專利名稱：水稻缽苗機(jī)插育秧盤(pán)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及插秧機(jī)輔助器具，具體為一種水稻缽苗機(jī)插育秧盤(pán)。
背景技術(shù)：
隨著農(nóng)業(yè)經(jīng)濟(jì)的發(fā)展和科技的進(jìn)步，水稻機(jī)械化栽植技術(shù)、水稻的規(guī)格化育秧，商品化供秧、機(jī)械化插秧已成為必然趨勢(shì)，人為插秧逐步被機(jī)械化而取代。機(jī)械化栽植體系中，機(jī)插育秧是機(jī)插水稻高產(chǎn)栽培技術(shù)中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，為適應(yīng)機(jī)械播種，秧苗普遍采用育秧盤(pán)育種，育秧盤(pán)上設(shè)有缽體，缽體內(nèi)開(kāi)設(shè)缽苗穴，缽體按橫向和縱向均勻排列在缽盤(pán)主體上，如專利號(hào)為99201642. 8的《水稻缽苗育秧盤(pán)》實(shí)用新型專利，這類育秧盤(pán)存在缽體密度大、缽體的缽苗穴形狀單一(通常為上口大下口小的圓錐臺(tái)形狀)、缽體育苗空間小、秧苗的品質(zhì)差等，不能充分發(fā)揮水稻缽苗栽培技術(shù)的增產(chǎn)潛力。

發(fā)明內(nèi)容
為此，本發(fā)明提出了一種水稻缽苗機(jī)插育秧盤(pán)。本發(fā)明水稻缽苗機(jī)插育秧盤(pán)的技術(shù)方案包括長(zhǎng)方形缽苗盤(pán)體，所述缽苗盤(pán)體上分布有按長(zhǎng)度方向?yàn)榭v向和按寬度方向?yàn)闄M向均勻排列的缽體，所述各缽體內(nèi)開(kāi)設(shè)缽苗穴， 所不同的是所述缽苗穴為以其自身中心線左右對(duì)稱的長(zhǎng)方形錐臺(tái)腔，與圓錐臺(tái)形的缽苗穴相比，可最大限度地使缽苗穴能容納更多的培養(yǎng)基，使育秧成的秧苗強(qiáng)壯。為在缽苗盤(pán)體上布置更多的缽體(最多為434個(gè))，缽體按缽苗穴的寬度方向沿缽苗盤(pán)體的縱向、缽苗穴的長(zhǎng)度方向沿缽苗盤(pán)體的橫向排列。為使育出的秧苗成片、串根少、機(jī)插過(guò)程中不傷根、種植后返苗快，一種合理的缽苗穴形狀尺寸為所述缽苗穴的橫向錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角為35°，頂面開(kāi)口距離為8mm 15mm，深度為8mm 15mm，底部圓角R3.0 ；所述缽苗穴的縱向錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角為46°，頂面開(kāi)口距離為6匪 12mm，深度為6匪 10mm，底部圓角Rl. 0。為了啟盤(pán)方便，可將秧盤(pán)周邊處缽苗穴的錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角、頂面開(kāi)口距離和深度加大，即所述缽苗盤(pán)體縱向盤(pán)邊至少一排缽苗穴，其橫向錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角為45°，頂面開(kāi)口距離為IOmm 17mm，深度為8mm 15mm，底部圓角R3. 0 ；所述缽苗盤(pán)體橫向周邊至少三排缽苗穴，其縱向錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角為47°，頂面開(kāi)口距離為9mm 15mm，深度為7mm 11mm，底部圓角R2. 5。與所述缽苗穴形狀和深度相適應(yīng)，所述缽體高度設(shè)為15mm，其底部為長(zhǎng)X寬為 12mmX Ilmm的長(zhǎng)方形，所述缽體底部長(zhǎng)方形的寬度方向沿缽苗盤(pán)體的縱向，長(zhǎng)度方向沿缽苗盤(pán)體的橫向。與所述缽體高度相適應(yīng)，所述缽苗盤(pán)體的高度設(shè)為18mm 沈讓，所述缽體與缽苗盤(pán)體同底。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)本發(fā)明水稻缽苗機(jī)插育秧盤(pán)為一種能與各種水稻插秧機(jī)配套的機(jī)插秧盤(pán)，育秧盤(pán)容納育秧培養(yǎng)基多，長(zhǎng)出的秧苗強(qiáng)壯、均勻，秧苗自成模塊不串根，便于機(jī)插流暢，不傷根， 而且還能方便啟盤(pán)脫模。


圖1是本發(fā)明一種實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖1實(shí)施方式左上角的局部放大圖。圖3(a)為圖1實(shí)施方式中的A-A剖視圖。圖3(b)為圖1實(shí)施方式中的B-B剖視圖。圖號(hào)標(biāo)識(shí)1、缽苗盤(pán)體；2、缽體；3、缽苗穴；4、滲流孔。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合圖例對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明水稻缽苗機(jī)插育秧盤(pán)的主體為長(zhǎng)X寬X深等于600mmX ^OmmX 24mm的缽苗盤(pán)體1 (僅為系列中的一個(gè)規(guī)格)，將缽苗盤(pán)體1的長(zhǎng)度方向設(shè)為縱向，缽苗盤(pán)體1的寬度方向設(shè)為橫向，沿縱向和橫向于缽苗盤(pán)體ι上均勻排列布置有缽體2，縱向排列31個(gè)缽體，間距為19mm，橫向排列14個(gè)缽體2，間距為20mm，所述缽體2與缽苗盤(pán)體1同底，缽體2 高度為15mm，如圖1、圖2所示。所述缽體2為以自身中心線左右對(duì)稱的長(zhǎng)方形錐臺(tái)，其底部為長(zhǎng)X寬等于 12mmX Ilmm的長(zhǎng)方形寬底結(jié)構(gòu)，缽體2的寬度方向沿缽苗盤(pán)體1的縱向，缽體2的長(zhǎng)度方向沿缽苗盤(pán)體1的橫向，缽體2相對(duì)的錐面外壁成夾角，缽體2的底部開(kāi)設(shè)有Φ3.0πιπι 的滲流孔4，如圖1、圖2、圖3所示。如圖1、圖2所示，所述缽體2內(nèi)開(kāi)設(shè)的缽苗穴3為以其自身中心線左右對(duì)稱的長(zhǎng)方形錐臺(tái)腔，與長(zhǎng)方形錐臺(tái)形的缽體2方向一致，所述缽苗穴3的寬度方向沿缽苗盤(pán)體1的縱向，缽苗穴3的長(zhǎng)度方向沿缽苗盤(pán)體1的橫向。如圖3(b)所示，缽苗盤(pán)體1縱向盤(pán)邊(兩對(duì)邊)一排缽苗穴3的橫向錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角為45°，頂面開(kāi)口距離為14mm，深度為12mm，底部圓角R3. 0，其余缽苗穴3的橫向錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角為35°，頂面開(kāi)口距離為12mm，深度為12mm，底部圓角R3. 0 ；如圖3 (a)所示，缽苗盤(pán)體1橫向盤(pán)邊(兩對(duì)邊)三排缽苗穴3的縱向錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角為47°，頂面開(kāi)口距離為12mm，深度為10mm，底部圓角R2. 5，其余缽苗穴3的縱向錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角為 46°，頂面開(kāi)口距離為9mm，深度為9mm，底部圓角Rl. 0。
權(quán)利要求
1.水稻缽苗機(jī)插育秧盤(pán)，包括長(zhǎng)方形缽苗盤(pán)體(1)，所述缽苗盤(pán)體(1)上分布有按長(zhǎng)度方向?yàn)榭v向和按寬度方向?yàn)闄M向均勻排列的缽體0)，各缽體O)內(nèi)開(kāi)設(shè)缽苗穴(3)，其特征在于所述各缽苗穴(3)為以其自身中心線左右對(duì)稱的長(zhǎng)方形錐臺(tái)腔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水稻缽苗機(jī)插育秧盤(pán)，其特征在于所述缽苗穴(3)的寬度方向沿缽苗盤(pán)體(1)的縱向，缽苗穴(3)的長(zhǎng)度方向沿缽苗盤(pán)體(1)的橫向。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的水稻缽苗機(jī)插育秧盤(pán)，其特征在于所述缽苗穴(3)的橫向錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角為35°，頂面開(kāi)口距離為8mm 15mm，深度為8mm 15mm，底部圓角 R3. O ；所述缽苗穴(3)的縱向錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角為46°，頂面開(kāi)口距離為6mm 12mm，深度為6mm 10mm，底部圓角Rl. O。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的水稻缽苗機(jī)插育秧盤(pán)，其特征在于所述缽苗盤(pán)體(1)縱向盤(pán)邊至少一排缽苗穴(3)，其橫向錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角為45°，頂面開(kāi)口距離為IOmm 17mm， 深度為8mm 15mm，底部圓角R3. 0 ；所述缽苗盤(pán)體(1)橫向周邊至少三排缽苗穴(3)，其縱向錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角為47°，頂面開(kāi)口距離為9mm 15mm，深度為7mm 11mm，底部圓角 R2. 5。
5.根據(jù)權(quán)利要求1 4中任意一項(xiàng)所述的水稻缽苗機(jī)插育秧盤(pán)，其特征在于所述缽體⑵高度為15mm，其底部為長(zhǎng)X寬為12mmX Ilmm的長(zhǎng)方形，所述缽體⑵底部長(zhǎng)方形的寬度方向沿缽苗盤(pán)體(1)的縱向，長(zhǎng)度方向沿缽苗盤(pán)體(1)的橫向。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的水稻缽苗機(jī)插育秧盤(pán)，其特征在于所述缽苗盤(pán)體(1)高度為18mm ^mm,所述缽體O)與缽苗盤(pán)體(1)同底。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種水稻缽苗機(jī)插育秧盤(pán)，包括長(zhǎng)方形缽苗盤(pán)體，缽苗盤(pán)體上分布有按長(zhǎng)度方向?yàn)榭v向和按寬度方向?yàn)闄M向均勻排列的缽體，各缽體內(nèi)的缽苗穴為以其自身中心線左右對(duì)稱的長(zhǎng)方形錐臺(tái)腔，缽苗穴的寬度方向沿缽苗盤(pán)體的縱向，缽苗穴的長(zhǎng)度方向沿缽苗盤(pán)體的橫向；缽苗穴的橫向錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角為35°，頂面開(kāi)口距離為12mm，深度為12mm，底部圓角R3，缽苗穴的縱向錐面?zhèn)缺陂_(kāi)口夾角為46°，頂面開(kāi)口距離為9mm，深度為9mm，底部圓角R1；缽體高度為15mm，其底部為長(zhǎng)×寬為12mm×11mm的長(zhǎng)方形，長(zhǎng)方形的寬度方向沿缽苗盤(pán)體的縱向，長(zhǎng)度方向沿缽苗盤(pán)體的橫向，缽苗盤(pán)體高度為24mm，缽體與缽苗盤(pán)體同底。
文檔編號(hào)A01G9/10GK102523979SQ20121000683
公開(kāi)日2012年7月4日 申請(qǐng)日期2012年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月11日
發(fā)明者張金平, 王軍平, 蔣宏偉 申請(qǐng)人:桂林高新區(qū)科豐機(jī)械有限責(zé)任公司