一種可升降式硅片氣體鈍化處理裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提出一種可升降式硅片氣體鈍化處理裝置，其包括支架，氣缸，氣體噴淋組件以及抽風(fēng)裝置，所述支架橫跨硅片刻蝕機(jī)設(shè)置，所述支架的上橫梁上固定設(shè)置有氣缸固定板，氣缸固定在氣缸固定板上，氣缸的活塞桿與氣體噴淋組件固定板固定，升降導(dǎo)桿的一端與氣體噴淋組件固定板固定，另一端與升降板固定，升降板設(shè)置于氣缸固定板的上方，其上設(shè)置有多個(gè)緩沖器，氣體噴淋組件至上橫梁之間為密封空間，通過框架及與其安裝固定的透明板構(gòu)成，抽風(fēng)裝置設(shè)置于氣體噴淋組件的下方，硅片傳送滾輪設(shè)于兩者之間。本發(fā)明的可升降式硅片氣體鈍化處理裝置，通過氣缸的升降來非常方便地調(diào)節(jié)氣體噴淋組件距離硅片的高度來優(yōu)化硅片表面處理的工藝條件；采用支架式設(shè)計(jì)，在硅片處理工藝產(chǎn)線改造和調(diào)整時(shí)，也易于操作和調(diào)整。
【專利說明】
一種可升降式硅片氣體鈍化處理裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及光伏太陽(yáng)能電池制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及光伏電池硅片表面鈍化處理工藝中的一種可升降式氣體鈍化處理設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著傳統(tǒng)的石化燃料的大規(guī)模使用造成的環(huán)境問題日益嚴(yán)峻，清潔能源如利用太陽(yáng)能進(jìn)行發(fā)電的光伏發(fā)電越來越受到各國(guó)的重視，近幾年來得到了快速的發(fā)展，但在像中國(guó)這樣的發(fā)展中國(guó)家，光伏發(fā)電的總量與傳統(tǒng)的火力發(fā)電總量相比仍然非常小。與相比傳統(tǒng)的火力發(fā)電，影響光伏發(fā)電迅速普及的一個(gè)重要原因就是發(fā)電成本仍然比較高，而降低光伏發(fā)電成本的一個(gè)重要途徑就是提高光伏發(fā)電的效率。
[0003]目前在光伏領(lǐng)域使用最多的是硅基板太陽(yáng)電池，硅基板太陽(yáng)電池的發(fā)電效率是與硅基板表面能夠吸收到的太陽(yáng)光的多少直接相關(guān)的。由于硅是間接帶隙半導(dǎo)體，其對(duì)太陽(yáng)光的反射率一般都在30%以上，因此，如何降低硅片表面的太陽(yáng)光的反射率，讓硅片表面盡可能多的吸收太陽(yáng)光就成了提尚娃基板太陽(yáng)電池發(fā)電效率的關(guān)鍵因素。目如的工藝中，最常采用的工藝是利用強(qiáng)酸對(duì)硅表面進(jìn)行腐蝕從而在硅表面形成“蠕蟲”結(jié)構(gòu)來降低硅片表面的反射率，這種工藝成本較低但效果不是特別好，另外強(qiáng)酸也會(huì)帶來安全生產(chǎn)上的問題；最近幾年，反應(yīng)離子刻蝕(RIE刻蝕)、等離子體刻蝕工藝得到了越來越多的使用，這種刻蝕方法形成的硅片絨面結(jié)構(gòu)對(duì)光的反射率更低。為了提高太陽(yáng)電池的轉(zhuǎn)換效率，需要對(duì)表面制絨后的硅片進(jìn)行有效的鈍化，通過氧化法在硅表面形成二氧化硅薄膜，目前采用比較多的工藝是采用臭氧氣體進(jìn)行硅片鈍化，即，使用氣體噴淋設(shè)備將反應(yīng)氣體噴到硅片表面對(duì)表面進(jìn)行處理。目前的氣體噴淋設(shè)備，在根據(jù)具體應(yīng)用場(chǎng)合的硅片處理工藝線的電池片刻蝕機(jī)的具體規(guī)格安裝調(diào)試后是固定的，當(dāng)電池片刻蝕機(jī)狀況發(fā)生變更，或者遇到其他情況需要對(duì)氣體噴淋設(shè)備進(jìn)行調(diào)整時(shí)就非常不方便，因此，需要提供一種可以方便對(duì)氣體噴淋設(shè)備進(jìn)行調(diào)整的硅片表面鈍化處理裝置。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]針對(duì)現(xiàn)有工藝中的使用需求，滿足太陽(yáng)電池制造工藝中硅片鈍化的工藝要求，本發(fā)明的目的是提供光伏電池硅片表面鈍化處理工藝中一種可升降式硅片氣體鈍化處理裝置，其可以根據(jù)不同的產(chǎn)線情況和工藝要求方便地調(diào)整鈍化處理裝置與硅片之間的距離。
[0005]為達(dá)到本發(fā)明的目的，本發(fā)明提出一種可升降式硅片氣體鈍化處理裝置，所述處理裝置包括支架，氣缸，氣體噴淋組件以及抽風(fēng)裝置，所述支架橫跨太陽(yáng)能電池片刻蝕機(jī)設(shè)置，所述支架的上橫梁上固定設(shè)置有氣缸固定板，氣缸固定在氣缸固定板上，氣缸的活塞桿與氣體噴淋組件固定板固定，氣體噴淋組件通過固定支架與氣體噴淋組件固定板連接，升降導(dǎo)桿的一端與氣體噴淋組件固定板固定，另一端與升降板固定，升降板設(shè)置于氣缸固定板的上方，其上設(shè)置有多個(gè)緩沖器，氣體噴淋組件至上橫梁之間為密封空間，通過框架及與其安裝固定的透明板構(gòu)成，抽風(fēng)裝置設(shè)置于氣體噴淋組件的下方，硅片傳送滾輪設(shè)于兩者之間。
[0006]優(yōu)選的，所述氣體噴淋組件包括殼體和進(jìn)氣孔，殼體內(nèi)設(shè)置有氣體勻流板，反應(yīng)氣體從進(jìn)氣孔經(jīng)過氣體勻流板后均勻地吹至下方的硅片表面。
[0007]再優(yōu)選的，所述抽風(fēng)裝置設(shè)置為盒體狀構(gòu)造，在其上蓋板的兩側(cè)部位設(shè)置有抽氣縫，在左右側(cè)板上設(shè)有多個(gè)抽氣小孔，前側(cè)或后側(cè)設(shè)有出氣孔，其通過管道與抽風(fēng)設(shè)備相連。
[0008]本發(fā)明的可升降式硅片氣體鈍化處理裝置，將氣體噴淋組件與支架固定而不是直接固定在電池片刻蝕機(jī)上，并將氣體噴淋組件通過固定板與設(shè)置在支架上的氣缸的活塞桿連接固定，通過氣缸的升降來方便調(diào)節(jié)氣體噴淋組件距離硅片的高度，從而優(yōu)化硅片表面處理的工藝條件;在電池片刻蝕機(jī)改造和調(diào)整時(shí)，也非常靈活方便。
【附圖說明】
[0009]通過下面結(jié)合附圖的詳細(xì)描述，本發(fā)明前述的和其他的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)將變得顯而易見。其中:
[0010]圖1所示為本發(fā)明的一實(shí)施例的可升降式硅片氣體鈍化處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011]圖2所示為本發(fā)明的一實(shí)施例的可升降式硅片氣體鈍化處理裝置的氣體噴淋組件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖3所示為本發(fā)明的一實(shí)施例的可升降式硅片氣體鈍化處理裝置的抽風(fēng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖4所示為圖1中的緩沖器的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]參照?qǐng)D1所示的本發(fā)明的一實(shí)施例的可升降式硅片氣體鈍化處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，所述處理裝置包括支架10，氣缸14，氣體噴淋組件20(參見圖2)以及抽風(fēng)裝置30(參見圖
3)，所述支架10橫跨太陽(yáng)能電池片刻蝕機(jī)設(shè)置，所述支架10的上橫梁102上固定設(shè)置有氣缸固定板12，氣缸14固定在氣缸固定板12上，氣缸14的活塞桿140與氣體噴淋組件固定板22固定，氣體噴淋組件20通過固定支架24與氣體噴淋組件固定板22連接，兩個(gè)升降導(dǎo)桿144的一端與氣體噴淋組件固定板22固定，另一端與升降板142固定，如此，可以保證氣體噴淋組件20在升降調(diào)整的過程中保持水平不至于傾斜;升降板142設(shè)置于氣缸固定板12的上方，其上設(shè)置有多個(gè)緩沖器146，氣體噴淋組件20至上橫梁之間為密封空間，通過框架16及與其安裝固定的透明板構(gòu)成，防止處理氣體泄漏，抽風(fēng)裝置30設(shè)置于氣體噴淋組件20的下方，硅片傳送滾輪40設(shè)于兩者之間。
[0015]本發(fā)明的可升降式硅片氣體鈍化處理裝置，將氣體噴淋組件與支架固定而不是直接固定在電池片刻蝕機(jī)上，并將氣體噴淋組件通過固定板與設(shè)置在支架上的氣缸的活塞桿連接固定，通過氣缸的升降來方便調(diào)節(jié)氣體噴淋組件距離硅片的高度，從而優(yōu)化硅片表面處理的工藝條件;在電池片刻蝕機(jī)改造和調(diào)整時(shí)，也非常靈活方便。
[0016]上述實(shí)施例中，所述氣體噴淋組件20的結(jié)構(gòu)示意圖參加圖2，其包括殼體20和進(jìn)氣孔201，殼體20內(nèi)設(shè)置有氣體勻流板(未圖示)，反應(yīng)氣體從進(jìn)氣孔201經(jīng)過氣體勻流板后均勻地吹至下方的硅片表面；表面處理后的氣體被設(shè)置于其下方的抽風(fēng)裝置30抽走避免泄露，抽風(fēng)裝置30的結(jié)構(gòu)示意圖參見圖3，其設(shè)置為盒體狀構(gòu)造，在上蓋板30的兩側(cè)部位設(shè)置有抽氣縫31，在左右側(cè)板上設(shè)有多個(gè)抽氣小孔33，前側(cè)或后側(cè)設(shè)有出氣孔35，其通過管道與抽風(fēng)設(shè)備相連，將反應(yīng)后的氣體從電池片刻蝕機(jī)抽走。
[0017]在升降板12上設(shè)置升降導(dǎo)桿144與多個(gè)緩沖器146可以大幅提高氣體噴淋組件在隨氣缸上下運(yùn)動(dòng)時(shí)的平穩(wěn)性，保持氣體噴淋組件的水平度。所述的緩沖器146可以是市售的空氣緩沖器，其結(jié)構(gòu)示意圖參見圖4，其主體1460為中空柱形構(gòu)造，帶有外螺紋1461，其上設(shè)有兩個(gè)固定螺母1462和1463，下部為伸縮連桿1465以及抵接部位1467。
[0018]圖1的實(shí)施例中的抽風(fēng)裝置30設(shè)置有兩個(gè)，在實(shí)際應(yīng)用中，其可以根據(jù)處理的硅片的道次以及氣體噴淋組件的尺寸來對(duì)應(yīng)設(shè)計(jì)，本申請(qǐng)對(duì)此不作限制。
[0019]本發(fā)明的可升降式硅片氣體鈍化處理裝置，通過氣缸的升降來非常方便地調(diào)節(jié)氣體噴淋組件距離硅片的高度來優(yōu)化硅片表面處理的工藝條件;采用支架式設(shè)計(jì)，在電池片刻蝕機(jī)改造和調(diào)整時(shí)，也易于操作和調(diào)整。
[0020]本發(fā)明并不局限于所述的實(shí)施例，本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神即公開范圍內(nèi)，仍可作一些修正或改變，故本發(fā)明的權(quán)利保護(hù)范圍以權(quán)利要求書限定的范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種可升降式硅片氣體鈍化處理裝置，其特征在于，所述處理裝置包括支架，氣缸，氣體噴淋組件以及抽風(fēng)裝置，所述支架橫跨太陽(yáng)能電池片刻蝕機(jī)設(shè)置，所述支架的上橫梁上固定設(shè)置有氣缸固定板，氣缸固定在氣缸固定板上，氣缸的活塞桿與氣體噴淋組件固定板固定，升降導(dǎo)桿的一端與氣體噴淋組件固定板固定，另一端與升降板固定，升降板設(shè)置于氣缸固定板的上方，其上設(shè)置有多個(gè)緩沖器，氣體噴淋組件至上橫梁之間為密封空間，通過框架及與其安裝固定的透明板構(gòu)成，抽風(fēng)裝置設(shè)置于氣體噴淋組件的下方，硅片傳送滾輪設(shè)于兩者之間。2.如權(quán)利要求1所述的一種可升降式硅片氣體鈍化處理裝置，其特征在于，所述氣體噴淋組件包括殼體和進(jìn)氣孔，殼體內(nèi)設(shè)置有氣體勻流板，反應(yīng)氣體從進(jìn)氣孔經(jīng)過氣體勻流板后均勻地吹至下方的硅片表面。3.如權(quán)利要求1或2所述的一種可升降式硅片氣體鈍化處理裝置，其特征在于，所述抽風(fēng)裝置設(shè)置為盒體狀構(gòu)造，在其上蓋板的兩側(cè)部位設(shè)置有抽氣縫，在左右側(cè)板上設(shè)有多個(gè)抽氣小孔，前側(cè)或后側(cè)設(shè)有出氣孔，其通過管道與抽風(fēng)設(shè)備相連。
【文檔編號(hào)】H01L31/18GK105845779SQ201610340076
【公開日】2016年8月10日
【申請(qǐng)日】2016年5月20日
【發(fā)明人】王振交, 艾凡凡, 韓培育
【申請(qǐng)人】蘇州中世太新能源科技有限公司