一種一體化金屬外殼天線的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及天線設計技術領域，具體涉及一種一體化金屬外殼天線。
【背景技術】
[0002]現(xiàn)有技術中，越來越多的通訊設備都將金屬外殼作為通訊設備天線的一部分來參與輻射，例如Iphone系列手機；金屬外殼參與天線設計有利于進一步利用有限空間、縮減尺寸。
[0003]常規(guī)的移動終端產(chǎn)品的金屬外殼為了滿足天線的性能，減少金屬外殼對天線性能的影響，通常需要在金屬外殼上進行開縫，將金屬外殼分割成多個金屬部分，從而形成多個天線部分，以阻斷各個天線部分之間的導通；且各個獨立的金屬部分形成的天線部分之間，再通過非導電體(例如塑料)連接形成一完成的金屬外殼。上述這種設計方式，破壞了金屬外殼的完整性，外觀丑陋，不能實現(xiàn)一體化的金屬外觀效果。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]本實用新型提供了一種一體化金屬外殼天線，包括金屬外殼，所述金屬外殼上形成多個天線部分，所述金屬外殼的內(nèi)表面上各個天線部分的劃分處設置有細槽，且所述細槽部分進行非導電化處理隔斷各天線部分之間的的導通。
[0005]較佳地，所述細槽的底部金屬部分進行非導電化處理，且非導電化處理的深度大于等于所述細槽底部金屬的厚度。
[0006]較佳地，所述細槽的底部的金屬部分厚度取值范圍為0.1-1_。
[0007]較佳地，所述細槽內(nèi)局部或全部填充有非導電體。
[0008]較佳地，所述金屬外殼的表面全部或部分進行非導電化處理形成，所述金屬外殼的表面上全部或部分為非導電層。
[0009]較佳地，所述金屬外殼的內(nèi)表面上去除非部分導電層形成連接點。
[0010]較佳地，所述非導電化處理的方式包括氧化處理、陽極氧化處理、滲碳處理、滲氮處理、滲硫處理。
[0011]本實用新型由于采用以上技術方案，使之與現(xiàn)有技術相比，具有以下的優(yōu)點和積極效果:
[0012]I)本實用新型提供的一體化金屬外殼天線，通過在現(xiàn)有技術中金屬殼體上需要開縫的地方進行開設細槽，并對細槽部分進行非導電化處理，從而隔斷了金屬殼體上各天線部分之間的導通，在保證天線性能的基礎上，保證了金屬殼體的完整性，提高了美觀效果；
[0013]2)本實用新型提供的一體化金屬外殼天線，在細槽內(nèi)增設非導電體，從而加強了金屬殼體的強度，防止了細槽對應位置處發(fā)生斷裂的現(xiàn)象；
[0014]3)本實用新型提供的一體化金屬外殼天線，對金屬外殼的表面均進行了非導電化處理，從而提高了金屬外殼的耐磨性和美觀效果。
【附圖說明】
[0015]結合附圖，通過下文的述詳細說明，可更清楚地理解本實用新型的上述及其他特征和優(yōu)點，其中:
[0016]圖1為本實用新型實施例一中一體化金屬外殼天線的結構示意圖；
[0017]圖2為本實用新型實施例二中一體化金屬外殼天線的結構示意圖；
[0018]圖3為本實用新型實施例三中一體化金屬外殼天線的結構示意圖一；
[0019]圖4為本實用新型實施例三中一體化金屬外殼天線的結構示意圖二。
[0020]符號說明:
[0021]1-金屬外殼
[0022]101-底部金屬部分
[0023]102-非導電層
[0024]2-細槽
[0025]3-非導電體
[0026]4-連接點。
【具體實施方式】
[0027]參見示出本實用新型實施例的附圖，下文將更詳細地描述本實用新型。然而，本實用新型可以以許多不同形式實現(xiàn)，并且不應解釋為受在此提出之實施例的限制。相反，提出這些實施例是為了達成充分及完整公開，并且使本技術領域的技術人員完全了解本實用新型的范圍。這些附圖中，為清楚起見，可能放大了層及區(qū)域的尺寸及相對尺寸。
[0028]參照圖1-4，本實用新型提供的一體化金屬外殼天線，通過在金屬外殼上開設細槽，并對細槽部分進行非導電化處理，實現(xiàn)各天線部分隔斷的效果，以代替現(xiàn)有技術中直接開縫斷開的設計方式，本實用新型保證了金屬外殼的完整性，美觀效果好。以下就具體實施例進行詳細說明:
[0029]實施例一
[0030]通常通訊設備中作為天線一部分參與輻射的金屬外殼需要劃分成多個天線部分，并且需要阻斷各個天線部分之間的導通，來提高天線性能。
[0031]在本實施例中，該一體化金屬外殼天線包括一完整的金屬外殼I，金屬外殼I的材料此處不做限定，可以采用鋁合金、鎂鋁合金、不銹鋼、碳鋼、合金鋼、鐵、銅或銅合金等任何金屬材料；金屬外殼I的生產(chǎn)工藝也不作限定，可以是銑削，壓鑄，鍛造，粉末冶金等任何工
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[0032]如圖1中所不，金屬外殼I的內(nèi)表面上，各個天線部分的劃分處設置有細槽2，并對細槽2部分進行非導電化處理；具體的對細槽2的底部金屬部分101進行非導電化處理，其中非到導電化處理具體可采用氧化處理、陽極氧化處理、滲碳處理、滲氮處理、滲硫處理等任何金屬表面非導電性處理，可根據(jù)具體情況來選擇；細槽2的非導電化處理的次數(shù)也不作限制，可進行一次或多次非導電化處理。
[0033]細槽2的底部金屬部分101經(jīng)過非導電化處理后變成絕緣體，從而在不切斷金屬外殼I整體結構的情況下隔斷了各天線部分之間導通，提高了天線性能。其中，細槽2的尺寸可根據(jù)具體情況來設定，此處不作限制；由于現(xiàn)有技術中非導電化處理的深度有限，本實用新型通過開設細槽降低了非導電化處理的厚度來保證非導電化處理的效果；本實用新型需根據(jù)非導電化處理的能力來確定細槽2底部金屬部分的厚度，只要保證細槽2的底部金屬部分101非導電化處理的深度能夠大于等于細槽2底部金屬部分的厚度即可，細槽2的底部金屬部分101的厚度優(yōu)選取值范圍設定在0.1-1mm ;另外，細槽2的非導電化處理的次數(shù)不作限制，可只進行多次非導電化處理，此處不作限制。
[0034]實施例二
[0035]參照圖2，本實施例是實施例一的變換實施例，在本實施例中細槽2內(nèi)還可設置有非導電體3，細槽2內(nèi)可局部設置有非導電體3，也可全部填充滿非導電體3，此處不作限制；非導電體2具體可為塑料等材料，通過納米成型等技術設置在細槽2內(nèi)；本實用新型通過在細槽2內(nèi)設置非導電體3，起到補強金屬外殼1、防止細槽2對應位置出現(xiàn)斷裂現(xiàn)象的效果。
[0036]本實施例提供的一體化金屬外殼天線的其余部分的結構可參照實施例一中的相關描述，此處不再贅述。
[0037]實施例三
[0038]參照圖3，本實施例是實施例一、二的變換實施例，在本實施例中金屬外殼I的表面全部或部分進行了非導電導電處理，從而在金屬外殼I的表面上形成一非導電層102 ;本實用新型通過在金屬外殼I的表面上進行非導電化處理，從而有利于提高金屬外殼I的耐磨性，且可以提高金屬外殼I的美觀效果。
[0039]參照圖4，在金屬外殼的內(nèi)表面上去除部分非導電層102，從而形成連接點4，以便于金屬外殼天線與其余天線設備之間的導通。
[0040]本實施例提供的一體化金屬外殼天線的其余部分的結構可參照實施例一、二中的相關描述，此處不再贅述。
[0041]綜上所述，本實用新型公開了一種一體化金屬外殼天線，包括一金屬外殼，金屬外殼上形成多個天線部分，金屬外殼的內(nèi)表面上各個天線部分的劃分處設置有細槽，且細槽部分進行非導電化處理隔斷各天線部分之間的的導通；具體的，在對細槽的底部金屬部分進行非導電化處理，且非導電化處理的深度大于等于細槽底部金屬的厚度。細槽內(nèi)局部或全部還填充有用于補償金屬外殼的非導電體。金屬外殼的表面均進行非導電化處理形成非導電層，起到耐磨美觀的效果；金屬外殼的內(nèi)表面上部分去除非導電層形成連接點；其中非導電化處理可采用氧化處理。本實用新型保證了金屬外殼的完整性，美觀效果好。
[0042]因本技術領域的技術人員應理解，本實用新型可以以許多其他具體形式實現(xiàn)而不脫離其本身的精神或范圍。盡管已描述了本實用新型的實施案例，應理解本實用新型不應限制為這些實施例，本技術領域的技術人員可如所附權利要求書界定的本實用新型的精神和范圍之內(nèi)作出變化和修改。
【主權項】
1.一種一體化金屬外殼天線，其特征在于，包括金屬外殼，所述金屬外殼上形成多個天線部分，所述金屬外殼的內(nèi)表面上各個天線部分的劃分處設置有細槽，且所述細槽部分進行非導電化處理隔斷各天線部分之間的的導通。2.根據(jù)權利要求1所述的一體化金屬外殼天線，其特征在于，所述細槽的底部金屬部分進行非導電化處理，且非導電化處理的深度大于等于所述細槽底部金屬的厚度。3.根據(jù)權利要求1所述的一體化金屬外殼天線，其特征在于，所述細槽的底部的金屬部分厚度取值范圍為0.1-lmm。4.根據(jù)權利要求1所述的一體化金屬外殼天線，其特征在于，所述細槽內(nèi)局部或全部填充有非導電體。5.根據(jù)權利要求1所述的一體化金屬外殼天線，其特征在于，所述金屬外殼的表面全部或部分進行非導電化處理形成，所述金屬外殼的表面上全部或部分為非導電層。6.根據(jù)權利要求5所述的一體化金屬外殼天線，其特征在于，所述金屬外殼的內(nèi)表面上去除非部分導電層形成連接點。7.根據(jù)權利要求1或5所述的一體化金屬外殼天線，其特征在于，所述非導電化處理的方式包括氧化處理、陽極氧化處理、滲碳處理、滲氮處理、滲硫處理。
【專利摘要】本實用新型公開了一種一體化金屬外殼天線，包括一金屬外殼，金屬外殼上形成多個天線部分，金屬外殼的內(nèi)表面上各個天線部分的劃分處設置有細槽，且細槽部分進行非導電化處理隔斷各天線部分之間的導通；具體的，在對細槽的底部金屬部分進行非導電化處理，且非導電化處理的深度大于等于細槽底部金屬的厚度。細槽內(nèi)局部或全部還填充有用于補償金屬外殼的非導電體。金屬外殼的表面均進行非導電化處理形成非導電層，起到耐磨美觀的效果；金屬外殼的內(nèi)表面上部分去除非導電層形成連接點；其中非導電化處理可采用氧化處理。本實用新型保證了金屬外殼的完整性，美觀效果好。
【IPC分類】H01Q1/44
【公開號】CN204760544
【申請?zhí)枴緾N201520471178
【發(fā)明人】蔣海英, 蔡士群
【申請人】上海安費諾永億通訊電子有限公司
【公開日】2015年11月11日
【申請日】2015年7月3日