鍍膜玻璃基板及具有該鍍膜玻璃基板的手機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種鍍膜玻璃產(chǎn)品。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)中，手機(jī)上的蓋板玻璃一般采用鋼化玻璃制造，但玻璃蓋板比較脆弱，容易被尖銳物品劃傷，影響通透性和顯示效果。為了增加玻璃蓋板的耐磨性，手機(jī)用戶往往通過貼膜方式加以保護(hù)，但這些膜層一般都是塑料薄膜，根據(jù)薄膜的等級不同，也會不同程度的影響顯示屏的視覺效果和觸摸靈敏度；而手機(jī)制造商為了提高產(chǎn)品的表面耐磨性能，也提出采用硬度更高的藍(lán)寶石玻璃制作手機(jī)蓋板，其具有很好的透光性、熱傳導(dǎo)性和耐磨性。但藍(lán)寶石玻璃受到切割工藝的限制，成品率非常低，因此價格高昂且產(chǎn)能低下。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種具有良好防劃、耐磨性能的鍍膜玻璃基板。
[0004]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種鍍膜玻璃基板，所述的玻璃基板上鍍有防劃層，所述的防劃層為氟化鑭薄膜或氟化鈰薄膜或氟化釔薄膜或氟化釹薄膜或氟化鐠薄膜，所述的防劃層的硬度大于莫氏硬度4.0級。
[0005]優(yōu)選地，所述的玻璃基板與所述的防劃層之間還設(shè)有光學(xué)減反膜層。
[0006]進(jìn)一步說，所述的光學(xué)減反膜層包括兩層薄膜，所述的兩層薄膜分別是依次鍍在所述的玻璃基板上的二氧化鈦薄膜和二氧化硅薄膜。
[0007]或者，所述的光學(xué)減反膜層包括四層薄膜，所述的四層薄膜分別是依次鍍在所述的玻璃基板上的二氧化鈦薄膜、二氧化硅薄膜、二氧化鈦薄膜、二氧化硅薄膜。
[0008]優(yōu)選地，所述的防劃層上還設(shè)有防指紋膜。
[0009]優(yōu)選地，所述的防劃層的厚度為5nm?300nmo
[0010]優(yōu)選地，所述的玻璃基板為無機(jī)玻璃或有機(jī)玻璃。
[0011 ] 優(yōu)選地，所述的鍍膜玻璃基板的薄膜結(jié)構(gòu)為:玻璃基板\ 二氧化鈦薄膜\ 二氧化硅薄膜\二氧化鈦薄膜\二氧化硅薄膜\氟化鑭薄膜。
[0012]本實(shí)用新型的另一目的是提供一種防刮耐磨的手機(jī)。
[0013]所采用的技術(shù)方案是，一種手機(jī)，包括顯示屏模塊、主板模塊、殼體，所述的顯示屏模塊包括顯示屏、導(dǎo)電膜、位于觸摸導(dǎo)電膜外側(cè)的鍍膜玻璃基板，所述的玻璃基板上鍍有防劃層，所述的防劃層為氟化鑭薄膜或氟化鈰薄膜或氟化釔薄膜或氟化釹薄膜或氟化鐠薄膜，所述的防劃層的硬度大于莫氏硬度4.0級。
[0014]由于上述技術(shù)方案運(yùn)用，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):本實(shí)用新型在玻璃基板上鍍覆金屬氟化物薄膜，提高玻璃基板表面的硬度、耐磨和防劃性能。
【附圖說明】
[0015]附圖1為本實(shí)用新型玻璃基板的實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)圖；
[0016]附圖2為本實(shí)用新型玻璃基板的實(shí)施例二的結(jié)構(gòu)圖。
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖及【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。本說明書中所述的“上”、“下”方向分別對應(yīng)附圖1中的上、下方向。
[0018]本實(shí)用新型公開了一種鍍膜玻璃基板，所述的玻璃基板上鍍有防劃層，所述的防劃層為氟化鑭薄膜(LaF3)或氟化鈰薄膜(CeF3)或氟化釔薄膜(YF3)或氟化釹薄膜(NdF3)或氟化鐠薄膜(PrF3)，這些氟化物通過蒸發(fā)、物理濺射、化學(xué)氣相沉積或多弧離子鍍的鍍膜方法形成在玻璃基板上，并且成膜后具有良好的透光性，硬度大于莫氏硬度4.0級。由于該防劃層具有一定硬度，同時這幾種金屬氟化物薄膜具有較低的表面能，因此鍍膜表面光滑，滑動摩擦系數(shù)小，能夠起到良好的耐磨和耐劃作用。優(yōu)選實(shí)施例中，該防劃層為氟化鑭薄膜或氟化鐘薄膜，防劃層的厚度優(yōu)選5?50nm。
[0019]附圖1為本實(shí)用新型的實(shí)施例一，其公開了一種鍍膜玻璃基板，在玻璃基板的一側(cè)表面蒸發(fā)鍍有光學(xué)減反膜:12nm厚T1jP 125nm厚S1J莫；再用射頻磁控濺射CeF 3陶瓷靶，在T12上鍍1nm厚CeF 3薄膜作為防劃層，最后，在CeF 3薄膜上涂覆防指紋膜。得到產(chǎn)品結(jié)構(gòu)如附圖1所示，鍍膜后的材料透光率大于92%，親水角為110度，莫氏硬度為4.5級，還具有防指紋、耐標(biāo)記油墨性、滑動性好的優(yōu)點(diǎn)。
[0020]附圖2為本實(shí)用新型的實(shí)施例二，其公開了一種鍍膜玻璃基板。具體地說，用中頻直流電源，通過磁控濺射在玻璃基板的一側(cè)表面上依次鍍四層膜，膜層結(jié)構(gòu)為玻璃基片、14nm厚Ti02、22nm厚Si02、48nm厚T12UlOnm厚S12,其厚度正好滿足光學(xué)減反條件。再通過射頻磁控濺射1^&陶瓷靶，鍍1nm厚的LaF 3薄膜作為防劃層，得到如圖2所示的薄膜結(jié)構(gòu)。通過光譜分析發(fā)現(xiàn)，鍍1^匕薄膜以后，減反膜的反射光譜向短波長方向移動了約50納米，而其減反效果不變。這意味著，由此得到了 1^&折射率與S12相近。鍍膜后的材料透光率大于94%，莫氏硬度大于4.5級，與玻璃的磨差系數(shù)為0.11，親水角為92度，具有良好的耐摩擦和防劃傷性能。
[0021]本實(shí)用新型還公開了一種具有上述玻璃基板的手機(jī)，該手機(jī)包括顯示屏模塊、主板模塊、殼體，所述的顯示屏模塊包括顯示屏、導(dǎo)電膜，上述實(shí)施例一或?qū)嵤├腻兡げＡЩ甯采w在導(dǎo)電膜的外側(cè)。
[0022]上述實(shí)施例只為說明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種鍍膜玻璃基板，其特征是:所述的玻璃基板上鍍有防劃層，所述的防劃層為氟化鑭薄膜或氟化鈰薄膜或氟化釔薄膜或氟化釹薄膜或氟化鐠薄膜，所述的防劃層的硬度大于莫氏硬度4.0級。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜玻璃基板，其特征是:所述的玻璃基板與所述的防劃層之間還設(shè)有光學(xué)減反膜層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜玻璃基板，其特征是:所述的光學(xué)減反膜層包括兩層薄膜，所述的兩層薄膜分別是依次鍍在所述的玻璃基板上的二氧化鈦薄膜和二氧化硅薄膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜玻璃基板，其特征是:所述的光學(xué)減反膜層包括四層薄膜，所述的四層薄膜分別是依次鍍在所述的玻璃基板上的二氧化鈦薄膜、二氧化硅薄膜、二氧化鈦薄膜、二氧化硅薄膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜玻璃基板，其特征是:所述的防劃層上還設(shè)有防指紋膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜玻璃基板，其特征是:所述的防劃層的厚度為5nm?300nmo
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜玻璃基板，其特征是:所述的玻璃基板為無機(jī)玻璃或有機(jī)玻璃。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜玻璃基板，其特征是:所述的鍍膜玻璃基板的薄膜結(jié)構(gòu)為:玻璃基板\二氧化鈦薄膜\二氧化硅薄膜\二氧化鈦薄膜\二氧化硅薄膜\氟化鑭薄膜。
9.一種手機(jī)，包括顯示屏模塊、主板模塊、殼體，所述的顯示屏模塊包括顯示屏、導(dǎo)電膜，其特征是:所述的導(dǎo)電膜外側(cè)覆蓋有如權(quán)利要求1?8中任意一項所述的鍍膜玻璃基板。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種鍍膜玻璃基板以及具有該鍍膜玻璃基板的手機(jī)，所述的玻璃基板上形成有防劃層，所述的防劃層為氟化鑭薄膜或氟化鈰薄膜或氟化釔薄膜或氟化釹薄膜或氟化鐠薄膜所述的防劃層的硬度大于莫氏硬度4.0級。本實(shí)用新型的鍍膜玻璃基板具有良好的耐磨和防劃性能。
【IPC分類】B32B17-06, C03C17-22, B32B33-00
【公開號】CN204398427
【申請?zhí)枴緾N201420735652
【發(fā)明人】高佳, 郭射宇, 武平
【申請人】蘇州力合光電薄膜科技有限公司
【公開日】2015年6月17日
【申請日】2014年11月28日