專利名稱：有機el裝置的制造方法、有機el裝置、電子儀器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于有機EL裝置的制造方法、有機EL裝置、以及具有該 有機EL裝置的電子儀器。
背景技術(shù)：
以往作為能夠進行全色顯示的有機電致發(fā)光裝置(以下稱作有機EL 裝置)，已知有將白色發(fā)光層和濾色片組合的裝置(例如，參照專利文獻 1)。這種有機EL裝置，由于R、 G、 B的各像素壽命非常均勻，所以長 時間使用時也能保持良好的色平衡。特開平10—125474號公報
然而，上述現(xiàn)有的白色發(fā)光層是由低分子發(fā)光材料形成的，因此， 對其成膜使用蒸鍍法。由此，難以保證材料的有效利用。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是鑒于這種事實，其目的是提供一種能有效利用材料而降 低制造成本的有機EL裝置的制造方法，和該有機EL裝置，以及具有該 有機EL裝置的電子儀器。
為了解決上述課題，本發(fā)明的有機EL裝置的制造方法，其特征在于， 在具有白色發(fā)光層和濾色片的有機EL裝置的制造方法中，上述白色發(fā)光 層是通過液滴噴出法形成的。
該方法中，由于是通過液滴噴出法只在所定的區(qū)域內(nèi)有選擇性地配
5置發(fā)光材料，所以能有效地使用高價的發(fā)光材料。該方法中，為了能很 好地進行液滴噴出，所以白色發(fā)光層最好由高分子材料形成。所謂"高 分子"是指分子量比分子量為數(shù)百的所謂"低分子"大的聚合物，上述 高分子材料中，除了包括一般稱作高分子的分子量在ioooo以上的聚合 物外，還可包括分子量在10000以下的稱作低聚物的低聚物。
然而，上述方法中，不僅是白色發(fā)光層，而且上述濾色片最好也通 過液滴噴出法形成。這種情況下，白色發(fā)光層和濾色片的形成方法，根
據(jù)有機EL裝置是底部發(fā)射結(jié)構(gòu)，還是頂部發(fā)射結(jié)構(gòu)而進行決定，但作為
其方法，例如可考慮如下方法。
(1) 具有通過液滴噴出法，在一塊基板上形成上述濾色片的工序；
和通過液滴噴出法，在同一基板上的上述濾色片上方形成上述白色發(fā)光 層的工序。
(2) 具有通過液滴噴出法，在一塊基板上形成上述白色發(fā)光層的 工序；和通過液滴噴出法，在同一基板上的上述白色發(fā)光層上方形成上
述濾色片的工序。
(3) 具有通過液滴噴出法，在一塊基板上，形成上述白色發(fā)光層 的工序；通過液滴噴出法，在與上述基板不同的基板上形成上述濾色片 的工序；和將兩塊基板貼合在一起的工序。
上述(1)是形成有機EL裝置具有底部發(fā)射結(jié)構(gòu)時的方法，上述(2)、 (3)是形成有機EL裝置具有頂部發(fā)射結(jié)構(gòu)時的方法。
上述(1)、 (2)的方法是在同一塊基板上，依次形成白色發(fā)光層和 濾色片，與上述(3)分別在不同的基板上形成，再將兩基板貼合的方法 不同，是不需要進行位置吻合(對位)。由此，能夠高精度化。反之，(3) 的方法，就高精度化而言，比上述(1)、 (2)方法稍差些，但由于將白 色發(fā)光層和濾色片分別制作在不同的基板上，所以就合格率而言，是有 利的。
如上述(2)的方法，在白色發(fā)光層上制作濾色片時，最好在上述白 色發(fā)光層和濾色片之間形成保護膜，以使在形成該濾色片的工序中，不 會導致下面的白色發(fā)光層劣化。
上述(2)的方法中，在形成上述濾色片的工序之前，最好在上述保護膜的表面上形成疏液部圖案，在形成上述濾色片的工序中，通過液滴 噴出法，在上述疏液部以外的區(qū)域內(nèi)，配置包括形成上述濾色片材料的 液體材料。這時，形成疏液部的工序可以通過具有以下工序的工序進行， 例如，將含氟氣體作為處理氣體，對上述保護膜的表面實施等離子體處 理的工序；和相對于實施了上述等離子體處理的保護膜，對形成上述濾 色片的區(qū)域有選擇性地照射紫外線的工序。
一般是形成濾色片時，首先，
利用光刻法形成圍堰(bank)層，在由該圍堰層圍成的區(qū)域內(nèi)，配置濾 色片的形成材料。然而，將該方法適用于上述(2)時，形成圍堰層時的
濕法工藝會導致下面白色發(fā)光層劣化。為此，采用不使用濕法工藝的本
方法，能夠制造出信賴性高的有機EL裝置。因此，通過在陰極上形成的 保護膜中混入紫外線吸收劑，可以保護發(fā)光層，免受為在像素區(qū)域付與 親液性的紫外線影響。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的制造方法，其特征在于，在制造具有 發(fā)白色光的白色發(fā)光層、發(fā)白色光以外其他色光的色發(fā)光層、和濾色片 的有機EL裝置的方法中，通過液滴噴出法形成上述白色發(fā)光層和色發(fā)光 層。本方法中，可與上述白色發(fā)光層相對應(yīng)形成上述濾色片?；蛘撸c 上述白色發(fā)光層和上述色發(fā)光層雙方都對應(yīng)而形成上述濾色片。
根據(jù)本發(fā)明，由于是通過液滴噴出法，只在所定的區(qū)域內(nèi)有選擇性 地配置發(fā)光材料，所以可以有效地使用高價的發(fā)光材料。
本發(fā)明的有機EL裝置的制造方法中，最好通過液滴噴出法形成上述 濾色片。
根據(jù)本發(fā)明，可以節(jié)省濾色片材料，并能進一步降低裝置的成本。
本發(fā)明的有機EL裝置的制造方法中，上述色發(fā)光層的尺寸和上述白 色發(fā)光層的尺寸，可以根據(jù)上述色發(fā)光層的發(fā)光光的亮度和透過上述濾 色片的白色發(fā)光層的發(fā)光光的亮度適當確定。
根據(jù)本發(fā)明方法，透過濾色片的色光與從色發(fā)光層發(fā)出的色光之間， 可以保持良好的色平衡。
本發(fā)明的有機EL裝置，其特征在于，在具備白色發(fā)光層和濾色片的 有機EL裝置中，上述白色發(fā)光層是在由圍堰層劃分的區(qū)域內(nèi)，通過液滴 噴出法形成。由此，可廉價提供顯示質(zhì)量高的有機EL裝置。這種情況下，為了能順利實施液滴噴出法，上述白色發(fā)光層最好由高分子發(fā)光材料形 成。
上述構(gòu)成中，上述濾色片最好通過液滴噴出法形成。具體講，上述 濾色片可以通過液滴噴出法，在由與區(qū)分白色發(fā)光層用的圍堰層不同的 圍堰層劃分的區(qū)域內(nèi)形成?；蛘?，上述濾色片可以通過液滴噴出法，在 形成疏液圖案的基板上未形成該疏液圖案的區(qū)域(具有相對親液性的區(qū) 域)內(nèi)形成。這樣，濾色片也是通過液滴噴出法形成，所以能更加廉價
地提供有機EL裝置。
本發(fā)明的有機EL裝置，其特征在于，在具有發(fā)白色光的白色發(fā)光層、 和發(fā)白色光以外其他色光的色發(fā)光層、和濾色片的有機EL裝置中，上述 白色發(fā)光層和上述色發(fā)光層是通過液滴噴出法，在由圍堰層劃分的區(qū)域 內(nèi)形成。在本構(gòu)成中，上述濾色片可與上述白色發(fā)光層相對應(yīng)設(shè)置，或 者，上述濾色片與上述白色發(fā)光層和上述色發(fā)光層都對應(yīng)設(shè)置。本構(gòu)成 中，為了能順利實施液滴噴出法，上述白色發(fā)光層和上述色發(fā)光層最好 由高分子發(fā)光材料形成。
根據(jù)本構(gòu)成，可廉價地提供顯示質(zhì)量高的有機EL裝置。 本發(fā)明的有機EL裝置中，上述濾色片最好通過液滴噴出法形成。具 體講，上述濾色片是通過液滴噴出法，在由與區(qū)分白色發(fā)光層和色發(fā)光 層的圍堰層不同的圍堰層劃分的區(qū)域內(nèi)形成。或者，通過液滴噴出法， 在形成疏液圖案的基板上未形成該疏液圖案的區(qū)域(具有相對親液性的 區(qū)域)內(nèi)形成。
根據(jù)本構(gòu)成，可以廉價地提供顯示質(zhì)量高的有機EL裝置。 本發(fā)明的電子儀器，其特征在于，具有上述本發(fā)明的有機EL裝置。 由此，可以廉價提供具有高質(zhì)量顯示部分的電子儀器。


圖1是用來說明本發(fā)明第1種實施方式的有機EL裝置的制造方法的 工序圖。
圖2是繼圖1的工序圖。 圖3是繼圖2的工序圖。
8圖4是表示元件基板的另一形成方法的工序圖。
圖5是用來說明本發(fā)明的第2種實施方式的有機EL裝置的制造方法
的工序圖。
圖6是繼圖4的工序圖。 圖7是繼圖5的工序圖。
圖8是用來說明本發(fā)明第3種實施方式的有機EL裝置的制造方法的 工序圖。
圖9是繼圖6的工序圖。
圖10是本發(fā)明第4種實施方式的有機EL裝置的電路構(gòu)成圖。 圖ll是同，平面構(gòu)成圖。 圖12是表示同，像素結(jié)構(gòu)的平面模式圖。 圖13是表示圖11中A—A'截面模式圖。 圖14是表示同，另一構(gòu)成例的截面模式圖。
圖15是表示本發(fā)明第5種實施方式的有機EL裝置像素結(jié)構(gòu)的平面 模式圖。
圖16是表示圖14中A—A，截面模式圖。
圖17是表示本發(fā)明第6種實施方式的有機EL裝置像素結(jié)構(gòu)的平面 模式圖。
圖18是表示圖16中A—A'截面模式圖。 圖19是表示同，有機EL裝置的另一構(gòu)成例平面模式圖。 圖20是表示本發(fā)明電子儀器的一例的立體圖。 圖中，IOA、 30A、 40A—基板，14、 14R、 14G、 14B、 42、 42R、 42G、 42B、 45、 45R、 45G、 45B —濾色片，18、 36—白色發(fā)光層，18R、 18G 一色發(fā)光層，44—保護膜，100、 200、 300、 400、 500、 600 —有機EL裝 置，IOOO—電子儀器，Ll、 L2、 L3、 L4、 L5、 L6、 L7—液體材料
具體實施例方式
第1種實施方式
首先，邊參照圖1 圖3，邊對本發(fā)明的第1種實施方式的有機EL 裝置及其制造方法進行說明。圖1 圖3分別是用來說明本實施方式的有機EL裝置的制造方法的工序圖。各圖中，R (紅)、G (綠)、B (藍)表
示三個像素區(qū)域的截面結(jié)構(gòu)。各圖中，為了能在圖面上識別各層和各部 分的大小，對各層和各部分采用了不同的縮比尺寸。
本實施方式的有機EL裝置是具有R (紅)、G (綠)、B (藍)三種 像素的全色有機EL顯示裝置。如圖3 (c)所示，本實施方式的有機EL 顯示裝置100中，在設(shè)有陽極(像素電極)15的元件基板10上，設(shè)有區(qū) 別劃分各像素的圍堰層16，在由該圍堰層16劃分的區(qū)域內(nèi)形成包括白色 發(fā)光材料的電光學層(發(fā)光功能層)E。在圍堰層16中，與各像素相對 應(yīng)的位置上設(shè)置開口部，在該開口部內(nèi)，露出陽極15的位置上設(shè)有上述 電光學層E。并設(shè)有陰極(對向電極)19以覆蓋住這些圍堰層16和發(fā)光 功能層E。
陽極15和陰極19由ITO及其他導電材料形成。例如，在由陽極側(cè) 射出從電光學層E發(fā)出光的底部發(fā)射型結(jié)構(gòu)中，對于陽極15，可使用ITO 等透光性導電材料。而且從陽極側(cè)取出向陰極側(cè)發(fā)出的光那樣，對于陰 極19，最好采用Al、 Ag等高反射率的金屬材料，或者采用Al / ITO等 透光性材料和高反射率金屬材料形成的層疊結(jié)構(gòu)。反之，在由陰極側(cè)取 出發(fā)光光的頂部發(fā)射型結(jié)構(gòu)中，對于陰極19，使用透光性導電材料，對 于陽極15，使用高反射率的導電材料。這種情況下，陰極19，例如使用 A乂夕7?？谝粊V (BCP)和銫(Cs)的共蒸鍍膜，進而為了付與導電性， 最好采用所說的ITO形成層疊的結(jié)構(gòu)。并陰極19配置成，以覆蓋住圍堰 層16和電光學層E的露出面，對于各像素，以共同的共同電極發(fā)揮功能。
本實施方式中，采用的是從基板主體10A側(cè)(即，透過濾色片層13) 取出從電光學層E發(fā)出的光的底部反射型結(jié)構(gòu)，對于陽極15使用了 ITO 等透光性導電材料。
對于元件基板10，在由玻璃或樹脂形成的透光性基板主體IOA上， 依次層疊電路元件部11、層間絕緣膜12、濾色片層13，在該濾色片層 13上，與各像素相對應(yīng)形成有矩陣狀的上述陽極15。對于電路元件部U， 設(shè)置有掃描線和信號線等各種配線、保持圖案信號用的保持電容(都未 圖示)、和作為像素開關(guān)元件的TFTlla等電路。
對于濾色片層13，以圍堰層141區(qū)分的形式，設(shè)置有成矩陣狀的R、
10G、 B三種濾色片14R、 14G、 14B。對于圍堰層141，在與上述圍堰層16 的開口部形成平面重疊的位置上設(shè)有開口部，各個濾色片14R、 14G、 14B 設(shè)置在由圍堰層141劃分的區(qū)域內(nèi)。另外，在本說明書中，是將包括這 些濾色片14R、 14G、 14B和圍堰層141的層作為濾色層13。
電光學層E，例如，由空穴注入/輸送層17、和包括白色發(fā)光材料 的白色發(fā)光層18從下層側(cè)依次形成層疊的結(jié)構(gòu)。
作為空穴注入/輸送層17的形成材料，最好使用聚噻吩、聚苯乙烯 磺酸、聚吡咯、聚苯胺s及其衍生物等高分子材料。作為白色發(fā)光層18 的形成材料(發(fā)光材料)，能使用高分子發(fā)光體和低分子的有機發(fā)光色素， 即各種熒光物質(zhì)和磷光物質(zhì)等的發(fā)光物質(zhì)。形成發(fā)光物質(zhì)的共軛系高分 子中，最好的是包括亞芳香基乙烯撐或聚芴結(jié)構(gòu)的高分子等。本實施方 式中，由于利用噴墨法(液滴噴出法)形成該白色發(fā)光層18，所以作為 這種發(fā)光材料，最好使用高分子材料，例如最好使用將聚二辛基芴(PFO) 和MEH—PPV按9: 1的比率進行混合的。本實施方式中，雖然將電光 學層E形成上述2層的層疊結(jié)構(gòu)，但也可以根據(jù)需要，在發(fā)光層18上設(shè) 置電子輸送層和電子注入層等。
如此構(gòu)成的基板可利用密封材料20進行密封。作為該密封材料20， 最好具有氣體阻擋性的材料，例如，可以使用如Si02等硅氧化物、SiN 等硅氮化物、或者SiOxNy等硅氧氮化物。在陰極19和密封材料20之間， 也可以根據(jù)需要設(shè)置保護膜。另外，配置在陽極15的下層側(cè)的層間絕緣 膜32，由這種硅氧化物、硅氮化物、硅氧氮化物構(gòu)成時，由陽極15、電 光學層E、陰極19形成的EL元件，可以由氣體阻擋性膜(即，層間絕 緣膜12和密封材料20)包覆起來，構(gòu)成可靠性更高的有機EL裝置。
以下對本實施方式的有機EL裝置的制造方法進行說明。
本實施方式的有機EL顯示裝置100制造方法，例如具備(l)形成 濾色片的工序；(2)形成陽極(像素電極)的工序；(3)形成電光學層 (發(fā)光功能層)的工序；和(4)形成陰極(對向電極)的工序；以及密 封工序。而且，該制造方法，并不僅限于本實施方式，根據(jù)需要還有排 除或追加其他工序的情況。以下對各個工序進行說明。 (1)形成濾色片的工序
ii在此首先作為前階段，準備形成如圖1 (a)所示電路元件部11和層
間絕緣膜12的基板主體IOA。對于形成這些電路元件部11、層間絕緣膜 12的工序，可以使用公知的方法。
接著，如圖1 (b)所示，在圍繞各像素的位置上(非像素區(qū)域)，以
格子狀，由感光性材料等形成圍堰層141。具體是在基板上涂布丙烯樹脂 或聚酰亞胺樹脂等具有耐熱性、耐溶劑性的感光性材料，利用光刻法技 術(shù)，在與各像素相對應(yīng)的位置上形成開口部H1。這時，在圍堰層141和 層間絕緣膜12上形成與TFTlla相通的開口部(接觸孔)H2。
接著，通過液滴噴出法，在圍堰層141的各開口 Hl處，分別形成對 應(yīng)色的濾色片。在該工序中，作為液滴噴出裝置，例如使用噴墨裝置， 一邊使噴墨噴頭51與基板作相對移動， 一邊向圍堰層開口部H1內(nèi)噴出 包括濾色片形成材料的液體材料。具體是將各色(圖1 (c)中為藍(B)) 的顏料或色素分散在分散劑中調(diào)制成著色油墨(液體材料)，并填充到噴 墨噴頭51內(nèi)，從噴嘴，將該著色油墨，以控制每1滴液量的著色油墨滴 L1噴出到開口部H1內(nèi)(液滴噴出工序)。這樣，將著色油墨填充到開口 部H1內(nèi)后，進行干燥，除去液體材料中的溶劑(干燥工序)。該干燥工 序，可以單獨使用或并用真空干燥、加熱干燥、其他已知的干燥方法進 行。通過該處理，蒸發(fā)掉油墨中所含的溶劑，最終只殘留下油墨中所含 的固體成分(顏料或色素等)，并形成膜，得到圖1 (d)所示的濾色片 14B。而且，在濾色片形成用的油墨中，也可以添加顏料和色素以外的樹 脂成分等。這種情況下，形成樹脂中分散了顏料的濾色片、和由色素染 色的濾色片。在使用不分散樹脂僅是色素的情況下，由于能形成非常薄 的濾色片，所以配置在濾色片上的保護膜等也能形成平坦性非常好的膜。
另外，在液滴噴出工序中，為了不使油墨L1配置在圍堰層141上面， 最好利用將含氟氣體作為處理氣體的等離子體處理等，預先使圍堰層141 的表面形成疏液化。通過如此處理，即使油墨著落位置發(fā)生偏差，而落 在圍堰上面的油墨也被排斥，使之滾入圍堰開口部H1內(nèi)而填充。
接著，如圖1 (e)所示，使用和上述藍色(B)濾色片14B同樣的 工序，依次形成紅色(R)濾色片14R、和綠色(G)濾色片14G、濾色 片14R、 14G、 14B的形成順序，并不僅限于上述順序，也可以任意順序形成。
(2) 形成陽極(像素電極)的工序
在此，如圖2 (a)所示，通過濺射法和CVD法等，在整個基板面上 形成導電材料膜，并通過形成圖案在各個像素區(qū)域內(nèi)形成陽極15。該陽 極15， 一般使用ito等透光性導電材料。在陽極15和濾色片13之間， 根據(jù)需要也可以形成保護膜。在形成該保護膜時，可以采用旋轉(zhuǎn)涂布法、 輥子涂布法、浸漬涂布法等方法，但也能和濾色片的情況同樣，使用液 滴噴出裝置進行。
(3) 形成電光學層(發(fā)光功能層)的工序
在此，首先如圖2 (b)所示，在圍繞各像素的位置(非像素區(qū)域) 上，以格子狀形成區(qū)別劃分各像素的圍堰層16。具體是在基板上涂布丙 烯樹脂和聚酰亞胺樹脂等具有耐熱性、耐溶劑性的感光性材料，通過光 刻法技術(shù)，在配置陽極15的區(qū)域內(nèi)形成開口部h3。
接著，如圖2 (c)所示，通過液滴噴出法，在圍堰層16的各個開口 部h3內(nèi)形成空穴注入/輸送層。該工序中，首先， 一邊使噴墨噴頭52 與基板作相對移動， 一邊將包括空穴注入/輸送層形成材料的液體材料 l2噴出到圍堰開口部h3內(nèi)(液滴噴出工序)。這樣將液體材料l2填充 到開口部H3內(nèi)后，如圖2 (d)所示，將液體材料中的溶劑干燥，去除， 使液體材料l2中所含的空穴注入/輸送層形成材料形成膜(干燥工序)。 由此，在陽極15的露出面上形成空穴注入/輸送層17。作為液體材料 l2，例如可以使用將聚乙烯二噻吩(pedot)等聚噻吩衍生物和聚苯乙 烯磺酸(pps)等的混合物(空穴注入/輸送層形成材料)溶解在極性溶 劑中形成的液體材料。作為極性溶劑，例如可以使用異丙醇(ipa)、正 丁醇、y-丁內(nèi)脂、n-甲基吡咯烷酮(nmp)、 1,3-二甲基-2-咪唑烷酮(dmi) 及其衍生物、卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯等乙二醇類。以適宜噴 墨法的組成，可將上述材料混合。
在液滴噴出工序中，為了不使油墨l2落在圍堰層16上面，最好利 用將含氟氣體作為處理氣體的等離子體處理等，對圍堰層16表面預先形 成疏液化。另外，具有空穴注入/輸送層形成工序在內(nèi)的以后各個工序， 最好形成無水、無氧的氣氛，例如，最好在氮氣氣氛、氬氣氣氛等惰性氣體氣氛中進行。
接著，如圖3 (a)所示，通過液滴噴出法，在空穴注入/輸送層17 上形成發(fā)光層。在該工序中，首先， 一邊使噴墨噴頭53與基板作相對移 動， 一邊將包括發(fā)光層形成材料(發(fā)光材料)的液體材料L3噴出到圍堰 開口部H3內(nèi)(液滴噴出工序)。這樣，將液體材料L3填充到開口部H3 內(nèi)后，如圖3 (b)所示，將液體材料中的溶劑干燥、去除，使液體材料 L3中所含的發(fā)光材料形成膜(干燥工序)。由此，在空穴注入/輸送層 17的露出面上形成發(fā)光層18。作為液體材料L3，可以使用將聚二辛基芴 (PEO)和MEH—PPV以9: 1的比率進行混合的混合物(發(fā)光材料)溶 解在溶劑中形成的液體材料。作為該溶劑，最好是對空穴注入/輸送層 17不溶的溶劑，例如，可以使用環(huán)己苯、二氫苯基呋喃、三甲苯、四甲 苯等非極性溶劑。由于將這種非極性溶劑用于發(fā)光材料的溶劑，不會溶 解空穴注入/輸送層17，能夠?qū)σ后w材料L3進行涂布。
根據(jù)以上描述，在陽極15上形成電光學層E。 (4)形成陰極(對向電極)的工序、及密封工序
在此，如圖3 (c)所示，通過濺射法和CVD法，在整個基板面上形 成A1和Ag等導電材料膜，并由單層的導電層形成陰極19。陰極19也 可以形成為A1等單層膜。為了使EL元件有效地發(fā)光，也可以采用電子 注入層和導電層一類的層疊結(jié)構(gòu)。這種情況下，其構(gòu)成最好是在靠近發(fā) 光層一側(cè)，由Ca、 Ba等功函數(shù)小的材料形成電子注入層。根據(jù)發(fā)光材料， 也可以在Ca、 Ba的發(fā)光層側(cè)，由LiF等形成薄層。電子注入層和導電層 的成膜方法，最好從電阻加熱蒸鍍法、濺射法等已知的成膜方法中選出 適宜的方法。該陰極19的厚度，例如，最好為100 1000nm的范圍、更 好為200 500nm。在形成該陰極19時，與形成上述空穴注入/輸送層 17和發(fā)光層18時不同，由于是以蒸鍍法或濺射法等進行。所以只在像素 區(qū)域有選擇性地不配置導電材料，而是將導電材料設(shè)在基板的整個面上。
接著，在基板的整個面上形成密封材料20，以防止陰極19和電光學 層E受水分和氧等影響而劣化。作為這種密封材料20，最好具有氣體阻 擋性，例如可以使用Si02等硅氧化物、SiN等硅氮化物、或SiOxNy等硅 氧氮化物。為了進一步獲得效果，也可以在這些無機氧化物層上，形成丙稀酯或聚酯、和環(huán)氧等樹脂層的層疊。
如以上說明，本實施方式中，是通過液滴噴出法，只在所定區(qū)域內(nèi) 有選擇性地配置發(fā)光材料，所以能有效地使用高價發(fā)光材料。本實施方 式中，由于是在同一塊基板上依次形成白色發(fā)光層18和濾色片14R
14B，所以，例如與在和基板主體10A不同的基板上形成濾色片后，將兩
塊基板貼合的情況比較，不需要進行位置吻合，由此能實現(xiàn)高精度化。
以上雖然參照圖1 圖3，對本發(fā)明的最佳實施方式例作了說明，但 本發(fā)明不受該實例限定也是當然的。將上述例中所示的各構(gòu)成部件的諸 種形態(tài)和組合等，就是一例，在不超出本發(fā)明宗旨的范圍內(nèi)，根據(jù)設(shè)計 要求等，能作種種變更。例如，本實施方式中，對于元件基板10的形成 工序，雖然依次進行了形成電路元件部11的形成工序；形成層間絕緣
膜12的工序；形成圍堰層141的工序；形成開口部H1、 H2的工序；形 成濾色片14的工序；和形成像素電極的工序，但這個順序號并不限于此，
只要符合形式可作種種變更。
圖4是形成濾色片14后形成接觸孔H2的示例。在該例中，首先， 用圖1 (a)相同的方法，在基板主體10A上依次形成電路元件部11、層 間絕緣膜12、和圍堰層141。接著，如圖4 (a)所示，通過光刻法技術(shù)， 在與各像素對應(yīng)的位置上形成開口部Hl。在與TFTlla對應(yīng)的位置上形 成開口部H7，接著，如圖4 (b)所示，通過液滴噴出法，在開口部H1 內(nèi)形成濾色片14。接著，如圖4 (c)所示，形成Si02等無機絕緣膜142， 以覆蓋住圍堰層141和濾色片14的表面及圍堰層141的開口部H7內(nèi)面。 該無機絕緣膜142具有如下保護功能，即，在層間絕緣膜12上形成接觸 孔時，圍堰層141和濾色片14不會受到蝕刻而損壞，在剝離蝕刻用形成 的抗蝕劑掩模時，同樣由有機膜形成的圍堰層141等不會與抗蝕劑掩模 一起剝離掉。接著，如圖4 (d)所示，對無機絕緣膜142和層間絕緣膜 12進行蝕刻，在開口部H7的內(nèi)側(cè)，形成與TFTlla相通的開口部(接觸 孔)H8。接著，如圖4 (e)所示，通過濺射法和CVD法等，在整個基 板面上形成導電材料膜，并通過形成圖案，在各像素區(qū)域內(nèi)形成陽極15， 通過以上工序形成元件基板10。
15第2種實施方式
以下參照圖5 圖7，對本發(fā)明的第2種實施方式涉及的有機EL裝
置及其制造方法進行說明。
本實施方式的有機EL裝置，如圖7(e)所示，是將形成EL元件的 元件基板30，與形成R (紅)、G (綠)、B (藍)三種濾色片42 (42R、 42G、 42B)的對向基板40，通過粘接層43貼合在一起的頂部發(fā)射型全 色有機EL顯示裝置。本實施方式的有機EL顯示裝置200中，在設(shè)有陽 極(像素電極)33的元件基板30上設(shè)有區(qū)別劃分各像素的圍堰層34， 在由該圍堰層34劃分的區(qū)域內(nèi)，形成包括白色發(fā)光材料的電光學層(發(fā) 光功能層)E。在圍堰層34中與各像素對應(yīng)的位置上設(shè)有開口部，在該 開口部內(nèi)，露出陽極33的位置上設(shè)有上述的電光學層E、并以覆蓋住這 些圍堰層34和電光學層E那樣，設(shè)有陰極(對向電極)37。
本實施方式中，由于采用了從陰極側(cè)取出由電光學層E發(fā)出的光的 頂部發(fā)射型結(jié)構(gòu)，所以對于陰極37，使用BCP和銫(Cs)的共蒸鍍膜， 進而為了付與導電性，采用了所謂ITO層疊的結(jié)構(gòu)。另外，采用在陽極 33上形成Al或Ag等高反射率金屬材料、或Al / ITO等透光性材料和高 反射率金屬材料的層疊結(jié)構(gòu)，以使陽極33側(cè)發(fā)出的光從陰極側(cè)取出。而 且配置陰極37，以覆蓋住圍堰層34和電光學層E的露出面，使各像素以 共同的共同電極發(fā)揮功能，這一點與上述第1種實施方式相同。作為這 時的陰極，除了本構(gòu)成外，可以同樣使用制膜的，即，作為電子注入層 使用功函數(shù)低的薄膜金屬層(例如，Ca、 Mg、 Ba、 Sr等)，作為電極主 體使用厚膜的金屬層(Al、 Ag、 Au等)，合計厚度在50nm或其以下。
對于元件基板30，在由玻璃或樹脂等形成的基板主體30A上，依次 層疊電路元件部31、層間絕緣膜32，在該層間絕緣膜32上，與各像素 相對應(yīng)，以矩陣狀形成上述陽極33。對于電路元件部31，設(shè)有掃描線或 信號線等各種配線、保持圖像信號的保持電容(都未圖示)、和作為像素 開關(guān)元件的TFT31a等電路。在本實施方式中，由于采用了頂部發(fā)射結(jié)構(gòu)， 所以基板主體30A沒有必要是透明的。為此，對于基板主體30A，除了 玻璃等透光性基板外，也可以使用半導體基板等半透明或不透明的基板。
電光學層E，例如，采用從下層側(cè)依次層疊空穴注入/輸送層35、
16和包括白色發(fā)光材料的白色發(fā)光層36的構(gòu)成。對于它們的形成材料，與 上述第l種實施方式同樣，此處省略說明。
如此構(gòu)成的基板用密封材料38進行密封。作為該密封材料38，最好
具有氣體阻擋性，例如可以使用硅氧化物、硅氮化物、或硅氧氮化物。 為了進一步獲得效果，最好在這些無機氧化物層上層疊丙烯、聚酯、環(huán)
氧等樹脂層。在陰極37和密封材料38之間，根據(jù)需要也可以設(shè)置保護 膜。
另一方面，對于對向基板40，在由玻璃或樹脂等形成的透光性基板 主體40A上設(shè)有濾色片層41。對于濾色片層41，以圍堰層421區(qū)分的形 式，設(shè)置矩陣狀的R、 G、 B三種濾色片42R、 42G、 42B。對于圍堰層 421，在與上述圍堰層34的開口部成平面重疊的位置上設(shè)有開口部，并 在由圍堰層421區(qū)分的區(qū)域內(nèi)設(shè)有各個濾色片42R、 42G、 42B。
以下對本實施方式的有機EL裝置的制造方法進行說明。
本實施方式的有機EL顯示裝置200制造方法，例如備有(l)形成 電光學層(發(fā)光功能層)的工序；(2)形成陰極(對向電磁)的工序、 密封工序；(3)形成濾色片的工序；和(4)貼合工序。該制造方法，并 不限于本實施方式，根據(jù)需要，有除去或追加其他工序的情況。以下對 各個工序進行說明。
(1)形成電光學層(發(fā)光功能層)的工序
在此，首先作為前階段，準備圖5 (a)所示的形成了電路元件部31、 層間絕緣膜32、陽極(像素電極)33的基板主體30A。這些電路元件部 31、層間絕緣膜32、陽極33的形成工序，可以使用公知的方法。
以下，如圖5 (b)所示，在圍繞各像素的位置(非像素區(qū)域)上， 以格子狀，由感光性材料等形成圍堰層34。具體是在基板上涂布丙烯樹 脂和聚酰亞胺樹脂等具有耐熱性、耐溶劑性的感光性材料，通過光刻法 技術(shù)，在配置陽極33的區(qū)域內(nèi)形成開口部H4。
接著，如圖5 (c)所示，通過液滴噴出法，在圍堰層34的各個開口 部H4內(nèi)形成空穴注入/輸送層。在該工序中，首先， 一邊使噴墨噴頭 54與基板作相對移動， 一邊向圍堰開口部H4內(nèi)噴出包括空穴注入/輸 送層形成材料的液體材料L4 (液滴噴出工序)。這樣在將液體材料L4填
17充到開口部H4內(nèi)后，如圖5 (d)所示，干燥除去液體材料中的溶劑，
使液體材料L4中所含的空穴注入/輸送層形成材料形成膜化(干燥工 序)。由此，在陽極33的露出面上形成空穴注入/輸送層35。作為液體 材料L4可以使用與上述第1種實施方式的液體材料L2相同的液體材料。
另外，在液滴噴出工序中，為了不使油墨L4落在圍堰層34上面， 最好通過將含氟氣體作為處理氣體的等離子體處理等，使圍堰層34表面 預先形成疏液化。具有該空穴注入/輸送層形成工序在內(nèi)的以后各工序， 最好形成無水、氧的氣氛，例如，最好在氮氣氣氛、氬氣氣氛等惰性氣 體氣氛中進行。
接著，如圖6 (a)所示，通過液滴噴出法，在空穴注入/輸送層35 上形成發(fā)光層。在該工序中，首先， 一邊使噴墨噴頭55與基板作相對移 動， 一邊向圍堰開口部H4內(nèi)，噴出包括發(fā)光層形成材料(發(fā)光材料)的 液體材料L5 (液滴噴出工序)。這樣，將液體材料L5填充到開口部H4 內(nèi)后，如圖6 (b)所示，干燥除去液體材料中的溶劑，使液體材料L5 中所含的發(fā)光材料形成膜(干燥工序)。由此，在空穴注入/輸送層35 的露出面上形成發(fā)光層36。液體材料L5可以使用與上述第1種實施方式 的液體材料L3同樣的液體材料。
通過以上工序在陽極33上形成電光學層E。 (2)形成陰極(對向電極)的工序、密封工序
首先，對電光學層E和圍堰層34的露出面形成BCP和Cs的共蒸鍍 膜，進而為了付與導電性，通過濺射法或CVD法等，在整個基板面上形 成ITO等透光性導電材料膜。由此，在基板上形成陰極37 (圖6 (c))。 對于陰極37，也可以采用像Ca / ITO等一類的電子注入層和透光性導電 層的層疊結(jié)構(gòu)。這種情況下，最好是在靠近發(fā)光層側(cè)，由Ca、 Ba等功函 數(shù)小的材料形成了電子注入層的構(gòu)成。也可以根據(jù)發(fā)光材料，在Ca或 Ba的發(fā)光層側(cè)，由LiF等形成薄層。電子注入層和導電層的成膜方法， 可從電阻加熱蒸鍍法、濺射法等公知的成膜方法中選出適宜的方法。該 陰極37的厚度，例如最好為100 1000nm的范圍，更好為200 500nm。 在該陰極37的形成中，與上述形成空穴注入/輸送層35和發(fā)光層36不 同，由于用蒸鍍法或濺射法等進行，所以只在像素區(qū)域內(nèi)有選擇性地不
18配置導電材料，而是將導電材料設(shè)在整個基板面上。
接著，在整個基板面上形成密封材料38，以防止陰極37和電光學層 E免受水分和氧等影響而劣化。作為該密封材料38，最好具有氣體阻擋 性，例如可以適當使用Si02等硅氧化物、SiN等硅氮化物、或SiOxNy等 硅氧氮化物。為了進一步獲得效果，也可以在這些無機氧化物層上形成 丙烯、聚酯、環(huán)氧等樹脂層的層疊。 (3)形成濾色片的工序
首先，準備玻璃或樹脂等透光性的基板主體40A。在該基板主體40A 上，如圖7 (a)所示，在圍繞各像素的位置上，g卩，與元件基板30的非 像素區(qū)域相對應(yīng)，以格子狀，由感光性材料等形成圍堰421。具體是在基 板上涂布丙烯樹脂或聚酰亞胺樹脂等具有耐熱性，耐溶劑性的感光性材 料，并通過光刻法技術(shù)，在與各像素相對應(yīng)的位置上形成開口部H5。
接著，通過液滴噴出法，在圍堰層421的各開口部H5，分別形成對 應(yīng)色的濾色片。該工序中，作為液滴噴出裝置，例如可以使用噴墨裝置， 一邊使噴墨噴頭56與基板作相對移動， 一邊向圍堰開口部H5內(nèi)噴出包 括濾色片形成材料的液體材料。具體是將各色(圖(b)為藍(B))的顏 料或色素分散在分散劑中調(diào)制成著色油墨(液體材料)，并填充到噴墨噴 頭56中，以控制每1液滴量的著色油墨滴L6，從噴嘴噴出的著色油墨滴 彈落到開口部H5內(nèi)(液滴噴出工序)。這樣將著色油墨填充到開口部H5 內(nèi)后，干燥除去液體材料中的溶劑(干燥工序)。該干燥工序，可以通過 單獨或并用真空干燥、加熱干燥、其他巳知的干燥方法進行。通過該處 理，蒸發(fā)掉油墨中的溶劑，最終只殘留下油墨中的固體成分(顏料或色 素等)，并形成膜，得到圖7 (c)所示的濾色片42B。在液滴噴出工序中， 為了不使油墨L6落在圍堰層421上面，最好利用將含氟氣體作為處理氣 體的等離子體處理等，對圍堰層421表面預先形成疏液化。通過如此處 理，假使油墨彈落位置發(fā)生偏差。落在圍堰上面的油墨也被排斥，也會 滾入填充到圍堰開口部H5內(nèi)。
接著，如圖7 (d)所示，使用和上述藍色(B)濾色片42B同樣的 工序，依次形成紅色(R)濾色片42R、綠色(G)濾色片42G。濾色片 42R、 42G、 42B的形成順序，并不僅限于上述順序，可以任意順序形成。
19(4)貼合工序
一邊使元件基板30側(cè)的像素與對向基板40側(cè)濾色片42的位置相吻 合， 一邊通過粘接層43將兩塊基板30、 40貼合在一起。該工序，例如， 將透明粘接劑涂布在整個對向基板40面上后，貼合在元件基板30上， 以所謂全面密封的形式進行。
正如以上說明，在本實施方式中，也是通過液滴噴出法，只在所定 的區(qū)域內(nèi)，有選擇性地配置發(fā)光材料，所以可以有效地使用高價發(fā)光材 料。另外，在本實施方式中，采用的是將白色發(fā)光層36和濾色片42R 42B分別在不同的基板上形成后，再將兩塊基板貼合在一起的方法。與上 述第1實施方式將它們制作在同一塊基板上的情況比較，就提高合格率 而言是有利的。
另外，在本實施方式中，雖然以液滴噴出法形成濾色片41，但也可 以使用其他方法，例如使用光刻技術(shù)而形成。
第3種實施方式
接著，參照圖8、圖9，對本發(fā)明的第3種實施方式涉及的有機EL 裝置及其制造方法進行說明。本實施方式中，對于和上述第2種實施方 式同樣的部件或部位，付與相同的符號，詳細說明省略。
本實施方式的有機EL裝置，是上述第2種實施方式中將濾色片直接 層疊形成在元件基板上的頂部發(fā)射型全色有機EL顯示裝置。S卩，本實施 方式的有機EL顯示裝置中，如圖9(c)所示，在基板主體30A上設(shè)置 多個依次層疊陽極(像素電極)33、電光學層(發(fā)光功能層)E、陰極37 而形成的EL元件，在該EL元件上，通過保護膜44，以島狀設(shè)置R(紅)、 G (綠)、B (藍)三種濾色片45 (45R、 45G、 45B)。而且，如此構(gòu)成的 基板用密封材料46進行密封。作為該密封材料46，最好采用和上述第2 種實施方式的密封材料38同樣的氣體阻擋性高的材料。
關(guān)于陰極37以下的構(gòu)成，由于和上述第2種實施方式的同樣，此處 省略其說明。
以下對本實施方式的有機EL裝置的制造方法進行說明。 本實施方式中，直到形成陰極37的工序和上述第2實施方式同樣，所以只對其以后的工序進行說明。
通過直到圖4 (a) 圖6 (c)的工序，在元件基板上形成電光學層 E、陰極37后，在本實施方式中，在陰極37上形成保護膜44。該保護膜 44可以使用無機氧化物層和有機層的二層結(jié)構(gòu)。無機氧化物層，例如， 將TEOS (四乙氧硅烷)或氧氣等作為原料，通過等離子體CVD法形成。 進而，在該無機氧化物層上形成混入紫外線吸收劑的熱固化型環(huán)氧樹脂 層疊，在50。C下固化，形成有機層。
接著，如圖8 (a)所示，在形成該保護膜44的基板表面上，以含氟 氣體(例如CF4)作為處理氣體，實施等離子體處理，使保護膜表面形成 疏液化。
接著，如圖8 (b)所示，利用抗蝕劑掩模曝光，對各個像素區(qū)域(即， 圖9中，形成濾色片45R、 45G、 45B的區(qū)域)有選擇性地照射紫外線， 使各像素區(qū)域的保護膜44表面形成親液化。圖8 (b)中，以一點連線示 出疏液部，以實線示出親液部。所謂"親液部"是指對在下述的液滴噴 出工序中使用的液體材料，親和性比疏液部相對高的區(qū)域。圖8 (b)中， 符號M表示掩模。
根據(jù)本工序，在保護膜40表面上形成圖案狀疏液部。 接著，如圖8 (c)所示，在保護膜表面形成的親液部上，分別形成 對應(yīng)色的濾色片。在該工序中，作為液滴噴出裝置，例如使用噴墨裝置， 一邊使噴墨噴頭57與基板作相對移動， 一邊對親液部噴出包括濾色片形 成材料的液體材料。具體是將各色(圖8 (c)中為藍(B)的顏料或色素 分散在分散劑中，調(diào)制成著色油墨(液體材料)，并填充到噴墨噴頭57 中，以控制每1滴液量的著色油墨滴L7，從噴嘴噴出，彈落在親液部內(nèi) (液滴噴出工序)。這樣將著色油墨噴出在親液部后，干燥除去液體材料 中的溶劑(干燥工序)。該干燥工序可以通過單獨或并用真空干燥、加熱 干燥、其他己知的干燥方法進行。通過該處理，蒸發(fā)掉油墨中的溶劑， 最后只殘留下油墨中的固體成分(顏料或色素等)，并形成膜，得到如圖 9 (a)所示的濾色片45B。而且，本工序中，由于將像素區(qū)域以外的區(qū)域 (非像素區(qū)域)形成疏液化，所以噴出的油墨不會超出像素區(qū)域擴展?jié)?潤，油墨確實地只配置在親液部(即，像素區(qū)域)內(nèi)。
21接著，如圖9 (b)所示，使用和上述藍色(B)濾色片45B同樣的 工序，依次形成紅色(R)濾色片45R、綠色(G)濾色片45 (G)。另夕卜， 濾色片45R、 45G、 45B的形成順序，并不僅限于上述順序，可以任意順 序形成。
接著，對整個基板面形成密封材料46，覆蓋住陰極37，以使保護陰 極37和電光學層E免受水分和氧等影響而劣化。作為這種密封材料46， 可以使用和上述第2種實施方式的密封材料38同樣的密封材料。
從而，在本實施方式中，也是通過液滴噴出法只在所定區(qū)域內(nèi)有選 擇性地配置，所以能有效地使用高價發(fā)光材料。本實施方式中，由于從 下層側(cè)依次形成電光學層E和濾色片45，與上述第2種實施方式進行貼 合的情況比較時，不需要對位，就能實現(xiàn)高精度化。本實施方式中，在 未設(shè)置圍堰層的情況下形成濾色片45。因此，底層的陰極37和電光學層 E不會受形成圍堰層的濕法工藝影響而劣化，從而得到可靠性更高的有機 EL裝置。
還有，在本實施方式中，作為保護膜，利用在無機氧化物膜上形成 環(huán)氧樹脂層疊的膜，但除了環(huán)氧樹脂外，還可以層疊丙烯、聚酯、聚醚 砜、聚酰亞胺等樹脂層。雖然對該保護膜表面進行等離子體處理形成疏 液部，但也可以取而代之，形成以通式RnSiX(")表示的自組織化膜(FAS 膜)。其中n表示l 3的整數(shù)，X是甲氧基、乙氧基、鹵原子等水解基。 R是氟烷基。以X表示的水解基受水解形成硅烷醇，與基板(玻璃、硅) 等的襯底羥基反應(yīng)，由硅氧垸鍵與基板進行結(jié)合。另一方面，由于R在 表面上具有(CF3)等氟基，所以基板等襯底表面不會潤濕(表面能低)， 而使表面改質(zhì)。這種FAS膜受紫外線照射而分解。由此，利用掩模曝光， 對配置在像素區(qū)域的FAS膜照射紫外線，可以使保護膜表面形成局部的 親液性。即，可在保護膜表面上形成圖案狀的疏液部。這些疏液部(疏 水圖案)的形成方法，不限于濾色片的形成，也能夠利用其他的工序。 本實施方式中，雖然不使用圍堰層形成濾色片45，但并沒有將使用圍堰 層的形成方法排出在外的意思。例如，通過使用蒸鍍掩模的真空蒸鍍法， 也能形成疏水性的樹脂膜，也能將該樹脂作為圍堰層形成濾色片。這種 情況下，通過使用液滴噴出法，在形成圍堰層的開口部內(nèi)配置著色油墨，形成濾色片。
第4種實施方式
以下參照圖10 圖13，對本發(fā)明的第4種實施方式涉及的有機EL 裝置進行說明。本實施方式的有機EL裝置400，是將有機EL元件作為 像素，在基體上進行排列配置形成的有機EL裝置，尤其是從基板側(cè)取出 由發(fā)光層發(fā)出的光而顯示的底部發(fā)射型有機EL顯示裝置。本實施方式的 有機EL裝置400的基本結(jié)構(gòu)，由于與上述第1種實施方式的有機EL裝 置相同，所以對于圖10 圖13中與圖1 圖3中同樣的部件或部位付與 相同的符號，詳細說明省略。
圖10是本實施方式的有機EL裝置的電路構(gòu)成圖，圖11是該有機 EL裝置的平面構(gòu)成圖，圖12是對其像素結(jié)構(gòu)放大的平面模式圖，圖13 是圖12中A—A，截面的模式圖，與圖3 (c)相對應(yīng)的圖。
如圖10所示，有機EL裝置400的構(gòu)成備有基板上將多條掃描線 131、與這些掃描線131交叉方向上延伸的多條信號線132、與這些信號 線132并列延伸的數(shù)條電源線133，分別配線，所以掃描線131和信號線 132的各個交點處，設(shè)置像素區(qū)域71。
對于信號線132，設(shè)有具備移位寄存器、電位移位器、視頻線路、和 模擬開關(guān)等的數(shù)據(jù)側(cè)驅(qū)動電路72。而對于掃描線131，設(shè)有具備移位寄 存器、電位移位器等的掃描側(cè)驅(qū)動電路73。另外，對于各個像素區(qū)域71， 設(shè)有以下部分，即，包括通過掃描線131供給掃描信號柵電極的開關(guān)用 TFT (薄膜晶體管)llb、保持通過該開關(guān)用TFT (薄膜晶體管)lib從 信號線132供給圖像信號(電力)的保持電容器cap、包括供給由保持電 容器cap保持的圖像信號的柵電極驅(qū)動用TFTlla、通過該驅(qū)動用TFTlla 與電源線133形成電連接時，由電源線133流入驅(qū)動電流的陽極(像素 電極)15、和夾持在該陽極15和陰極(共同電極)19之間的發(fā)光功能層 E。這樣，由上述陽極15、陰極19、和發(fā)光功能層E構(gòu)成的元件是有機 EL元件。
這種構(gòu)成下，驅(qū)動掃描線131而開關(guān)用TFTllb接通時，此時的信號 線132電位保持在保持電容器cap內(nèi)，根據(jù)該保持電容cap的狀態(tài)，決定驅(qū)動用TFTlla的開關(guān)狀態(tài)。同樣，通過驅(qū)動用TFTlla的通道，電流從 電源線133流入陽極15，電流進而通過發(fā)光功能層E流入陰極19，由此， 使發(fā)光功能層E根據(jù)其流入的電流量進行發(fā)光。
具備圖10所示的電路構(gòu)成的有機EL裝置400，如圖11所示，其構(gòu) 成是在具有電絕緣性和透光性的基板主體IOA上，以矩陣狀配置與開關(guān) 用TFT (未圖示)連接的陽極，形成平面看略呈矩形的像素部3 (圖11 中一點連線框內(nèi))。像素部3區(qū)分成中央部分的顯示區(qū)4 (像素部3內(nèi)的 一點連線框內(nèi))、和配置在顯示區(qū)4周圍的空白區(qū)5。在顯示區(qū)4內(nèi)，以 矩陣狀配置分別具有陽極的3色顯示點R、 G、 B,在紙面的縱向和橫向 上分別形成間隔。本實施方式的情況是對應(yīng)于上述各顯示點設(shè)有像素區(qū) 域71。
另外，在圖11中顯示區(qū)域4的左右內(nèi)配置掃描線驅(qū)動電路73，而在 圖11中顯示區(qū)域4的上下內(nèi)配置有數(shù)據(jù)線驅(qū)動電路72。這些掃描線驅(qū)動 電路73、數(shù)據(jù)線驅(qū)動電路72配置在空白區(qū)域5的周邊部位，進而，在圖 11中數(shù)據(jù)線驅(qū)動電路72的上側(cè)配置有檢査電路卯，該檢査電路90是檢 查有機EL裝置400工作狀況的電路，例如，具備將檢查結(jié)果輸出外部的 檢査信號輸出機構(gòu)(未圖示)，以便可以檢查出制造工序中和出廠時顯示 裝置的質(zhì)量和缺陷。該檢查電路90也可以配置在空白區(qū)域5的下層側(cè)。 由柔性印刷基板等形成的驅(qū)動用外部基板51與基板主體IOA連接，并在 驅(qū)動用外部基板51上搭載外部驅(qū)動電路50。
接著，根據(jù)圖12，對本實施方式的有機EL裝置400的像素構(gòu)成進 行說明。如圖12所示，本實施方式的有機EL裝置400中，配置有在圖 示左右方向延伸的多條掃描線131、和在與這些掃描線131成直交方向上 彼此平行延伸的多條信號線132和電源線133。由彼此平行延伸的掃描線 131、和在這些掃描線131交叉延伸的信號線132、電源線133圍成的平 面看矩形狀區(qū)域成為像素區(qū)域71，并在各像素區(qū)域內(nèi)設(shè)有陽極15。在包 括陽極15的基板表面上，設(shè)有與各陽極15中央部分相應(yīng)對的位置上具 有開口部的圍堰層，以由該圍堰層區(qū)分的形式，在像素區(qū)域71的中央部 分設(shè)置有包括有機發(fā)光層的發(fā)光功能層的發(fā)光功能E。另外，在陽極51 的下層側(cè)(觀察側(cè))，與1個像素區(qū)域71相對應(yīng)配置有3原色中的1種色澤濾色片14 (14R、 14G、 14B)。濾色片14的形成狀態(tài)是和發(fā)光功能 層E同樣，分別由圍堰層進行區(qū)分。即，在區(qū)分濾色片14的圍堰層(濾 色片用圍堰層)中，與各陽極15對應(yīng)的位置上設(shè)有開口部，以該圍堰層 區(qū)分的形式，在像素區(qū)域71的中央部分設(shè)有各色濾色片14。濾色片用圍 堰層的開口部比區(qū)分發(fā)光功能層E的圍堰層(發(fā)光功能層用圍堰層)開 口部寬，當從平面看時的狀態(tài)是發(fā)光功能層用的圍堰層開口區(qū)域配置在 濾色片用圍堰層的開口區(qū)域內(nèi)側(cè)。即，在本實施方式的有機EL裝置400 中，由3個不同色的像素區(qū)域形成1個彩色像素，利用這些彩色像素能 夠形成彩色顯示。
在陽極15和掃描線131、信號線132、電源線133之間插入開關(guān)用 TFTllb和驅(qū)動用TFTlla。 TFTllb的構(gòu)成，具有柵電極部131a、以平面 看跨越該柵電極部131a配置的半導體層(未圖示)、設(shè)在該半導體層兩端 側(cè)一側(cè)的源電極部132a、和設(shè)在上述半導體層另一側(cè)的漏電極部135。在 半導體層上與柵電極部131a相對的區(qū)域內(nèi)，形成TFTllb的通道區(qū)域(圖 12中，形成斜剖線的部分)，在其兩側(cè)的半導體層上，形成有與源電極部 132a連接的源區(qū)域、和與漏電極部135連接的漏區(qū)域。柵電極部131a是 在信號線132的延長方向上分支形成的部分掃描線131，其前端側(cè)，通過 未圖示的絕緣膜和半導體層形成相對向。源電極部132a，在掃描線131 的延長向上分支形成部分掃描線132，直接或通過未圖示的接觸孔與半導 體層上的源區(qū)域形成電連接。
另一方面，TFTlla的構(gòu)成為，具備柵電極部135a、從平面看跨越該 柵電極部135a那樣配置的半導體層(未圖示)、設(shè)在該半導體兩端側(cè)一方 的源電極部133a、和設(shè)在上述半導體層另一方側(cè)的漏電極部136。在與半 導體層的柵電極部135a相對向的區(qū)域內(nèi)，形成有TFTlla的通道區(qū)域(圖 12中，斜剖線的部分)，在其兩側(cè)的半導體層上，形成有與源電極部133a 連接的源區(qū)域、和與漏電極部136連接的漏區(qū)域。柵電極部135a是將一 部分TFTllb的漏電極部135的一部分在電源線133的延長方向上分支而 形成，在其前端側(cè)，通過未圖示的絕緣膜和半導體層相對向。源電極部 133a，使一部分電源線133在掃描線131 (漏電極部135)的延長方向上 分支而形成，直接或通過未圖示的接觸孔，與半導體層的源區(qū)域形成電
25連接。TFTlla的漏電極部136—端側(cè)，直接或通過未圖示的接觸孔與上 述漏區(qū)域電連接，漏電極部136的另一端側(cè)，直接或通過未圖示的接觸 孔與陽極15形成電連接。TFTllb由通過掃描線131輸入的柵信號僅在 所定期間內(nèi)形成接通的狀態(tài)，通過信號線132供給的信號，在所定的定 時內(nèi)，作為TFTlla的柵信號輸出，TFTlla，由通過TFTllb的漏電極部 135輸入的上述柵信號，僅在所定的期間內(nèi)形成接通狀態(tài)，以此通過電源 線133供給的驅(qū)動電流，在所定的定時內(nèi)，對發(fā)光功能層E進行注入。
以下使用圖13，對有機EL裝置400的截面結(jié)構(gòu)進行說明。
圖13是圖12中A—A，的截面圖(設(shè)在圖11中顯示區(qū)域4的像素 區(qū)域71的截面構(gòu)成圖)。在有機EL裝置400的像素區(qū)域71內(nèi)，在具有 玻璃等透光性的基板主體IOA上，設(shè)有包括TFTlla、 11b和掃描線131、 信號線132、電源線133等各種配線的電路元件部11，進而在通過覆蓋 該電路元件部11形成的層間絕緣膜12的基板主體10A上，形成有濾色 片13。濾色片層13是由彼此色澤不同的多種濾色片(紅色濾色片14R、 綠色濾色片14G、藍色濾色片14B)所形成，在這些濾色片14R 14B之 間，根據(jù)需要，配置由黑色樹脂等形成的遮光層(黑色基質(zhì))。在濾色片 和濾色片之間配置圍堰層141 (濾色片用圍堰層)，以該圍堰層141區(qū)分 的形式，在各個像素區(qū)域71內(nèi)配置所定色澤的濾色片14。
在濾色片層13上形成有有機EL元件P。有機EL元件P具備的構(gòu)成 是將設(shè)在由基板主體10A上直交設(shè)置的圍堰層16 (發(fā)光功能層用圍堰 層)圍繞的劃分區(qū)域內(nèi)的發(fā)光功能層E作為主體，將該發(fā)光功能層E夾 持在陽極15和陰極19之間。該有機EL元件P構(gòu)成為在陽極15的平面 區(qū)域內(nèi)，在形成平坦面的區(qū)域中，形成包括發(fā)光層18的多個功能層(發(fā) 光功能層E)層疊，進而在上述功能層上形成覆蓋圍堰層的陰極19。這 些包括多個功能層的發(fā)光功能層E形成在圍堰16的內(nèi)側(cè)，覆蓋住陽極15。
本實施方式的有機EL裝置400，由于是從基板主體10A側(cè)取出光的 底部發(fā)射型的，所以陽極15由ITO (銦錫氧化物)等透光性導電材料形 成。陽極15，通過層間絕緣膜15上形成的未圖示接觸孔，與電路元件部 11的TFTlla (漏電極部136)成電連接。陰極19，以覆蓋住發(fā)光功能層 E和圍堰層16的狀態(tài)，形成在基板主體10A上。作為該陰極19，可以使
26用Al和Ag等高反射率的金屬材料。或者，也可以采用Al/ITO等透光
性材料和高反射率金屬材料的層疊結(jié)構(gòu)。
發(fā)光功能層E是將空穴注入/輸送層.(電荷輸送層)17和發(fā)光層18 作為主體，根據(jù)需要，在發(fā)光層18上具備電子注入層和電子輸送層等。 作為空穴注入/輸送層17的形成材料(空穴注入材料)，可以使用聚噻 吩、聚苯乙烯磺酸、聚吡咯、聚苯胺、及其衍生物等高分子材料。作為 發(fā)光層18的形成材料(發(fā)光材料)，可以使用能發(fā)熒光或磷光的已知發(fā) 光材料。具體講，可以使用(聚)對苯乙烯撐衍生物、聚苯撐衍生物、 聚芴衍生物、聚乙烯卡唑、聚噻吩衍生物等高分子發(fā)光體，和茈系色素、 香豆素系色素、羅丹明系色素等低分子有機發(fā)光色素、在形成發(fā)光物質(zhì) 的共軛系高分子中，最好的是包括丙炔乙烯撐或聚芴結(jié)構(gòu)的。而且，這 些材料中，也可以使用紅熒烯、茈-9,10-二苯基蒽、四苯基丁二烯、尼羅 紅，香豆素6、喹吖叮等材料進行摻雜。對于紅色(R)像素區(qū)域、綠色 (CT)像素區(qū)域、藍色(B)像素區(qū)域的各像素區(qū)域的發(fā)光層18，可分 別使用發(fā)光色不同的發(fā)光材料。特別是，本實施方式中，由于通過液滴 噴出法形成這些發(fā)光層，所以比使用蒸鍍法更容易進行發(fā)光材料的分割。 然而，變更發(fā)光材料時，由于每色的壽命發(fā)生變化，所以長時間使用時， R、 G、 B的色平衡會產(chǎn)生慢慢崩潰的問題。例如，現(xiàn)狀是紅色發(fā)光材料 的壽命長于藍色發(fā)光材料和綠色發(fā)光材料，長時間使用時，顯示會變得 偏紅色(帶有紅色味道)。因此，本實施方式中，由于R、 G、 B各像素 區(qū)域的發(fā)光層18是由共同的發(fā)光材料形成，所以各色的壽命能均勻化。 即，本實施方式中，R、 G、 B各像素區(qū)域的發(fā)光層18是由發(fā)白色光的白 色材料形成，從這些發(fā)光層(白色發(fā)光層)18發(fā)出的光通過濾色片14， 以實現(xiàn)彩色化。這種情況下，在形成發(fā)光材料的共軛系高分子中，最好 是包括乙烯乙烯撐或聚芴結(jié)構(gòu)的材料。進而，這些發(fā)光層18由噴墨法等 液滴噴出法形成時，作為該發(fā)光材料最好使用高分子材料，例如，最好 使用以9: 1的比率將聚二辛基芴(PFO)和MEH-PPV混合的材料。這 種白色發(fā)光材料比目前得到的藍色發(fā)光材料和綠色發(fā)光材料壽命長，能 夠充分用于顯示裝置。
在陰極19的上層側(cè)形成有密封材料20，作為密封材料20，可以使
27用無機化合物、例如，硅氧化物、硅氮化物、硅氧氮化物等硅化合物。 如此，通過使用由無機化合物形成的密封材料20覆蓋住該陰極19，可以
有效地防止氧等對無機氧化物形成的陰極19的浸入。該密封材料20，在 平面上，如圖11所示延伸設(shè)置到基板主體10A的外周部分，其厚度，例 如取為10 —300nm左右。在陰極19和密封材料20之間，根據(jù)需要也可 以設(shè)置保護膜。
本實施方式的有機EL裝置400，可以通過和第l種實施方式所示的 方法同樣的方法進行制造。即，有機EL顯示裝置400的制造方法，例如 具有以下工序，即，(1)形成濾色片的工序、(2)形成陽極的工序、(3) 形成發(fā)光功能層的工序、和(4)形成陰極的工序、及密封工序，形成濾 色片14的工序和形成發(fā)光功能層的工序，使用液滴噴出法(噴墨法等)， 由液滴噴頭噴出所定的液體材料，有選擇性地配置在基板上。對于這些 (1) (4)的詳細工序，由于和第1種實施方式同樣，所以此處對說 明省略。作為液滴噴頭，可以使用壓電元件(壓電元件)。該液滴噴頭， 對安裝在內(nèi)腔中的壓電元件(壓電元件)進行驅(qū)動，通過改變內(nèi)腔內(nèi)的 壓力，使裝在內(nèi)腔內(nèi)的油墨(含發(fā)光材料或空穴注入材料等的液體材料)， 從與該內(nèi)腔連通的噴嘴中噴出。當然，作為噴頭的噴出機構(gòu)，除了上述 利用壓電元件的電機械變換體以外，例如，還可以采用作為能量發(fā)生 元件使用電熱變換體的方式、所謂帶電控制型、加壓振動型的連續(xù)方式、 靜電吸引方式、進而照射激光等電磁波而發(fā)熱，以該發(fā)熱產(chǎn)生的作用噴 出液體材料的方式。
如以上說明，本實施方式中，各像素區(qū)域的發(fā)光層18，全部由共同 的材料形成，所以對于各色的壽命形成均勻化，即使長時間使用，也能 保持良好的色平衡。由于是通過液滴噴出法，只在所定區(qū)域內(nèi)有選擇性 地配置發(fā)光材料，所以可以有效地使用高價的光發(fā)材料。
以上參照圖10 圖13對本發(fā)明的最佳實施方式例作了說明，當然， 本發(fā)明不受該例所限。上述例中所示的各構(gòu)成部件的諸種形態(tài)和組合就 是一例，在不脫離本發(fā)明宗旨的范圍內(nèi)，根據(jù)設(shè)計要求可作種種變更。 例如，本實施方式中，雖然將有機EL裝置400取為底部發(fā)射型的結(jié)構(gòu)。 但也可以和第2種實施方式或3種實施同樣，將濾色片14配置在發(fā)光層18的上層側(cè)(與基板主體10A相對側(cè))，進而變更陰極19等的材料，形 成頂部發(fā)射型的結(jié)構(gòu)。圖14是頂部發(fā)射型結(jié)構(gòu)的一例截面模式圖，是與
圖13對應(yīng)的圖。在圖14的有機EL裝置400'中，作為陰極19，使用ITO 等透光性的導電材料。另外，作為陽極15，最好使用Al等高反射率的金 屬材料，以便從陰極19側(cè)取出基板主體10A側(cè)發(fā)出的光。當然，也可以 由ITO等透光性的導電材料形成陽極15，在陽極15的下層側(cè)(基板主體 10A)以另行體由Al等形成光反射膜。對于除此之外的構(gòu)成，和圖13同 樣。
第5種實施方式
以下參照圖15、圖16，對本發(fā)明第5種實施方式的有機EL裝置進 行說明。圖15是放大表示本實施方式有機EL裝置的像素結(jié)構(gòu)的平面模 式圖，圖16是表示圖15中A—A'截面的模式圖，是與圖13或圖14相 對應(yīng)的圖。本實施方式有機EL裝置500的基本構(gòu)成和第4種實施方式同 樣，不同點主要是有紅色發(fā)光材料形成紅色像素區(qū)域的發(fā)光層，在該紅 色像素區(qū)域不設(shè)置濾色片14R。因此，圖15、圖16中，與圖IO—圖14 共同的構(gòu)成要件付與相同的符號，詳細說明省略。
如圖15所示，在本實施方式的有機EL裝置500中，在包括陽極15 的基板表面上，在與各陽極15中央部分相對應(yīng)的位置設(shè)有具有開口部的 圍堰層，以該圍堰層區(qū)分的形式，在像素區(qū)域71的中央部分，設(shè)有包括 有機發(fā)光層的發(fā)光功能層E或發(fā)光功能層ER。本實施方式中，紅色像素 區(qū)域的發(fā)光層ER是色發(fā)光層，用色光為發(fā)紅色光的紅色發(fā)光材料形成， 綠色像素區(qū)域和藍色像素區(qū)域的發(fā)光層E，用發(fā)白色光的白色材料形成。 在陽極15的下層側(cè)(觀察側(cè))上，與綠色像素區(qū)域和藍色像素區(qū)域相對 應(yīng)，分別配置有綠色濾色片14G和藍色濾色片14B。濾色片14 (14G、 14B)與發(fā)光功能層E、 ER同樣，由圍堰層形成各個被區(qū)分的狀態(tài)。艮口， 在對濾色片14進行區(qū)分的圍堰層(濾色片用圍堰層)中，在與綠色像素 區(qū)域和藍色像素區(qū)域的陽極15中央部分相對應(yīng)的位置上設(shè)有開口部，以 該圍堰層區(qū)分的形式，在綠色像素區(qū)域和藍色像素區(qū)域的中央部分，分 別設(shè)有綠色濾色片14G和藍色濾色片14B。濾色片用圍堰層開口部，形
29成為比區(qū)分發(fā)光層E、 ER的圍堰層(發(fā)光功能層用圍堰層)開口部要寬 大，當從平面看時，發(fā)光功能層用的圍堰層開口區(qū)域，形成為配置在濾
色片用圍堰層開口區(qū)域內(nèi)側(cè)的狀態(tài)。即，在本實施方式的有機EL裝置 500中，由3個不同色的像素區(qū)域形成為1個彩色像素，由這些彩色像素 形成彩色顯示。
以下用圖16，對有機EL裝置500的截面結(jié)構(gòu)進行說明。
圖16是圖15中A—A，截面圖(設(shè)在圖11中顯示區(qū)域4中的像素 區(qū)域71截面構(gòu)成圖)。在有機EL裝置500的像素區(qū)域71中，具有玻璃 等透光性的基板主體10A上，設(shè)有包括IT011a、 llb和掃描線131、信 號線132、電源線133等各種配線的電路元件部11，進而通過覆蓋該電 路元件部11形成的層間絕緣膜12的基板主體10A上，形成有濾色片層 13。濾色片層13，由彼此色澤不同的多種濾色片(綠色濾色片14G、藍 色濾色片11B)形成，在這些濾色片14G、 14B之間，根據(jù)需要，配置由 黑色樹脂等形成的遮光層(黑色基質(zhì))。在濾色片和濾色片之間配置有圍 堰層141 (濾色片用圍堰層)，以該圍堰層141區(qū)分的形式，在各個像素 區(qū)域71內(nèi)，配置有所定色的濾色片14。
在濾色片14上，形成有機EL元件P。有機EL元件P具備的構(gòu)成是 將設(shè)在由基板主體10A上直立設(shè)的圍堰層16 (發(fā)光功能層用圍堰層)圍 成的區(qū)分區(qū)域內(nèi)的發(fā)光功能層E或發(fā)光功能層ER作為主體，并使該發(fā)光 功能層E或發(fā)光功能層ER夾持在陽極15和陰極19之間。該有機EL元 件P構(gòu)成為在陽極15的平面區(qū)域內(nèi)，形成平坦面的區(qū)域形成包括發(fā)光層 18或發(fā)光層18R的多個功能層(發(fā)光功能層E或發(fā)光功能層ER)層疊， 并在上述功能層上形成覆蓋圍堰層16的陰極19。這些包括多個功能層的 發(fā)光功能層E、 ER，覆蓋住陽極，形成在圍堰層16的內(nèi)側(cè)。
本實施方式的有機EL裝置500,是從基板主體10A側(cè)取出光的底部 發(fā)射型，所以陽極15由ITO (銦錫氧化物)等透光性導電材料形成。陽 極15通過層間絕緣膜15上形成的未圖示接觸孔，與電路元件部11的 TFTlla (漏電極部136)形成電連接。陰極19，以覆蓋在發(fā)光功能層E， ER和圍堰層16上面的狀態(tài)，形成在基板主體10A上。作為該陰極19， 可以使用Al和Ag等高反射率金屬材料?；蛘撸部梢圆捎肁1/IT0等
30透光性材料和高反射率金屬材料的層疊結(jié)構(gòu)。
發(fā)光功能層E是將空穴注入/輸送層(電荷輸送層)17和發(fā)光層18 作為主體，根據(jù)需要，在發(fā)光層18上具有電子注入層和電子輸送層等。 周樣，發(fā)光功能層ER是將空穴注入/輸送層(電荷輸送層)17和發(fā)光 層18R作為主體，根據(jù)需要，在發(fā)光層18R上具有電子注入層和電子輸 送層等。本實施方式中，紅色像素區(qū)域的發(fā)光層(紅色發(fā)光層)18R由紅 色發(fā)光材料形成，除此之外的藍色像素區(qū)域和綠色像素區(qū)域的發(fā)光層(白 色發(fā)光層)18由白色發(fā)光材料形成。如前所述，現(xiàn)狀是紅色發(fā)光材料， 藍色發(fā)光材料、綠色發(fā)光材料的壽命存在差異，尤其是關(guān)于藍色發(fā)光材 料和綠色發(fā)光材料，還沒有獲得足夠的壽命特性。在上述第1 第4種實 施方式中，紅色像素區(qū)域、綠色像素區(qū)域、藍色像素區(qū)域的各個發(fā)光層 全部由相同的白色發(fā)光材料形成，各色的壽命均勻化。然而，紅色發(fā)光 材料已獲得具有良好壽命特性。所以R、 G、 B全部像素區(qū)域的發(fā)光材料 沒有必要共同化。本實施方式中，對于未獲得足夠壽命特性的藍色和綠 色，可并用白色發(fā)光層18和濾色片14，而對于獲得足夠壽命特性的紅色， 只使用紅色發(fā)光層18R，就能實現(xiàn)彩色化。通過如此進行，對于R、 G、 B各色都能獲得良好的壽命特性。對于形成空穴注入/輸送層17的材料 和形成發(fā)光層18、 18R的材料，可以使用上述公知的材料。
在陰極19的上層側(cè)形成有密封材料20。對于密封部件20的材料、 形狀、大小、形成范圍等，和第4種實施方式相同。
本實施方式的有機EL裝置500，可以通過和第4種實施方式的方法 同樣的方法進行制造。即，有機EL顯示裝置500的制造方法，例如，具 有(1)形成濾色片的工序、(2)形成陽極的工序、(3)形成發(fā)光功能層 的工序、和(4)形成陰極的工序，及密封工序，形成濾色片14的工序 和形成發(fā)光功能層的工序，通過液滴噴出法進行。關(guān)于詳細工序，由于 和第4種實施方式同樣，所以只能對說明省略。
正如以上說明的，本實施方式中，對于未獲得充分壽命特性的藍色 和綠色，并用白色發(fā)光層和濾色片，而對于獲得足夠壽命特性的紅色， 則省略了濾色片，通過只使用紅色發(fā)光層就能實現(xiàn)彩色顯示。由此，任 何一種色都能獲得良好的壽命特性，關(guān)于紅色，由于沒有用濾色片吸收光成分，所以能提高光利用效率，并降低驅(qū)動電流。
以上雖然參照圖15、圖16對本發(fā)明的最佳實施方式例作了說明，但 不用說本發(fā)明不受該例限定。上述例中示出的各種構(gòu)成部件的諸種形態(tài) 和組合等就是一例，在不脫離本發(fā)明宗旨的范圍內(nèi)，根據(jù)設(shè)計要求等，
可作種種變更。例如，本實施方式中，雖然有機EL裝置500采用了底部 發(fā)射型結(jié)構(gòu)，但也可以采用如圖14所示，在發(fā)光層18的上層側(cè)(與基 板主體10A的相對側(cè))配置濾色片14，進而變更陰極19等的材料，形 成頂部發(fā)射型的結(jié)構(gòu)。本實施方式中，雖然省略了紅色像素區(qū)域的濾色 片，也可不必省略濾色片，也可以與發(fā)紅色光的紅色發(fā)光層18R重復設(shè) 置紅色濾色片14R。這種情況下，雖然紅色會產(chǎn)生若干光吸收，但增加了 該分色的純度，并獲得良好的顏色再現(xiàn)性。
第6種實施方式
以下參照圖17、圖18，對本發(fā)明的第6種實施方式的有機EL裝置 進行說明。圖17是本實施方式的有機EL裝置的像素結(jié)構(gòu)放大平面模式 圖，圖18是圖17中A—A'截面模式圖，是與圖13或圖14相對應(yīng)的圖。 本實施方式的有機EL裝置600的基本構(gòu)成和第4種實施方式同樣，不同 點是紅色像素區(qū)域和綠色像素區(qū)域的發(fā)光層分別由紅色發(fā)光材料和綠色 發(fā)光材料形成，不設(shè)置該紅色像素區(qū)域和綠色像素區(qū)域的濾色片14R、 14G，和根據(jù)各色的發(fā)光亮度等，以調(diào)整紅色發(fā)光層、綠色發(fā)光層、藍色 發(fā)光層的大小。因此，圖17、圖18中與圖10 圖14的共同構(gòu)成要素付
與了相同的符號，詳細說明省略。
如圖17所示，本實施方式的有機EL裝置600中，在包括陽極15的 基板表面上，在與各陽極15中央部分相對應(yīng)的位置，設(shè)置具有開口部的 圍堰層，以該圍堰層區(qū)分的形式，在像素區(qū)域71的中央部分設(shè)置著包括 有機發(fā)光層的發(fā)光功能層，或發(fā)光功能層ER、或發(fā)光功能層EG。本實 施方式中，紅色像素區(qū)域的發(fā)光層ER是色發(fā)光層，通過發(fā)出紅色色光的 紅色發(fā)光材料形成的。綠色像素區(qū)域的發(fā)光層EG是色發(fā)光層，通過發(fā)出 綠色色光的綠色發(fā)光材料形成的。而藍色像素區(qū)域的發(fā)光層E是白色發(fā) 光層，通過發(fā)出白色光的白色發(fā)光材料形成的。另外，在陽極15的下層
32側(cè)(觀察側(cè))，與藍色像素區(qū)域相對應(yīng)，配置著藍色濾色片14B。濾色片
14(14B)，和發(fā)光功能層E、 ER、 EG同樣，由圍堰層分別形成劃分狀態(tài)， 即，在區(qū)分濾色片14的圍堰層(濾色片用圍堰層)上，與藍色像素區(qū)域 的陽極15中央部分相對應(yīng)的位置，設(shè)有開口部，以該圍堰層區(qū)分的形式， 在藍色像素區(qū)域的中央部分設(shè)有藍色濾色片14B。形成的濾色片用圍堰層 開口部，比區(qū)分發(fā)光功能層E、 ER、 EG的圍堰層(發(fā)光功能層用圍堰層) 開口部寬大，從平面看時，形成發(fā)光功能層用圍堰層的開口區(qū)域，配置 在濾色片用圍堰層的開口區(qū)域內(nèi)側(cè)。即，本實施方式的有機EL裝置600 中，由3種不同色澤的像素區(qū)域形成1個彩色像素，由這些彩色像素能 夠進行彩色顯示。
以下使用圖18，對有機EL裝置600的截面結(jié)構(gòu)進行說明。
圖18是圖17中A—A，截面圖(設(shè)在圖11中顯示區(qū)域4內(nèi)的像素 區(qū)域71截面構(gòu)成圖)。在有機EL裝置600的像素區(qū)域71內(nèi)，在具有玻 璃等透光性的基板主體10A上，設(shè)有包括TFTlla、 lib和掃描線131、 信號線132、電源線133等各種配線的電路元件部11，進而在通過覆蓋 該電路元件部11而形成層間絕緣膜12的基板主體10A上形成濾色片層 13。濾色片層13由藍色濾色片14B形成，在這些濾色片14B之間，根據(jù) 需要，配置有由黑色樹脂等形成的遮光層(黑色基質(zhì))。在濾色片和濾色 片之間配置圍堰層141 (濾色片用圍堰層)，以該圍堰層141區(qū)分的形式， 在各個像素區(qū)域71內(nèi)配置著濾色片14。
在濾色片14上形成有機EL元件P。有機EL元件P具備的構(gòu)成是， 將設(shè)置在由基板主體10A上直立設(shè)圍堰層16 (發(fā)光功能層用圍堰層)圍 成的劃分區(qū)域內(nèi)的發(fā)光功能層E或發(fā)光功能層ER或發(fā)光功能層EG作為 主體，使該發(fā)光功能層E或發(fā)光功能層ER或發(fā)光功能層EG'夾持在陽極 15和陰極19之間。該有機EL元件P的構(gòu)成是在陽極15的平面區(qū)域內(nèi)， 形成平坦面的區(qū)域上，形成包括發(fā)光層18或發(fā)光層18R、 18G的多個功 能層(發(fā)光功能層E或發(fā)光功能層ER或發(fā)光功能層EG)層疊，進而在 上述功能層上形成覆蓋圍堰層16的陰極19。這些包括多個功能層的發(fā)光 功能層E、 ER、 EG，覆蓋住陽極15，并形成在圍堰16的內(nèi)側(cè)。
本實施方式的有機EL裝置600,是從基板主體10A側(cè)取出發(fā)光的底
33部發(fā)射型的，所以陽極15由ITO (銦錫氧化物)等透光性導電材料形成。
陽極15通過層間絕緣膜15上形成的未圖示的接觸孔，與電路元件部11 的TFTlla (漏電極部136)電連接。陰極19以覆蓋發(fā)光功能層E、 ER、 EG和圍堰層16上面的狀態(tài)，形成在基板主體10A上，作為該陰極19， 可以使用Al或Ag等高反射率的金屬材料?；蛘?，也可以采用A1/IT0 等透光性材料和高反射率金屬材料的層疊結(jié)構(gòu)。
發(fā)光功能層E是將空穴注入/輸送層(電荷輸送層)17和發(fā)光層18 作為主體，根據(jù)需要，在發(fā)光層18上具有電子注入層和電子輸送層，同 樣，發(fā)光功能層是將空穴注入/輸送層(電荷輸送層)17和發(fā)光層18R 作為主體，根據(jù)需要，在發(fā)光層18R上具備電子注入層和電子輸送層等。 發(fā)光功能層EG是將空穴注入/輸送層(電荷輸送層)17和發(fā)光層18G 作為主體，根據(jù)需要，在發(fā)光層18G上具備電子注入層或電子輸送層等。 本實施方式中，紅色像素區(qū)域的發(fā)光層(紅色發(fā)光層)18R由紅色發(fā)光材 料形成，綠色像素區(qū)域的發(fā)光層(綠色發(fā)光層)18G由綠色發(fā)光材料形 成，除此之外的藍色像素區(qū)域發(fā)光層(白色發(fā)光層)18由白色發(fā)光材料 形成。在上述的第5種實施方式中，對于獲得足夠壽命特性的紅色，只 由使用紅色發(fā)光材料的紅色發(fā)光層顯色，對于除此之外的綠色和藍色， 采用并用白色發(fā)光層和濾色片的結(jié)構(gòu)。本實施方式中，藍色和綠色中， 對于獲得更好壽命特性的綠色，采用和紅色同枰的構(gòu)成，即，對于未獲 得足夠壽命特性的藍色，并用白色發(fā)光層18和濾色片14，對于獲得足夠 壽命特性的紅色和對于獲得某種良好壽命特性的綠色，分別只使用紅色 發(fā)光層18R和綠色發(fā)光層18G，就可以實現(xiàn)彩色化。但是，在該構(gòu)成中， 在紅色像素區(qū)域形成的紅色發(fā)光層18R、綠色像素區(qū)域形成的綠色發(fā)光層 18G、和藍色像素區(qū)域形成的白色發(fā)光層18之間，由于發(fā)光亮度(對于 藍色像素區(qū)域，透過濾色片14B后的發(fā)光亮度)或壽命等存在不同的情 況，所以在本實施方式中，考慮到這些因素，適當?shù)卣{(diào)節(jié)了發(fā)光層18R， 18G、 18B的大小。具體是發(fā)光亮度大的紅色發(fā)光層18R最好形成為最小 的尺寸，發(fā)光亮度次之大的綠色發(fā)光層18G形成為次之小的尺寸，發(fā)光 亮度最小的白色發(fā)光層(透過濾色片14B后的)形成為最大的尺寸。如 此可以保持良好的R、 G、 B的色平衡。而且，對于以形成空穴注入/輸送層17的材料和形成發(fā)光層18、 18R的材料，可以使用上述公知的材料。
在陰極19的上層側(cè)形成有密封材料20，密封材料20的材料、形狀、 大小、形成范圍等，和第4種實施方式同樣。
本實施方式的有機EL裝置600，可以由和第4種實施方式的方法同 樣的方法制造，即有機EL顯示裝置600的制造方法，例如具有(1)形 成濾色片的工序、(2)形成陽極的工序、(3)形成發(fā)光功能層的工序、 和(4)形成陰極的工序、及密封工序，形成濾色片14的工序和形成發(fā) 光功能層的工序，使用噴墨法等液滴噴出法進行。關(guān)于詳細工序和第4 種實施方式同樣，所以在此省略說明。
如以上說明，在本實施方式中，對于未獲得足夠壽命特性的藍色， 并用白色發(fā)光層和濾色片，對于獲得較好壽命特性的紅色和綠色，省略 了濾色片，通過只使用紅色發(fā)光層或綠色發(fā)光層，就可以實現(xiàn)彩色顯示。 由此，任何一種色都獲得了良好的壽命特性。關(guān)于紅色和綠色，由于沒 有用濾色片吸收的光成分，所以提高了光利用效率，并能降低驅(qū)動電流。
以上雖然參照圖17、圖18，對本發(fā)明的最佳實施方式例作了說明， 但本發(fā)明不受該例限定是當然的。上述例中示出的各構(gòu)成部件的諸種形 狀和組合等就是一例。例如，本實施方式中，雖然有機EL裝置600采用 了底部發(fā)射型的結(jié)構(gòu)，但也可以如圖14所示，將濾色片14配置在發(fā)光 層18的上層側(cè)(與基體主體10A相對側(cè))，進而變更陰極19等的材料， 形成頂部發(fā)射型的結(jié)構(gòu)，本實施方式中，雖然省略了紅色像素區(qū)域和綠 色像素區(qū)域的濾色片，但也可不必省略濾色片，與發(fā)紅色光的紅色發(fā)光 層18R重復設(shè)置紅色濾色片14R，或者也可以與發(fā)綠色光的綠色發(fā)光層 18G重復設(shè)置綠色濾色片14G。這種情況下，紅色和綠色產(chǎn)生若干光吸收， 但由于增加了該分色的純度，所以獲得良好的顏色再現(xiàn)性。
本實施方式中，考慮到各色發(fā)光層的壽命等，調(diào)節(jié)了發(fā)光層的尺寸， 這樣的考慮也可以適用于第5種實施方式。即，在第5種實施方式的構(gòu) 成中，在紅色像素區(qū)域形成的紅色發(fā)光層18R和藍色像素和綠色像素區(qū) 域形成的白色發(fā)光層18之間，發(fā)光亮度(對于藍色像素區(qū)域和綠色像素 區(qū)域，透過濾色片14G、 14B后的發(fā)光亮度)和壽命存在不同時，最好調(diào) 節(jié)這些發(fā)光層18R、 18的尺寸，例如，通過使發(fā)光亮度大的紅色發(fā)光層
3518R的尺寸小于白色發(fā)光層18的尺寸，可以保持良好的R、 G、 B色平衡。
本實施方式中，通過不改變R、 G、 B的像素區(qū)域面積，而改變發(fā)光 層在各像素區(qū)域內(nèi)占有的面積比率，調(diào)節(jié)色平衡，但本發(fā)明并不限于此。 例如，如圖19所示，通過不改變發(fā)光層占有的面積比率，而改變R、 G、 B的像素區(qū)域尺寸(例如，間距)，也可以調(diào)節(jié)色平衡。圖19中所示的有 機EL裝置600'，對于R、 G、 B的各像素，發(fā)光層在像素區(qū)域內(nèi)占有的 面積比率相等，其構(gòu)成是像素區(qū)域的間距(掃描線131的延長方向中的 寬度)，按照R、 G、 B的順序增大。對于除此之外的構(gòu)成，和上述有機 EL裝置600同樣，根據(jù)該構(gòu)成，既保持良好的R、 G、 B的亮度平衡， 又能極力減小不貢獻發(fā)光(即未配置發(fā)光層)的浪費區(qū)域。
電子儀器
以下對具備上述有機EL裝置的電子儀器實例進行說明。 圖20是移動電話機的一例立體圖。圖20中，符號1000表示移動電 話機主體，符號1001表示使用了上述有機EL裝置的顯示部。這種電子 儀器的顯示部中使用了上述實施方式的有機EL裝置，所以能廉價提供具 有高性能顯示部分的電子儀器。
本發(fā)明并不限定于上述實施方式，在不超出本發(fā)明宗旨的范圍內(nèi)， 可以進行種種變形而實施。例如，上述實施方式中示出的元件基板等的 結(jié)構(gòu)只是一例，也能夠采用除此之外的構(gòu)成。上述實施方式中，雖然將 本發(fā)明的有機EL裝置作為顯示裝置實例示出，除此之外，本發(fā)明也可適 用于其他的用途，例如，液晶顯示裝置的光源用有機EL裝置、和光書寫 型激光打印機和光通訊中使用的光源等。
3權(quán)利要求
1. 一種有機EL裝置，具有多個像素，特征在于，所述多個像素的每一個包括設(shè)置在基板上的陽極；在與所述陽極對應(yīng)的位置上具有第1開口部的圍堰層；設(shè)置在所述第1開口部的發(fā)光功能層；設(shè)置在所述圍堰層和所述發(fā)光功能層之上的陰極；以及與所述發(fā)光功能層對應(yīng)而設(shè)置為島狀的濾色片，形成所述濾色片的區(qū)域被形成為比所述第1開口部寬。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機EL裝置，其特征在于，還包括具有第 2開口部的濾色片用圍堰層，所述濾色片被設(shè)置在所述第2開口部內(nèi)， 所述第2開口部被形成為比所述第1開口部寬。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的有機EL裝置，其特征在于，在俯視時，所 述第1開口部被配置在所述第2開口部的內(nèi)側(cè)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1 3的任何一項所述的有機EL裝置，其特征在于， 所述濾色片被設(shè)置在所述基板和所述陽極之間。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機EL裝置，其特征在于，在所述濾色片 和所述陽極之間形成了無機絕緣膜。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的有機EL裝置，其特征在于，還包括 設(shè)置在所述基板和所述無機絕緣膜之間的電路元件部；和 設(shè)置在所述濾色片和所述電路元件部之間的層間絕緣膜， 對于濾色片用圍堰層，在與所述電路元件部對應(yīng)的位置上設(shè)置了第3開口部，在所述第3開口部內(nèi)，經(jīng)由設(shè)置在所述層間絕緣膜和所述無機絕緣 膜的第4開口部，所述陽極和所述電路元件部被連接。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1 3的任何一項所述的有機EL裝置，其特征在于， 還具有設(shè)置在所述陰極上的保護膜，所述濾色片被設(shè)置在所述保護膜之上。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的有機EL裝置，其特征在于，所述保護膜具有無機氧化物層和有機層。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1 3的任一項所述的有機EL裝置，其特征在于， 還具有對向基板，所述濾色片被設(shè)置在所述對向基板上， 所述基板和所述對向基板經(jīng)由粘接層被貼合而構(gòu)成。
10. —種有機EL裝置的制造方法，是具有多個像素的有機EL裝置的 制造方法，特征在于，包括形成具有與所述多個像素的每一個對應(yīng)的第1開口部的濾色片用圍 堰層的工序；在所述第1開口部內(nèi)形成濾色片的工序；與所述多個像素的每一個對應(yīng)而將陽極形成在所述濾色片之上的工序；在與所述陽極對應(yīng)的位置上形成具有比所述第1幵口部寬的第2開 口部的圍堰層的工序；在所述第2開口部內(nèi)形成發(fā)光功能層的工序；以及 在所述發(fā)光功能層上形成陰極的工序。
11.—種有機EL裝置的制造方法，是具有多個像素、并在所述多個像 素的每一個上具有電路元件部的有機EL裝置的制造方法，特征在于，包 括在所述電路元件部之上形成層間絕緣膜的工序； 形成具有與所述多個像素的每一個對應(yīng)的第1開口部和設(shè)置在與所 述電路元件部對應(yīng)的位置上的第2開口部的濾色片圍堰層的工序； 在所述第1開口部內(nèi)形成濾色片的工序；形成無機絕緣膜使得覆蓋所述濾色片圍堰層及所述濾色片的表面、 和所述第2開口部的內(nèi)面的工序；在與所述第2開口部對應(yīng)的位置，蝕刻所述無機絕緣膜和所述層間絕緣膜，形成通到所述電路元件部的第3開口部的工序；與所述多個像素的每一個對應(yīng)而將陽極形成在所述第3開口部和所 述無機絕緣膜之上的工序；在與所述陽極對應(yīng)的位置上形成具有比所述第1開口部寬的第4開口部的圍堰層的工序；在所述第4開口部內(nèi)形成發(fā)光功能層的工序；以及 在所述發(fā)光功能層上形成陰極的工序。
12.—種電子儀器，其特征在于，包括權(quán)利要求1 9的任何一項所 述的有機EL裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種通過材料的有效利用，以降低制造成本的有機EL裝置的制造方法。在具有白色發(fā)光層(18)和濾色片(14R、14G、14B)的有機EL裝置(100)的制造方法中，通過液滴噴出法形成白色發(fā)光層(18)。不僅白色發(fā)光層(18)，濾色片(14R、14G、14B)也是通過液滴噴出法形成，進而減少材料浪費，縮短工序時間。
文檔編號H05B33/12GK101452949SQ20091000133
公開日2009年6月10日 申請日期2004年10月15日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月23日
發(fā)明者小林英和 申請人:精工愛普生株式會社