lj所示和所述的本發(fā)明具體實(shí)施 方式中描繪了一種蝴蝶圖樣，但是可以采用任何其他數(shù)量的圖樣。
圖le-lj中所示的膜100還具有邊界108，該邊界108將第一多個孔16與 第二多個孔106隔開。優(yōu)選該邊界的形狀和尺寸使得用肉眼觀察時，能夠?qū)⒃?邊界與第一多個孔16中的每一個以及第二多個孔106中的每一個區(qū)分開來。 優(yōu)選邊界108的寬度"x"(參見圖le)約為25-90密耳。在本發(fā)明的一個優(yōu)選 實(shí)施方式中，邊界108沒有穿孔。位于邊界108限定的區(qū)域中的膜表面109優(yōu) 選相對于膜的基本平坦的頂面18凹進(jìn)。換言之，邊界108之內(nèi)限定的膜表面 109相對于平面23凹進(jìn)。優(yōu)選膜表面109相對于平面23凹進(jìn)的量約為2-5密 耳。限定了邊界108的膜表面本身優(yōu)選位于平面23之內(nèi)。
優(yōu)選邊界108與第二多個孔106 —起在視覺上確定了圖樣、標(biāo)記、文本等。 例如，在所示膜100的實(shí)施方式中，邊界與第二多個孔106—起確定了蝴蝶圖 樣。
雖然為了簡便起見在圖le中顯示了單個蝴蝶圖樣，但是，膜表面上可以 間隔排列多個這樣的元件。例如，在一個特定實(shí)施方式中，膜材料上可以間隔 排列多個這樣的蝴蝶圖樣。另外，可以采用不同尺寸的圖樣，例如在一個特定 實(shí)施方式中，同一膜上可以采用多個較大的蝴蝶圖樣以及多個較小的蝴蝶圖樣。
根據(jù)本發(fā)明的多孔膜優(yōu)選具有約為20-30%的開孔面積。通過使用圖像分析 來測量穿孔和未穿孔的或"陸地"的面積，可以確定開孔面積。從本質(zhì)上說， 圖像分析將來自光學(xué)顯微鏡的光學(xué)圖像轉(zhuǎn)化成適合于處理的電子信號。使用電 子束逐行掃描圖像。對每一行進(jìn)行掃描時，輸出信號隨著照度發(fā)生變化。白色 區(qū)域產(chǎn)生較高的電壓，黑色區(qū)域產(chǎn)生較低的電壓。產(chǎn)生經(jīng)過穿孔形成的膜的圖 像，在該圖中，孔為白色，而熱塑性材料的實(shí)心區(qū)域?yàn)楦鞣N深淺程度的灰色。
實(shí)心區(qū)域越致密，就產(chǎn)生顏色越深的灰色區(qū)域。將測量的每一行圖像都分 成采樣點(diǎn)或像素?？梢允褂靡韵略O(shè)備進(jìn)行上述分析QuantiraetQ520圖像分析儀(軟件版本5. 02B，帶灰色存儲選項(xiàng))，由LEICA/Cambridge Instruments Ltd. 出售，以上圖的分析儀與Olympus SZH顯微鏡聯(lián)用，該顯微鏡帶透射光底座、 l.O倍平面物鏡和2.50倍目鏡?？梢杂肈AGE MTI CCD72攝象機(jī)產(chǎn)生圖像。
將待分析的每種材料的代表性試片置于顯微鏡載物臺上，以設(shè)定為10倍 的顯微鏡變焦在視頻屏幕上清晰成像。通過對代表性區(qū)域的實(shí)地測量，確定開 孔面積。Quantimet程序輸出報告每種樣品的平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差。
用于制造根據(jù)本發(fā)明的三維多孔膜的合適原料膜是熱塑性聚合物材料的 連續(xù)不間斷的薄膜。該原料膜可以滲透蒸汽或者不能滲透蒸汽；可以是經(jīng)過壓 紋處理或者未經(jīng)壓紋處理的；其一個或兩個主表面可以經(jīng)過電暈放電處理或者 未經(jīng)這種電暈放電處理；可以在膜形成之后通過在膜上涂布、噴涂或印刷表面 活性劑而用表面活性劑對該膜進(jìn)行處理，或者可以將表面活性劑作為摻合物在 膜形成之前加入熱塑性聚合物材料中。原料膜可以包括任何熱塑性聚合物材 料，其包括但不限于聚烯烴，例如高密度聚乙烯、線型低密度聚乙烯、低密 度聚乙烯、聚丙烯；烯烴和乙烯基單體的共聚物，例如乙烯和乙酸乙烯酯或氯 乙烯的共聚物；聚酰胺；聚酯；聚乙烯醇；以及烯烴和丙烯酸酯單體的共聚物， 例如乙烯和丙烯酸乙酯的共聚物以及乙烯甲基丙烯酸酯 (ethylenemethacrylate)的共聚物。還可以使用包含兩種或更多種這些聚合物 材料的原料膜。待穿孔的原料膜在加工方向(MD)和橫向(CD)上的伸長率應(yīng)當(dāng)至 少為100%，伸長率根據(jù)ASTM測試第D-882號、在夾頭速度為50英寸/分鐘(127 厘米/分鐘)的Instron測試設(shè)備上進(jìn)行測定。原料膜的厚度優(yōu)選是均勻的，可 以約為0. 5-5密耳或0. 0005-0. 005英寸(0. 0013-0. 076厘米)。可以使用共擠 塑薄膜，還可以使用經(jīng)過改性的膜，例如用表面活性劑進(jìn)行了處理?？梢酝ㄟ^ 任何已知的技術(shù)(例如澆注、擠塑或吹塑)制造原料膜。
根據(jù)本發(fā)明對膜進(jìn)行穿孔的方法包括將膜置于有圖案的支承元件的表面 上。對支承元件上的膜施加高流體壓差。流體(可以是液體或氣體)的壓差導(dǎo)致 膜呈現(xiàn)有圖案的支承元件的表面圖案。如果有圖案的支承元件中具有孔，則覆 蓋該孔的膜部分會被流體壓差擊穿，形成多孔膜。James等的美國專利5827597 中詳細(xì)描述了一種形成多孔膜的方法，該專利通過參考結(jié)合于此。
這樣的三維多孔膜優(yōu)選通過以下步驟形成將熱塑性膜置于多孔的支承元 件的表面上，所述支承元件具有對應(yīng)于需要的最終膜形狀的圖案；將一股熱空 氣流對準(zhǔn)該膜，使其溫度升高并軟化；然后對該膜施加真空，使其與支承元件的表面形狀相符；使位于支承元件的孔上的膜部分進(jìn)一步伸長，直到這些部分 被擊穿，在膜中形成孔。
用于制造這些三維多孔膜的一種合適的多孔的支承元件是通過對工件進(jìn) 行激光雕刻而制造的三維形貌的支承元件。經(jīng)過激光雕刻形成三維形貌的支承 元件的示范性工件的示意圖示于圖2。
工件102包括薄的管狀圓柱體110。工件102具有未經(jīng)加工的表面區(qū)域111 和經(jīng)過激光雕刻的中央部分112。用于制造本發(fā)明的支承元件的優(yōu)選工件是乙 縮醛薄壁無縫管，該管己經(jīng)解除了所有殘余內(nèi)應(yīng)力。工件的壁厚為l-8毫米， 更優(yōu)選為2. 5-6. 5毫米。用于形成支承元件的示范性工件的直徑為1-6英尺， 長度為2-16英尺。但是，這些尺寸可以根據(jù)設(shè)計進(jìn)行選擇。工件可以采用其 他形狀和材料組成，例如丙烯酸類、氨基甲酸酯類、聚酯、高分子量聚乙烯、 以及可以用激光束加工的其他聚合物。
現(xiàn)參見圖3，該圖顯示了用于對支承元件進(jìn)行激光雕刻的設(shè)備的示意圖。 將原料毛坯管狀工件102固定在合適的輥軸或心軸121上，以圓柱形將其固定， 使得該工件能夠圍繞其縱軸在軸承122中旋轉(zhuǎn)。提供旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器123，使心軸 121以受控的速率旋轉(zhuǎn)。連接旋轉(zhuǎn)脈沖發(fā)生器124，對心軸121的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行監(jiān) 控，因此在所有時刻都能了解其準(zhǔn)確的徑向位置。
一根或多根導(dǎo)軌125平行地固定在心軸121最大旋轉(zhuǎn)直徑的外側(cè)，使得滑 動架126能夠沿心軸121的整個長度來回移動，同時保持對工件102的頂面103 的持續(xù)清除?；瑒蛹茯?qū)動器133沿著導(dǎo)軌125移動滑動架，同時滑動架脈沖發(fā) 生器134記錄滑動架相對于工件102的橫向位置。聚焦平臺127固定在滑動架 上。聚焦平臺127固定在聚焦導(dǎo)軌128中。聚焦平臺127能夠以與滑動架126 的運(yùn)動方向正交的方向運(yùn)動，提供相對于頂面103使透鏡129聚焦的一種方法。 提供聚焦驅(qū)動器132來定位聚焦平臺127，使透鏡129聚焦。
透鏡129固定于聚焦平臺127，透鏡129固定在噴嘴130中。噴嘴130具 有將加壓氣體引入噴嘴130中對透鏡129進(jìn)行冷卻并保持其清潔的部件131。 James等的美國專利5756962中描述了用于這個目的的優(yōu)選噴嘴130，該專利 通過參考結(jié)合于此。
最終彎曲鏡135也固定在滑動架126上，彎曲鏡135將激光束136引向聚 焦透鏡129。激光器137位于遠(yuǎn)端，具有可選的激光束彎曲鏡138，用于將激 光束引向最終彎曲鏡135。雖然可以將激光器137直接固定在滑動架126上并且不使用激光束彎曲鏡，但是空間限制和激光器的配套設(shè)施連接使得將激光器 固定在遠(yuǎn)端的做法是最優(yōu)選的。
激光器137通電時，發(fā)射出的激光束136被第一激光束彎曲鏡138反射， 然后被最終激光束彎曲鏡135反射，引向透鏡129。對激光束136的路徑進(jìn)行 布置，使得如果移開透鏡129，則激光束會通過心軸121的縱向中心線。當(dāng)透 鏡129就位時，激光束可以在頂面103上方、下方、之處或附近聚焦。
雖然該設(shè)備可以使用多種激光器，但是優(yōu)選的激光器是高流量C02激光器， 這種激光器能夠產(chǎn)生額定值高達(dá)2500瓦的激光束。但是，也可以使用額定值 50瓦的低流量C(V激光器。
圖4是圖3的激光雕刻設(shè)備的控制系統(tǒng)的示意圖。在激光雕刻設(shè)備工作的 過程中，關(guān)于焦點(diǎn)位置、旋轉(zhuǎn)速度和來回移動速度的控制變量從主計算機(jī)142 通過連接144傳送至驅(qū)動計算機(jī)140。驅(qū)動計算機(jī)140通過聚焦平臺驅(qū)動器132 控制聚焦位置。驅(qū)動計算機(jī)140通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器123和旋轉(zhuǎn)脈沖發(fā)生器124控 制工件102的旋轉(zhuǎn)速度。驅(qū)動計算機(jī)140通過滑動架驅(qū)動器133和滑動架脈沖 發(fā)生器134控制滑動架126的來回移動速度。驅(qū)動計算機(jī)140還向主計算機(jī)142 報告驅(qū)動器狀態(tài)和可能的錯誤。該系統(tǒng)提供正的位置控制，并且實(shí)際上將工件 102的表面分成小區(qū)域(稱為像素)，每個像素都由固定數(shù)量的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器脈沖 和固定數(shù)量的來回移動驅(qū)動器脈沖組成。主計算機(jī)142還通過連接143控制激 光器137。
可以采用多種方法制造經(jīng)過激光雕刻的三維形貌的支承元件。制造這種支 承元件的一種方法結(jié)合了對工件表面進(jìn)行的激光鉆孔和激光銑削。
對工件進(jìn)行激光鉆孔的方法包括沖擊鉆孔、對準(zhǔn)飛輪打激光 (fire-on-the-Hy)鉆孔和光柵掃描鉆孔。
優(yōu)選方法是光柵掃描鉆孔。在該方法中，將圖案縮小為矩形重復(fù)單元141， 該單元的一個實(shí)例如圖11中所示。該重復(fù)單元包含形成要求圖案所需要的所 有信息。當(dāng)象瓦片那樣使用重復(fù)單元時，同時將它們首尾相連和并列放置，就 形成了較大的要求圖案。
重復(fù)單元141進(jìn)一步分為較小的矩形單位格子或"像素"142。雖然通常 是正方形的，但是為了達(dá)到一些目的，使用非等比例的像素是更方便的。像素 本身沒有尺寸，在加工過程中設(shè)定像素的實(shí)際尺寸，即，像素的寬度145和長 度146只在實(shí)際鉆孔操作的過程中設(shè)定。在鉆孔過程中，將像素的長度設(shè)定為對應(yīng)于來自滑動架脈沖發(fā)生器134的脈沖選定數(shù)量的尺寸。類似地，將像素的寬度設(shè)定為對應(yīng)于來自旋轉(zhuǎn)脈沖發(fā)生器124的脈沖數(shù)量的尺寸。因此，為了方 便說明，在圖5a中將像素表示為正方形；但是，并不要求像素是正方形的， 只要像素是矩形的即可。每列像素代表工件通過激光器聚焦位置的一次操作。按照要求重復(fù)該列多 次，從而到達(dá)工件102的全部范圍。白色像素代表對激光器的"關(guān)"指令，每 個黑色像素代表對激光器的"開"指令。這種結(jié)果是由l和0組成的簡單二進(jìn) 制文件，其中，l或白色是激光器關(guān)閉的指令，O或黒色是激光器開啟的指令。參見圖4，該圖表示由主計算機(jī)142通過連接143傳送給激光器137的雕 刻文件的內(nèi)容，該文件以二進(jìn)制形式傳送，其中，1表示關(guān)，0表示開。通過 變化各指令之間的時間，調(diào)節(jié)指令的持續(xù)時間，從而與像素的尺寸相符。各列 文件完成之后，再次處理或重復(fù)該列，直到整個范圍完成。執(zhí)行一列指令時， 來回移動驅(qū)動器略微移動。對來回移動速度進(jìn)行設(shè)定，使得在周邊雕刻完成之 后，來回移動驅(qū)動器使聚焦透鏡移動一列像素寬度的距離，對下一列像素進(jìn)行 加工。持續(xù)該步驟直到到達(dá)文件末尾，在軸向維度上再次重復(fù)該文件，直到到 達(dá)整個要求的寬度。在該方法中，每一次操作都在材料中產(chǎn)生許多狹窄切口而非大孔。由于這 些切口都精確地并排對齊成一直線并且稍微重疊，所以累積效果是孔。通過激光調(diào)制來制造激光雕刻的三維形貌的支承元件是很優(yōu)選的方法。通 過在逐個像素基礎(chǔ)上逐漸變化激光功率進(jìn)行激光調(diào)制。在激光調(diào)制中，用逐漸 調(diào)節(jié)激光調(diào)制文件的每個獨(dú)立像素的激光功率的指令來代替光柵掃描鉆孔的 簡單開關(guān)指令。以這種方式，可以用對工件的單次操作使工件形成三維結(jié)構(gòu)。與制造三維形貌的支承元件的其他方法相比，激光調(diào)制具有一些優(yōu)點(diǎn)。激 光調(diào)制產(chǎn)生的單件無縫支承元件上沒有因?yàn)榇嬖诮涌p而造成的圖案不匹配。采 用激光調(diào)制，通過單次操作就能完成支承元件，而無須多次操作，因此提高了 效率和降低了成本。激光調(diào)制消除了關(guān)于圖案對齊的問題，這些問題在多步驟順序操作中會出現(xiàn)。激光調(diào)制還便于產(chǎn)生在較長距離內(nèi)具有復(fù)雜幾何形狀的形 貌特征。通過變化對激光器的指令，可以精確控制特征的深度和形狀，并且可 以形成在橫截面上連續(xù)變化的特征。而且，進(jìn)行激光雕刻時，可以保持孔彼此 之間的固定定位。再參見圖4，在激光調(diào)制過程中，主計算機(jī)142可以向激光器137傳送不同于簡單"開"或"關(guān)"格式的指令。例如，可以用8比特(字節(jié))格式代替簡 單的二進(jìn)制文件，這便于激光器發(fā)出的功率可以在256個可能水平上變化。使用字節(jié)格式時，指令"11111111"命令激光器關(guān)停，"00000000"命令激光器 發(fā)出全部功率，"10000000"之類的指令命令激光器發(fā)出全部可用激光功率的 一半?？梢酝ㄟ^許多方式產(chǎn)生激光調(diào)制文件。 一種這樣的方法是使用256色灰度 水平的計算機(jī)圖像以圖形法來構(gòu)建文件。在這種灰度圖像中，黑色可以代表全 部功率，白色可以代表沒有功率，其間各種深淺水平的灰色代表中間的功率水 平?？梢允褂迷S多計算機(jī)圖形程序使這種激光雕刻文件形象化或者產(chǎn)生這種激 光雕刻文件。利用這種文件，對激光器發(fā)出的功率在逐個像素基礎(chǔ)上進(jìn)行調(diào)制， 從而可以直接雕刻三維形貌的支承元件。雖然本文描述了 8比特字節(jié)格式，但 是，還可以換用如4比特、16比特、24比特或其他格式的其他水平。用于激光雕刻的激光調(diào)制系統(tǒng)中的合適激光器是高流量C02激光器，其功 率輸出為2500瓦，但是也可以使用較低功率輸出的激光器。主要需要考慮的 問題是，激光器必須能夠盡可能快地轉(zhuǎn)換功率水平。優(yōu)選的轉(zhuǎn)換速率至少為10 千赫，更優(yōu)選的轉(zhuǎn)換速率為20千赫。需要有高能量轉(zhuǎn)換速率，才能在每一秒 內(nèi)加工盡可能多的像素。圖5是激光調(diào)制文件的圖形表示，其包括重復(fù)單元141a，用于形成一種支 承元件，可以使用該支承元件形成圖la-le中所示的多孔膜。圖5a是圖5中 所示激光調(diào)制文件的放大部分。圖5b是激光調(diào)制文件的圖形表示，其包括重復(fù)單元141b，用于形成一種 支承元件，可以使用該支承元件形成圖le-lj中所示的多孔膜。圖5c是圖5b 中所示激光調(diào)制文件的放大部分，對應(yīng)于圖5b中圓圈"5c"圈出的部分文件。 圖5d是圖5b中所示激光調(diào)制文件的放大部分，對應(yīng)于圖5b中圓圈"5d"圈 出的部分文件。圖5e是圖5b中所示激光調(diào)制文件的放大部分，對應(yīng)于圖5d 中圓圈"5e"圈出的部分文件。在圖5-5e中，黑色區(qū)域154a表示命令激光器發(fā)出全部功率、從而在支承 元件中形成孔的像素，該孔對應(yīng)于圖la-ld中所示三維多孔膜10中的孔16。 淺灰區(qū)域155表示激光器接受施加非常低水平的功率的指令從而使支承元件的 表面基本不發(fā)生變化的像素。支承元件的這些區(qū)域?qū)?yīng)于圖la中所示的突出 部分11。圖5-5e中所示的其他區(qū)域(這些區(qū)域以各種水平的灰色表示)代表對應(yīng)水平的激光功率并且分別對應(yīng)于圖la-ld和圖le-lj中所示膜10和100的 各種特征。例如，區(qū)域157和159對應(yīng)于膜10和膜100的交叉元件14a和14b。圖6是使用圖5中所示的文件對支承元件進(jìn)行雕刻之后，支承元件的一部 分161的顯微照片。圖6中所示支承元件的這個部分上的圖案在支承元件的表 面上重復(fù)，從而形成圖la-ld中所示膜10的重復(fù)圖案。圖6a是使用圖5中所示的文件對支承元件進(jìn)行雕刻之后，支承元件的一 部分162的顯微照片。圖6a中所示支承元件的這個部分上的圖案在支承元件 的表面上重復(fù)，從而形成具有圖le-lj中所示種類的重復(fù)蝴蝶圖案的膜。圖6b 是圖6a中所示支承元件的放大部分，其對應(yīng)于圖6a中用圓圈"6b"圈出的那 部分支承元件。對工件的激光雕刻完成之后，可以將工件組裝到圖7中所示的 結(jié)構(gòu)中，作為支承元件使用。在具有激光雕刻區(qū)域237的工件236內(nèi)部裝配兩 個末端鐘形物235。這兩個末端鐘形物可以是收縮配合的、壓入配合的、通過 如圖所示窄帶238和螺絲239之類的機(jī)械方式固定，或者通過其他機(jī)械方式固 定。末端鐘形物提供了保持工件為圓形、驅(qū)動完成的組件、以及將完成的結(jié)構(gòu) 固定在穿孔設(shè)備中的一種方法。用于制造這種三維多孔膜的一種優(yōu)選設(shè)備如圖8所示。如圖所示，支承元件是可轉(zhuǎn)動的鼓筒753。在該特定設(shè)備中，鼓筒以逆時針方向旋轉(zhuǎn)。熱空氣噴 嘴759定位于鼓筒753外側(cè)，用于提供熱空氣幕，以直接沖擊經(jīng)過激光雕刻的 支承元件上承載的膜。提供一定的設(shè)備使熱空氣噴嘴759縮回，避免在停止或 以慢速運(yùn)動時使膜過熱。鼓風(fēng)機(jī)757和加熱器758 —起工作，向噴嘴759供應(yīng) 熱空氣。真空頭760定位于鼓筒753的內(nèi)部，與噴嘴759直接相對?？梢栽趶?向?qū)φ婵疹^760進(jìn)行調(diào)節(jié)和定位，以便接觸鼓筒753的內(nèi)表面。提供真空源761 以對真空頭760進(jìn)行連續(xù)抽空。在鼓筒753內(nèi)部、接觸其內(nèi)表面的位置提供冷卻區(qū)762。冷卻區(qū)762裝有 冷卻真空源763。在冷卻區(qū)762中，冷卻真空源763通過膜中形成的孔吸進(jìn)環(huán) 境空氣，從而使穿孔區(qū)中形成的圖案定形。真空源763還提供了將膜固定在鼓 筒753的冷卻區(qū)762中的適當(dāng)位置上并且使膜在穿孔之后免受因巻繞膜而產(chǎn)生 的張力的影響的方法。將熱塑性聚合物材料的連續(xù)不間斷的薄膜751置于激光雕刻的支承元件 753上。圖8圈出區(qū)域的放大圖示于圖9。如該實(shí)施方式中所示，真空頭760具有兩個真空狹縫764和765，它們延伸通過該薄膜的寬度。但是出于一些目的， 優(yōu)選對每個真空狹縫使用獨(dú)立的真空源。如圖23中所示，真空狹縫764在原 料膜靠近氣刀758時為原料膜提供一個使其保持向下的區(qū)域。真空狹縫764通 過通路766與真空源連接。這種設(shè)計將引入的膜751牢固錨定在鼓筒753上、 并且免受引入的膜中因?yàn)槟さ耐藥喍鴮?dǎo)致的張力的影響。這種設(shè)計還將膜751 平攤在鼓筒753的外表面上。第二真空狹縫765確定了真空穿孔區(qū)。中間支撐 桿768位于狹縫764和765的正中間。真空頭760的位置使得熱空氣幕767的 沖擊點(diǎn)位于中間支撐桿768的正上方。提供的熱空氣具有足夠的溫度、與膜形 成足夠的入射角、并且與膜隔開足夠的距離，使得膜因施加的作用力而變軟、 并且可以發(fā)生變形。該設(shè)備的幾何構(gòu)造保證膜751在被熱空氣幕767軟化時， 能夠免受保持向下狹縫764和冷卻區(qū)762產(chǎn)生的張力的影響(圖22)。真空穿孔 區(qū)765緊鄰熱空氣幕767，從而將加熱膜的時間減至最少，并且防止有過多的 熱量傳給支承元件753。參見圖8和9，柔軟薄膜751從供料輥750進(jìn)料，并經(jīng)過空轉(zhuǎn)輥752。輥 752可以與測力傳感器或者其他機(jī)械裝置連接，從而控制引入膜751的進(jìn)料張 力。隨后將膜751置于緊密接觸支承元件753的位置。接著使膜和支承元件通 過真空區(qū)764。在真空區(qū)764中，壓差進(jìn)一步迫使膜與支承元件753緊密接觸。 真空壓力使膜免受供料張力的影響。然后使膜和支承元件的組合在熱空氣幕 767下方通過。熱空氣幕加熱膜和支承元件的組合，從而使膜軟化。然后使加熱軟化的膜和支承元件的組合進(jìn)入真空區(qū)765中，在此處，壓差 使加熱的膜變形并且呈現(xiàn)支承元件的形貌。位于支承元件中開孔區(qū)域上的加熱 的膜區(qū)域進(jìn)一步變形進(jìn)入支承元件的開孔區(qū)域中。如果有足夠的熱量和變形作 用力，則支承元件的開孔區(qū)域上的膜破裂，從而形成孔。然后使還是熱的多孔膜和支承元件的組合通過冷卻區(qū)762。在冷卻區(qū)中， 通過剛形成孔的膜吸進(jìn)足量的環(huán)境空氣，對膜和支承元件進(jìn)行冷卻。然后圍繞空轉(zhuǎn)輥754從支承元件上移走冷卻的膜?？辙D(zhuǎn)輥754可以與測力 傳感器或其他機(jī)械裝置連接，從而控制巻繞張力。然后將多孔膜傳送至成品輥 756，將膜巻起。吸收系統(tǒng)一第一吸收層美國專利No. 6,515,195描述一種可以用于吸收制品的吸收系統(tǒng)，該專利的要點(diǎn)通過參考結(jié)合于此。第一吸收層846與蓋層842的內(nèi)側(cè)相鄰并粘合于蓋層842，所述第一吸收 層846形成吸收系統(tǒng)848的一部分。第一吸收層846構(gòu)成了從蓋層842接受體 液并在下面的第二吸收層吸收體液之前保留體液的部件，因此第一吸收層用作 液體轉(zhuǎn)移層或液體獲得層(acquisition layer)。第一吸收層846優(yōu)選比蓋層842更致密，并且小孔的比例大于蓋層842。 這些特性使得第一吸收層846能容納體液，并保留體液遠(yuǎn)離蓋層842的外側(cè)， 因而防止體液再潤濕蓋層842和其表面。但是，第一吸收層846優(yōu)選不是致密 到阻止體液流經(jīng)層846進(jìn)入下面第二吸收層848的程度。第一吸收層846可以由纖維材料如木質(zhì)紙漿、聚酯、人造纖維、軟質(zhì)泡沫 材料或類似材料，或這些材料的組合組成。為了穩(wěn)定第一吸收層并保持該層的 結(jié)構(gòu)整體性，第一吸收層846還可以包含熱塑性纖維。第一吸收層846可以用 表面活性劑處理其一面或兩面，以提高該層的潤濕性，盡管一般第一吸收層846 是相對親水性的，可以不需要進(jìn)行處理。第一吸收層846的兩面優(yōu)選粘合或粘 附在相鄰層，即蓋層842和下面第二吸收層848上。本發(fā)明人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)要提供降低再潤濕潛勢(potential)，特別適合用于第一吸 收層846的材料的密度應(yīng)在約0.04-0.05 g/cc范圍，定量在約80-110 g/m2(gsm) 范圍，厚度約為2-3mm，尤其為2.6 mm。適合于第一吸收層的材料的例子是 通過空氣粘合的紙漿，由田納西州邁菲斯的布克耶(Buckeye of Memphis, Tenn.) 以商品名VIZORB 3008銷售的紙漿(基重(base weight)為110 gsm)，以商品名 VIZORB 3010銷售的紙漿(基重為90 gsm)和以商品名VIZORB 3003銷售的紙 漿(基重為100 gsm)。吸收系統(tǒng)一第二吸收層第二吸收層848與第一吸收層846緊鄰并粘合于第一吸收層。在一個實(shí)施 方式中，第二吸收層848是纖維素纖維和超吸收劑的摻混物或混合物，超吸收 劑設(shè)置在紙漿的纖維中。在一個特定實(shí)例中，第二吸收層848是含約40-95重 量％纖維素纖維和約5-60重量XSAP(超吸收劑聚合物)的材料。該材料的水含 量小于約10重量％。本文中所用的詞語"重量％"表示最終材料的單位重量 中特定物質(zhì)的重量。例如，10重量XSAP表示對每100gsm材料基重為10gsm SAP。可以用于第二吸收層848的纖維素纖維為本領(lǐng)域眾所周知，包括木質(zhì)紙漿、棉花、亞麻和泥煤沼(peatmoss)。優(yōu)選木質(zhì)紙漿。紙漿可以從機(jī)械或化學(xué)-機(jī)械 的，亞硫酸鹽，牛皮紙，制漿廢棄材料，有機(jī)溶劑紙漿等獲得。軟木和硬木物 質(zhì)都可以使用。優(yōu)選軟木質(zhì)紙漿。不必用化學(xué)脫粘劑、交聯(lián)劑和用于本發(fā)明材 料的類似試劑對纖維素纖維進(jìn)行處理。第二吸收層848可含有任何超吸收劑聚合物(SAP)， SAP為本領(lǐng)域眾所周 知。對本發(fā)明來說，術(shù)語"超吸收劑聚合物"(或"SAP")表示在0.5psi壓力 下能夠吸收并保留至少約IO倍于其重量的體液的材料。本發(fā)明的超吸收劑聚 合物顆?？梢允菬o機(jī)或有機(jī)交聯(lián)的親水性聚合物，如聚乙烯醇、聚環(huán)氧乙烷、 交聯(lián)淀粉、瓜耳膠、黃原膠等。顆?？梢允欠勰?、粒子、細(xì)?；蚶w維形式。優(yōu) 選用于本發(fā)明的超吸收劑聚合物顆粒是交聯(lián)的聚丙烯酸酯，如由日本大阪的住 友-賽卡化學(xué)品有限公司(Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Of Osaka, Japan)以 商品名SA60N II*型提供的產(chǎn)品和由泊拉廷111.的化學(xué)國際公司(Chemical International, Inc. of Palatine, Ill.)以商品名2100八*提供的產(chǎn)品。在一個特定實(shí)例中，第二吸收層848是含有約40-95重量％纖維素纖維的 材料，更具體是含有約60-80重量％纖維素纖維的材料。這種材料含有約5-60 重量XSAP，優(yōu)選含有約20-55重量XSAP，更優(yōu)選含有約30-45重量％SAP， 最優(yōu)選含約40重量XSAP。在優(yōu)選的實(shí)施方式中，第二吸收層848可以采用氣流鋪置(air-laying)方法 制造。本發(fā)明中的第二吸收層848為高密度，在一個特定實(shí)例中，第二吸收層 848的密度大于約0.25 g/cc。具體地，第二吸收層848的密度在約0.30-0.50 g/cc 范圍。更具體地，該密度約為0.30-0.45 g/cc，更加具體地，密度約為0.30-0.40 g/cc。生產(chǎn)的氣流鋪置的吸收劑通常為低密度。為達(dá)到較高密度，例如上述的第 二吸收層848的例子，可以用砑光機(jī)(calendar)對氣流鋪置的材料壓實(shí)。可以使 用本領(lǐng)域公知的方法進(jìn)行壓實(shí)。通常這種壓實(shí)是在約IO(TC和約130牛頓/毫米 的負(fù)荷條件下進(jìn)行。上壓實(shí)輥通常是由鋼制成，而下壓實(shí)輥是一撓性輥，其硬 度約為85SHD。雖然可以在上壓實(shí)輥上進(jìn)行雕刻，但優(yōu)選上壓實(shí)輥和下壓實(shí) 輥都是光滑的。制成的第二吸收層848的基重可以在較大范圍內(nèi)變化。第二吸收層848的 基重可以在約100-700 gsm范圍。在一個特定的實(shí)例中，基重的范圍約為150-400gsm。基重優(yōu)選在約200-350 gsm范圍，更優(yōu)選約為300 gsm。第二吸收層848 與第一吸收層協(xié)同發(fā)揮作用，降低再潤濕潛勢。第一吸收層具有相對開放的孔 結(jié)構(gòu)，在其主體內(nèi)容易吸收液體并使其橫向分散，并容易將液體轉(zhuǎn)移到第二吸 收層的接受表面。而第二吸收層具有良好的表面活性(capillarity)，能將液體有 效地從第一吸收層吸取到其主體中。液體被吸收到超吸收劑聚合物中后，所述 液體在施加壓力下也不會被釋放。因此，吸收在超吸收劑中的液體被永久截留。 同時，從第一吸收層吸取了液體的第二吸收層的強(qiáng)度有助于減少保留在第一吸 收層中的液體比例，從而在衛(wèi)生巾處于機(jī)械負(fù)荷條件時減少了返回蓋層的液體 量。此外，第一吸收層的表面活性相對較高，使由機(jī)械負(fù)荷在第一吸收層中造 成的任何濃度的液體能再分布在材料內(nèi)，降低液體濃度，并再次減少可返回蓋 層的液體量。在一個特定的實(shí)施方式中，第二吸收層含有約30-40重量％超吸收劑材料， 該吸收層的基重約為200-400 gsm，密度約為0.2-0.45 g/cc。如圖13a和13b所示，第二吸收層848可以形成為三層或四層的層疊物或 層狀物(strata)。這些層狀物包括底層、 一個或兩個中間層以及頂層。下面給出 三層或四層材料的具體例子。SAP可以包含在任一層中或者所有的層中。各層 中SAP的濃度(重量％)可依據(jù)特定SAP的特性而變化。第二吸收層848的一個有趣的特性是在受到機(jī)械應(yīng)力后能保留SAP的能 力。第二吸收層848在受到IO分鐘的嚴(yán)重振動后，仍能保留其SAP含量大于 85重量％。具體地，本發(fā)明的材料在上述機(jī)械應(yīng)力條件下，能保留其SAP含 量大于90%，更具體地大于95%，還更具體地大于99%?？梢酝ㄟ^在俄亥俄 州，克萊文蘭德的W. S.臺勒公司(W. S. Tyler Co., Cleveland Ohio)制造的 Ro-T叩篩搖動器(Ro-T叩Sieve Shaker)測定保留的SAP % 。更具體地，將樣品 放在28目(臺勒系列)的篩中。在第一篩上可以連接另外的35-目和150-目的篩， 形成越來越細(xì)的篩柱。將該篩柱的任一端上加蓋，以防止纖維和/或SAP損失。 將該篩柱置于搖動器中，振動10分鐘。樣品中振松的SAP顆粒("自由(free)SAP") 量可以通過將各篩中含有的殘留物合并，并從SAP中分離纖維素纖維后確定。即使形成的第二吸收層848由多層制備，其最終厚度仍是小的。該厚度可 以在約0.5-2.5 mm范圍變化。在一個特定的實(shí)例中，該厚度約為1.0-2.0 mm， 更具體地，約為1.25-1.75 mm。特別適合用于衛(wèi)生巾800的第二吸收層848的一個實(shí)施方式示于圖13。這 種第二吸收層848的基重約為200-350 gsm，密度約為0.3-0.5 g/cc。在一個特 定的實(shí)施例中，密度約為0.3-0.45 g/cc，更具體地，約為0.4g/cc。在圖13示出的第二吸收層848是氣流鋪置的三層層狀物基重約為25 gsm 的紙漿底層(不含超吸收劑)；基重約為150gsm的中間層，含有約10-30 gsm超 吸收劑和約120-140 gsm紙漿；基重約為25gsm的紙衆(zhòng)頂層(不含超吸收劑)。 相對于第二吸收層848的總基重，超吸收劑的含量約為5-15重量X(gsm超吸 收劑/gsm材料)。在一個特定的實(shí)例中，超吸收劑的含量約為材料的7.5-12.5 重量％。更具體地，材料含有約10重量％的超吸收劑。因此，該材料的中間 層可含有約15-25 gsm的超吸收劑和約125-135 gsm紙漿，更具體地，含有約 20gsm超吸收劑和約130gsm紙漿。含有紙漿和超吸收劑的中間層可以以均勻 摻混物鋪置，或以不均勻的摻混物鋪置，不均勻的摻混物中超吸收劑含量隨著 靠近底層而變化。在另一個實(shí)施方式中，第二吸收層848氣流鋪置為四層的層狀物。在該實(shí) 施方式中，上述的中間層被兩層中間層替代；第一中間層鄰近頂層，第二中間 層鄰近底層。第一中間層和第二中間層各自獨(dú)立地包含約10-30 gsm超吸收劑 和約40-65 g/m.sup.2紙漿。當(dāng)要求保持吸收的液體遠(yuǎn)離蓋層842時，對第一中 間層和第二中間層中的超吸收劑的量進(jìn)行調(diào)整，使第二中間層中的超吸收劑含 量較高。在第一中間層和第二中間層中的超吸收劑可以是同樣的超吸收劑，或 者是不同的超吸收劑。在一個實(shí)施方式中，用于第二吸收層848的纖維素纖維是木質(zhì)紙槳。木質(zhì) 紙漿所具有的某些特性使它特別適合使用。大多數(shù)木質(zhì)紙衆(zhòng)中的纖維素具有被 稱作纖維素I的結(jié)晶形式，該形式可以轉(zhuǎn)變?yōu)榉Q作纖維素II的形式。在第二吸 收層848中，可以使用大部分的纖維素為纖維素II的木質(zhì)紙漿。類似地，纖維 巻曲值(fibercurlvalue)提高的紙漿是有利的。最后，優(yōu)選降低了半纖維素含量 的紙漿。對紙漿進(jìn)行處理以獲得最佳的上述特性的方法為本領(lǐng)域眾所周知。例 如，已知用液氨處理木質(zhì)紙漿，可將纖維素轉(zhuǎn)化為纖維素II結(jié)構(gòu)，并提高纖維 巻曲值。已知閃蒸干燥可提高紙漿的纖維巻曲值。對紙漿進(jìn)行冷堿處理可降低 半纖維素含量，增加纖維巻曲，并將纖維素轉(zhuǎn)化為纖維素II型。因此，用來制 備本發(fā)明的材料的纖維素纖維含有至少部分經(jīng)冷堿處理的紙漿是有利的。對冷堿提取方法的描述可以參見1995年1月18日提交的美國專利申請No.08/370,571，該申請是1994年1月21日提交的美國專利申請No. 08/184,377(現(xiàn)在放棄)的部分繼續(xù)申請。這兩個專利申請的內(nèi)容全文通過參考結(jié)合于此。簡要地，堿處理通常在低于約6(TC的溫度進(jìn)行，但優(yōu)選在低于5(TC，更 優(yōu)選在約10-4(TC的溫度進(jìn)行。優(yōu)選的堿金屬鹽溶液是新配制的氫氧化鈉溶液， 或者是紙漿或造紙廠(pulporpapermill)操作中的副產(chǎn)物的溶液，如半苛性燒堿 液(hemicaustic white liquor)、氧化的燒堿液等?？梢允褂闷渌麎A金屬鹽，如氫 氧化銨和氫氧化鉀等。然而，從成本角度，優(yōu)選的鹽是氫氧化鈉。堿金屬鹽的 濃度通常約為溶液的2-25重量％，優(yōu)選約為6-18重量％。用于高速率快速吸 收應(yīng)用的紙漿優(yōu)選用濃度約為10-18重量％的堿金屬鹽進(jìn)行處理。對第二吸收層848的結(jié)構(gòu)和制造方法的更詳細(xì)的說明，讀者可以參見1999 年2月2日授與Tan等的美國專利5,866,242。該專利文獻(xiàn)的內(nèi)容通過參考結(jié)合 于此。阻擋層在吸收系統(tǒng)848的下面是阻擋層850，該層包含不透液體的材料，以防止 被截留在吸收系統(tǒng)848中的液體從衛(wèi)生巾外流并弄臟使用者的內(nèi)衣。阻擋層50 優(yōu)選由聚合物膜制成，雖然可以由不透液體的透氣的材料，如防水劑處理的非 織造膜或微孔膜，或泡沫材料制成。蓋層842和阻擋層850沿其邊緣部分接合，以形成包封或凸緣密封，保留 吸收系統(tǒng)848的截留物(captive)?？梢酝ㄟ^粘合劑、熱粘合、超聲波粘接、射 頻密封、機(jī)械巻邊等方法，或者它們的組合達(dá)到上述接合。測定衛(wèi)生制品厚度的方法如前面所示，衛(wèi)生巾800的厚度約小于或等于5mm。測量衛(wèi)生巾厚度所 需的設(shè)備是有架臺的帶腳的刻度(厚度)計，可從阿邁斯(Ames)獲得，該厚度計 有直徑2"的腳，在0.07psig壓力下工作，讀數(shù)精確到0.001"。優(yōu)選數(shù)字型設(shè)備。 如果衛(wèi)生巾樣品是單獨(dú)折疊和包裝的，該樣品需用手打開并小心地展平。從樣 品上去除剝離紙，將剝離紙慢慢地從定位粘合劑線的一頭至另一頭重新放回， 而不壓縮該樣品，確保剝離紙橫穿樣品放平。在樣品中心取厚度讀數(shù)時不考慮 翼片(如果有的話)。升高厚度計的腳，將樣品放在砧(aiwil)上，使厚度計的腳大致對準(zhǔn)樣品的中心(或者在所關(guān)心的樣品的關(guān)心的部位)。當(dāng)降低腳時，須小心，以防止腳下 落到樣品上或者施加不適當(dāng)?shù)牧ΑＴ跇悠飞鲜┘?.07psig負(fù)荷，讀出讀數(shù)，穩(wěn) 定約5秒。然后取厚度讀數(shù)。從總厚度中減去覆蓋定位粘合劑的剝離紙的厚度。測試組件的構(gòu)造制造本發(fā)明的測試組件#1和#5，來說明根據(jù)本發(fā)明的多孔膜的提高的性質(zhì)。還制造對比組件tt2、 #3和#4。測試組件ttl-tt5各自包括蓋層、轉(zhuǎn)移層、吸收芯和阻擋層。測試組件#1-#5中使用的轉(zhuǎn)移層、吸收芯和阻擋層如下所述(a) 轉(zhuǎn)移層-購自田納西州邁菲斯的布克耶技術(shù)公司(Buckeye Technologies Inc. ， Memphis TN)的100 gsm 3003維索波(100 gsm 3003 Visorb) 產(chǎn)品(氣流鋪置)；(b) 吸收芯-購自左治亞州吉斯帕的羅尼爾公司(Rayonier Inc. ， Jess叩GA) 的208 gsm諾萬新(208 gsm Novathin)產(chǎn)品(編號080525);(c) 常規(guī)聚乙烯單片膜阻擋層。使用常規(guī)和市售的結(jié)構(gòu)粘合劑以常規(guī)方式將測試組件的各層彼此粘合。 以下測試組件#1-#3和#5中所述的各蓋層材料由市售基膜構(gòu)成，該市售基膜的產(chǎn)品編號為DPD81715,購自巴西圣保羅的特雷德伽公司(TredegarCorporation, Sao Paulo， Brazil)。 測試組件#1的構(gòu)成首先形成根據(jù)本發(fā)明的多孔膜，如圖la-Id中所示和如上文所述(以下稱 為膜#1)。膜ttl的構(gòu)造使得交叉元件14a和14b的上表面相對于膜的上表面凹 進(jìn)15密耳，交叉元件14a和14b中每一個的寬度"a"都是10密耳。每個交 叉元件14a的長度都是100密耳，每個交叉元件14b的長度都是60密耳。測 得膜#1的平均開孔面積為26%。將膜ttl施加在上述轉(zhuǎn)移層的頂部，從而形成從 上至下包括蓋層、轉(zhuǎn)移層、吸收芯和阻擋層的測試組件，完成測試組件#1。測試組件tt2的構(gòu)成首先形成在各方面都與膜#1相同的多孔膜(以下稱為膜#2)，區(qū)別在于，對 交叉元件14a和14b進(jìn)行排列，使它們與膜的頂面共面，即，交叉元件相對于 膜的頂面并沒有凹進(jìn)。測得膜#2的平均開孔面積為26%。將膜#2施加在上述轉(zhuǎn) 移層的頂部，從而形成從上至下包括蓋層、轉(zhuǎn)移層、吸收芯和阻擋層的測試組 件，完成測試組件#2。測試組件#3的構(gòu)成首先形成在各方面都與膜#1相同的多孔膜(以下稱為膜#3)，區(qū)別在于，完全省去交叉元件14a和14b，即，該膜包括許多六邊形的孔。測得膜#3的平均 開孔面積約為39%。將膜tt3施加在上述轉(zhuǎn)移層的頂部，從而形成從上至下包括 蓋層、轉(zhuǎn)移層、吸收芯和阻擋層的測試組件，完成測試組件#3。 測試組件糾的構(gòu)成從巴西強(qiáng)生&強(qiáng)生工業(yè)公司的E.公司(Johnson & Johnson Ind. E. Com. Ltda. ， Brazil)制造的森譜瑞-利弗瑞(Sempre Livre)超薄帶護(hù)翼 產(chǎn)品上取下多孔膜蓋層(以下稱為膜糾)。將膜糾施加在上述轉(zhuǎn)移層的頂部，從 而形成從上至下包括蓋層、轉(zhuǎn)移層、吸收芯和阻擋層的測試組件，完成測試組 件ft4。測試組件貼的構(gòu)成首先形成根據(jù)本發(fā)明的多孔膜，如圖le-lj中所示和如上文所述(以下稱 為膜貼)。交叉元件14a和14b的上表面相對于膜的上表面凹進(jìn)4. 5密耳，交 叉元件14a和14b中每一個的寬度"a"分別是5密耳和9密耳。交叉元件14a 和14b中每一個的長度分別是100密耳和60密耳。該膜包括多個圖le中所示 種類的較大蝴蝶圖案以及多個圖le中所示種類的較小蝴蝶圖案。對于較大的 蝴蝶，從一個蝶翼的最遠(yuǎn)端至另一個蝶翼的最遠(yuǎn)端測得的尺寸為l.O英寸，在 蝴蝶腰部最窄處測得的尺寸為0.6英寸。對于較小的蝴蝶，從一個蝶翼的最遠(yuǎn) 端至另一個蝶翼的最遠(yuǎn)端測得的尺寸為0.6英寸，在蝴蝶腰部最窄處測得的尺 寸為0. 4英寸。較大和較小的蝴蝶間距相等，使得9英寸(長度)X6英寸(寬度) 的多孔膜樣品在膜樣品上具有等間距的9個大蝴蝶和9個小蝴蝶。大和小蝴蝶 中每一個都包括邊界108和在邊界限定的區(qū)域內(nèi)排列的多個孔106。每個較大 蝴蝶的邊界108的寬度為78密耳，每個較小蝴蝶的邊界108的寬度為31密耳。 對于較大和較小的蝴蝶，邊界108限定的膜區(qū)域109內(nèi)的膜表面都相對于膜頂 面凹進(jìn)約4. 5密耳。較小和較大蝴蝶的邊界限定的區(qū)域109都具有多個孔106， 各孔都為橢圓形狀，長軸為43密耳，短軸為16密耳。水平相鄰的孔106之間 的距離"n"為40密耳，垂直相鄰的孔之間的距離"o"為34密耳。制造并測試上述測試組件#1-5中每一組件的5個樣品，測定液體滲透時間 (FPT)、再潤濕(單位為克)和掩蔽值。因此，共制造25個樣品(每個測試組件5 個)。以下更詳細(xì)體討論測定液體滲透時間(FPT)、再潤濕和掩蔽值的測試方法。每個測試都使用相同的5個樣品。即，并非對每個測試都使用清潔的樣品，而 是對液體滲透使用相同的樣品，接著進(jìn)行再潤濕測試，然后進(jìn)行掩蔽值測試。根據(jù)以下測試方法用于液體滲透測試、再潤濕測試和掩蔽值測試的測試液 可以是任何合成月經(jīng)液，其具有以下性質(zhì)(l)粘度約為30厘泊；(2)亨特(Hunter)色值為L約為17， a約為7， b約為1. 5。將一定量的測試液置于深 度為0.25〃的玻璃皿中，測量該測試液的L亨特值。液體滲透時間(FPT)將待測的樣品置于液體滲透測試孔板下，測量液體滲透時間。測試板為矩 形，由萊克桑(Lexan)制造，為25. 4厘米(10. 0英寸)長、7.6厘米(3.0英寸) 寬、1.27厘米(O. 5英寸)厚。形成通過該板的同心、橢圓形孔，該孔長軸(長 度)為3.8厘米，其平行于板的長邊，該孔短軸(寬度)為1.9厘米，其平行于 板的短邊。孔板位于待測樣品的中央。在孔板上方懸掛裝有7毫升測試液的帶刻度10 立方厘米注射器，使得注射器的出口位于孔板上方約3英寸。注射器水平固定， 平行于測試板的表面，然后以一定的速率從注射器中排出液體，使得液體以垂 直于測試板的液流的形式流入孔中，在液體最初接觸到待測樣品時啟動秒表。 可以在孔內(nèi)最初看到樣品的表面時停止秒表。秒表上經(jīng)過的時間為液體滲透時 間。由5個樣品的測試結(jié)果計算平均液體滲透時間(FPT)。通過對每個測試組 件測試5個樣品，確定測試組件tt1-tt5中每一組件的平均液體滲透時間。再潤濕潛勢再潤濕潛勢是衛(wèi)生巾或其他制品含有較多液體并且經(jīng)受外部機(jī)械壓力時， 在其結(jié)構(gòu)中保持液體的能力的度量。通過以下方法測定和確定再潤濕潛勢。該測試要求的設(shè)備包括精確至1秒并且至少持續(xù)5分鐘的秒表，10毫升容 量并且內(nèi)徑約12毫米的玻璃量筒， 一定量的測試液，以及液體滲透測試孔板。該設(shè)備進(jìn)一步包括能夠精確稱重至土O.OOl克的稱量器或天平； 一定量 的NuGauze通用多孔材料(sponge) (10厘米X 10厘米)(4英寸X 4英寸)，是來 自強(qiáng)生&強(qiáng)生公司醫(yī)療公司(Johnson & Johnson Medical Inc.)的4層多孔材 料，產(chǎn)品編號3634(可以從強(qiáng)生&強(qiáng)生醫(yī)院服務(wù)公司(Johnson & Johnson Hospital Services)獲得，訂購號7634); 2.22千克(4. 8磅)的標(biāo)準(zhǔn)砝碼，尺寸為5. 1厘米(2英寸)X10. 2厘米(4. 0英寸)X約5. 4厘米(2. 13英寸)， 該砝碼在5. 1厘米X10.2厘米(2英寸X4英寸)的表面上施加4. 14千帕(0.6 psi)的壓力。將兩塊多孔材料折疊，使折邊彼此相對放置，形成約5厘米X10厘米X16 層的多層結(jié)構(gòu)。將用于各待測衛(wèi)生巾樣品的16層多孔材料稱重，精確至0.001 克。將溫濕度預(yù)調(diào)節(jié)過的衛(wèi)生巾或其他制品置于水平面上，不要移除剝離紙， 并且使蓋層面向上。在上述FPT測試中在孔板內(nèi)施加測試液之后， 一旦通過液體的頂面顯露出 衛(wèi)生巾的蓋層，就立刻啟動秒表，測量5分鐘的時間。5分鐘過后，移開孔板， 將衛(wèi)生巾放置在堅硬水平面上，使蓋層面向上。將一塊預(yù)先稱重的16層多層 多孔材料放置在潤濕區(qū)域上并且位于該區(qū)域中央，將標(biāo)準(zhǔn)的2.22千克砝碼放 置在16層多層多孔材料頂部。在衛(wèi)生巾上放置了多孔材料和砝碼之后，立刻 啟動秒表，3分鐘過后，迅速移開標(biāo)準(zhǔn)砝碼和16層多層多孔材料。測量并紀(jì)錄 16層多層多孔材料的濕重，并記錄精確至0.001克。然后以濕的16層多層多 孔材料和干的16層多層多孔材料之間的重量差(以克為單位)，計算再潤濕值。對5個樣品重復(fù)上述測量，需要時在每次操作之前將砝碼擦干凈。對5個 測試樣品獲得的值進(jìn)行平均，求得平均再潤濕潛勢。因此，通過對每個測試組 件測試5個樣品，確定測試組件tt1-tt5中每一組件的平均再潤濕潛勢。進(jìn)行以上方法時，在溫度為21士rC、相對濕度為65±2%的條件下進(jìn)行測 試是很重要的。掩蔽值采用以下方法測定面層材料降低使用后產(chǎn)品沾污顯露的能力，即，掩蔽值。 對組件ttl-5中每一組件進(jìn)行液體滲透試驗(yàn)和再潤濕試驗(yàn)之后，立刻在液體測試 之后對它們進(jìn)行50倍放大成像，所用設(shè)備為斯卡勒USB(Scalar USB)顯微鏡， 型號是UM02-SUZ-01，使用自帶的光源。將斯卡勒顯微鏡設(shè)定為色調(diào)飽和和強(qiáng) 度在開啟自動曝光的條件下。對各樣品的沾污區(qū)域拍攝5個圖像，保存為640 X480像素的24比特真彩色圖像文件(為bmp格式)。這樣共獲得25個圖像(對 于5個樣品中的每一個拍攝5個圖像)。然后用圖像泊柔帕拉斯(Image Pro Plus) 4.0版軟件(米蒂塞伯邁提克斯， LP(Media Cybermetics， LP)的產(chǎn)品)打開原來的bmp圖像。接著用圖像泊柔帕拉斯將圖像從原來的24比特真彩色格式轉(zhuǎn)化為8比特灰度圖像。對圖像施加 圖像泊柔帕拉斯的直方圖功能，構(gòu)建圖像灰度值的直方圖。這種方法提供可以在特定灰度值對像素數(shù)量進(jìn)行計數(shù)，灰度值從O(黑色)到255(白色)。采用 DDE (Windows動態(tài)數(shù)據(jù)交換)將來自直方圖的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)化成微軟Excel 2000工作表。DDE轉(zhuǎn)化成Excel 2000則形成包含25列、每列包含256行的工作表。工 作表中的各列包含單個圖像的直方圖數(shù)值。各列由256個值構(gòu)成，這是對圖像 中像素數(shù)量的計數(shù)，其對應(yīng)于0-255范圍內(nèi)的數(shù)字。然后對各行進(jìn)行平均，產(chǎn) 生具體材料的平均直方圖。典型的平均直方圖表現(xiàn)出灰色區(qū)域的雙峰分布，灰色區(qū)域代表測試組件的 沾污區(qū)，白色區(qū)域代表測試組件的未沾污區(qū)。對平均直方圖進(jìn)行觀察，證明灰 色區(qū)域和白色區(qū)域之間存在平臺，所有沾污區(qū)都由等于或小于90的灰度值確 定。因此，可以通過對0-90的灰度值求和，確定材料的污漬面積，較低的數(shù) 值代表灰色區(qū)域較少，因此表示掩蔽性較好。等于或小于90的灰度值之和就 是"掩蔽值"。對由測試組件的5個測試樣品中每一樣品得到的掩蔽值進(jìn)行平 均，求得各測試組件的平均掩蔽值。圖10是表示以根據(jù)本發(fā)明的多孔膜作為 其蓋層的吸收制品的污漬密度的典型平均直方圖。下表1列出測試組件#1-#5的平均液體滲透時間、平均再潤濕(單位為克) 和掩蔽值。測試組件平均液體滲透時間 (秒)平均再潤濕(克)平均掩蔽值#138. 500. 03250841. 26#245. 520. 04078587.00#321. 550. 052114930.20#446. 500. 024111959.93#530. 430. 03755794. 13如上表所示，使用根據(jù)本發(fā)明的多孔膜構(gòu)造的測試組件#1和#5提供了液 體處理能力和掩蔽特性的獨(dú)特組合。雖然上文已經(jīng)描述了本發(fā)明的具體實(shí)施方式
，但是，本申請意圖包括對本 發(fā)明進(jìn)行的修改和變化，只要這些修改和變化在所附權(quán)利要求書及其等同內(nèi)容 的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種衛(wèi)生巾，包括蓋層和與蓋層相鄰的吸收系統(tǒng)，用于接受來自蓋層的液體，所述衛(wèi)生巾的平均掩蔽值小于約115,000，平均液體滲透時間小于約45秒，按照本文所述的測試方法，平均再潤濕小于約0.05克。
2. 如權(quán)利要求1所述的衛(wèi)生巾
3. 如權(quán)利要求1所述的衛(wèi)生巾
4. 如權(quán)利要求1所述的衛(wèi)生巾
5. 如權(quán)利要求1所述的衛(wèi)生巾
6. 如權(quán)利要求1所述的衛(wèi)生巾 40秒。
7. 如權(quán)利要求5所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述平均液體滲透時間小于 35秒。
8. 如權(quán)利要求1所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述吸收系統(tǒng)包含超吸收劑 材料。
9. 如權(quán)利要求l所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述吸收系統(tǒng)包含纖維素纖 維和超吸收劑材料的摻混物。
10. 如權(quán)利要求9所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述吸收系統(tǒng)包括第一吸 收層和第二吸收層，所述第二吸收層的基重約為100-700 gsm，該第二吸收層 已氣流鋪置為紙漿底層，混合有超吸收劑聚合物的紙漿的中間層，和至少含一 些紙漿的頂層。
11. 如權(quán)利要求IO所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第二吸收層的密度大于約0.25 g/cc。
12. 如權(quán)利要求11所述的衛(wèi)生巾 為0.3-0.5 g/cc。
13. 如權(quán)利要求12所述的衛(wèi)生巾 為0.3-0.45 g/cc。
14. 如權(quán)利要求IO所述的衛(wèi)生巾其特征在于，所述第二吸收層的密度約其特征在于，所述第二吸收層的密度約
15.P的第一中間層以及與頂層相鄰的第二 15.如權(quán)利要求IO所述的衛(wèi)生巾 20-55重量％超吸收劑聚合物。其特征在于， .中間層。 其特征在于，所述中間層包括與底層相所述第二吸收層包含約
16. 如權(quán)利要求15所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第二吸收層包含約30-45重量％超吸收劑聚合物。
17. 如權(quán)利要求16所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第二吸收層包含約 40重量％超吸收劑聚合物。
18. 如權(quán)利要求IO所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第二吸收層的基重約 為150-350 gsm。
19. 如權(quán)利要求18所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第二吸收層的基重約 為200-300 gsm。
20. 如權(quán)利要求19所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第二吸收層的基重 約為250 gsm。
21. 如權(quán)利要求IO所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第一吸收層是氣流鋪 置在所述第二吸收層的上面。
22. 如權(quán)利要求21所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第一吸收層包含熱塑 性纖維。
23. 如權(quán)利要求21所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第一吸收層包含密度 約為0.04-0.05 g/cc的材料。
24. 如權(quán)利要求21所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第一吸收層包含基重 約為80-110 gsm的材料。
25. 如權(quán)利要求IO所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第一吸收層的厚度約 為2-3 mm。
26. 如權(quán)利要求IO所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第二吸收層包含約 5-60重量％超吸收劑聚合物。
27. 如權(quán)利要求1所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述衛(wèi)生巾的厚度小于約 3 mm。
28. 如權(quán)利要求27所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述衛(wèi)生巾的厚度約為 2.8 mm。
29. —種衛(wèi)生巾，包括蓋層和與所述蓋層相鄰的吸收系統(tǒng)，用于接收來自 蓋層的液體，所述衛(wèi)生巾的平均掩蔽值小于約60,000，平均液體滲透時間小于 約45秒。
30. 如權(quán)利要求29所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，按照本文所述的測試方法， 所述衛(wèi)生巾的平均再潤濕小于約0.05克。
31. 如權(quán)利要求30所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，按照本文所述的測試方法， 所述衛(wèi)生巾的平均再潤濕小于約0.04克。
32. 如權(quán)利要求29所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述蓋層包括-在第一假想平面中的第一平坦表面；在第二假想平面中的第二平坦表面，所述第二假想平面位于所述第一假想 平面的下方；第一多個孔；跨越所述第一多個孔中每一個孔的至少一個元件，從而限定多個較小的 孔，所述多個較小孔中的每一個孔都與所述第一多個孔中的相應(yīng)孔連通，其中， 跨越所述孔中每一個孔的所述元件具有位于第三假想平面的頂面，所述第三假 想平面位于所述第一假想平面的下方。
33. 如權(quán)利要求29所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述蓋層包括 位于第一假想平面的第一基本平坦表面； 位于第二假想平面的第二基本平坦表面；多個互相連接的構(gòu)架部分，所述構(gòu)架部分各自至少具有以彼此相對隔開方 式排列的第一內(nèi)壁和第二內(nèi)壁；多個交叉元件，所述各交叉元件從一個所述構(gòu)架部分的一個所述內(nèi)壁延伸 至一個所述構(gòu)架部分的所述相對的第二內(nèi)壁，所述交叉元件各自具有位于一個 假想平面的頂面，所述假想平面位于所述第一假想平面的下方；至少從所述第一平坦表面延伸至所述第二平坦表面的多個孔，所述各孔以 至少一個所述構(gòu)架部分和至少一個所述交叉元件為界。
34. 如權(quán)利要求29所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述蓋層包括 在第一假想平面中的第一平坦表面； 在第二假想平面中的第二平坦表面；至少從所述第一平坦表面延伸至所述第二平坦表面的多個孔； 跨越所述多個孔中每一個孔的至少一個元件，其中，跨越所述孔中每一個孔的所述元件具有位于第三假想平面的頂面，所述第三假想平面位于所述第一假想平面的下方。
35. 如權(quán)利要求29所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述蓋層包括 在第一假想平面中的第一平坦表面；在第二假想平面中的第二平坦表面，所述第二假想平面位于所述第一假想平面的下方；第一多個孔；跨越所述第一多個孔中每一個孔的至少一個元件，從而限定多個較小的 孔，所述多個較小孔中的每一個孔都與所述第一多個孔中的相應(yīng)孔連通，其中， 跨越所述孔中每一個孔的所述元件具有位于第三假想平面的頂面，所述第三假 想平面位于所述第一假想平面的下方；第二多個孔。
36. 如權(quán)利要求29所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述蓋層包括 位于第一假想平面的第一基本平坦表面；位于第二假想平面的第二基本平坦表面，所述第二假想平面位于所述第一 假想平面的下方；多個互相連接的構(gòu)架部分，所述構(gòu)架部分各自至少具有以彼此相對隔開的 方式排列的第一內(nèi)壁和第二內(nèi)壁；多個交叉元件，所述各交叉元件從一個所述構(gòu)架部分的一個所述內(nèi)壁延伸 至一個所述構(gòu)架部分的所述相對的第二內(nèi)壁，所述交叉元件各自具有位于一個 假想平面的頂面，所述假想平面位于所述第一假想平面的下方；第一多個孔，它們至少從所述第一平坦表面延伸至所述第二平坦表面，所 述各孔以至少一個所述構(gòu)架部分和至少一個所述交叉元件為界；第二多個孔。
37. 如權(quán)利要求29所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述蓋層包括多孔膜，所 述多孔膜包含在第一假想平面中的第一平坦表面； 在第二假想平面中的第二平坦表面；至少從所述第一平坦表面延伸至所述第二平坦表面的多個孔； 跨越所述多個孔中每一個孔的至少一個元件，其中，跨越所述孔中每一個孔的所述元件具有位于第三假想平面的頂面，所述第三假想平面位于所述第一假想平面的下方； 第二多個孔。
38. 如權(quán)利要求37所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，可以在視覺上區(qū)分所述第 二多個孔和所述第一多個孔。
39. 如權(quán)利要求37所述的衛(wèi)生巾，所述膜包括至少第一部分和至少第二部分，所述第一部分包括所述第一多個孔，所述第二部分包括所述第二多個孔， 其特征在于，所述第二部分中所述膜的表面位于所述第一假想平面的下方。
40. 如權(quán)利要求37所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第二多個孔一起確定 了一種圖樣和標(biāo)記。
41. 如權(quán)利要求37所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第二多個孔被邊界包 圍，所述邊界將所述第一多個孔與所述第二多個孔隔開。
42. 如權(quán)利要求37所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，跨越所述第一多個孔中每 一個孔的所述至少一個元件各自具有約30. 0-150密耳的長度。
43. 如權(quán)利要求37所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，跨越所述第一多個孔中每 一個孔的所述至少一個元件各自具有約4. 0-24. 0密耳的寬度。
44. 如權(quán)利要求37所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述膜具有約20-30%的 開孔面積。
45. 如權(quán)利要求37所述的衛(wèi)生巾，其特征在于，所述第三假想平面位于所 述第一假想平面下方約3. 0-17. 0密耳處。
46. —種衛(wèi)生巾，包括多孔膜蓋層和與所述蓋層相鄰的吸收系統(tǒng)，用于 接收來自蓋層的液體，所述衛(wèi)生巾的平均掩蔽值小于約55,000，平均液體滲透 時間小于約45秒。
全文摘要
一種衛(wèi)生巾，其包括面對身體的蓋層以及與所述蓋層相鄰的吸收系統(tǒng)，以接受來自蓋層的液體，所述衛(wèi)生巾提高了液體處理性和掩蔽性。
文檔編號A61F13/512GK101237842SQ200580051336
公開日2008年8月6日 申請日期2005年7月19日 優(yōu)先權(quán)日2005年7月19日
發(fā)明者W·G·F·凱利 申請人:麥克內(nèi)爾-Ppc股份有限公司