基板組件及其制備方法以及顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及OLED制造的技術(shù)領(lǐng)域，并且特別涉及適用于OLED的基板組件及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)發(fā)光二極管(OLED,或稱有機(jī)電致發(fā)光)技術(shù)一直被認(rèn)為是最具有競爭力的下世代發(fā)光及顯示技術(shù)之一。然而，在顯示器的應(yīng)用方面，從1996年P(guān)1neer發(fā)表的PLOLED顯示器商品化以來，OLED顯示器似乎在大型化及量產(chǎn)化方面遭遇極強(qiáng)的挑戰(zhàn)。重大挑戰(zhàn)主要來自兩方面，第一是主動(dòng)矩陣的TFT背板，另一個(gè)就是有機(jī)材料的制程及封裝問題。在有機(jī)材料制程方面，主要有蒸鍍制程和溶液制程。在面對(duì)大型化基板時(shí)，真空熱蒸鍍技術(shù)面臨極大缺陷，如遮光板極易受工藝流程中的高溫環(huán)境影響而發(fā)生偏移，導(dǎo)致難以在基板上保持均勻的沉積率。溶液制程中采用了噴墨印刷技術(shù)。而其中噴墨印刷技術(shù)可以通過液態(tài)有機(jī)材料的均勻沉積形成薄膜層，因此，這種技術(shù)理論上可以更好地解決大尺寸的問題。
[0003]噴墨印刷分為連續(xù)印刷和非連續(xù)印刷。連續(xù)印刷方式屬于無光罩、無接觸式的制程，優(yōu)點(diǎn)在于逐次印刷，因?yàn)榭趶奖容^大，可以連續(xù)穩(wěn)定地噴出墨水而不易堵塞噴嘴，良率高，易于大型化的同時(shí)Ink組成自由度大。但是在連續(xù)印刷的過程中，需要在一次打印循環(huán)中對(duì)其中幾行像素進(jìn)行墨水噴射，而在下一次打印循環(huán)中對(duì)另外幾行像素進(jìn)行墨水噴射，如此循環(huán)往復(fù)進(jìn)行逐次打印，以實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)基板的噴射。
[0004]而在連續(xù)打印過程中，像素之間的堤壩(bank)上也會(huì)有墨滴滴上，而現(xiàn)有的常規(guī)堤壩在金屬走線和TFT區(qū)域會(huì)有不太平整的現(xiàn)象，導(dǎo)致墨滴殘留在此區(qū)域，從而改變?cè)搮^(qū)域的表面疏水特性，后續(xù)再打印其他膜層時(shí)，可能會(huì)殘留更多的墨水以致進(jìn)一步影響像素內(nèi)部的均勻性或者導(dǎo)致相鄰像素間的串色現(xiàn)象。
[0005]因此需要一種解決現(xiàn)有技術(shù)中的上述問題的改進(jìn)的技術(shù)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]為了解決以上技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種基板組件及其制備方法。
[0007]根據(jù)一方面，提供了一種基板組件，包括:基板；在所述基板上的電極、金屬布線和TFT;以及在所述基板之上的堤壩，所述堤壩包圍像素區(qū)域并裸露出所述電極；其中，所述堤壩的遠(yuǎn)離基板的表面上包括一個(gè)或多個(gè)凹槽，所述凹槽適用于收集在后續(xù)噴墨打印工藝中殘留在所述堤壩上的墨滴。
[0008]根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，所述基板組件適用于經(jīng)由連續(xù)噴墨打印工藝以制成OLED顯示面板。
[0009]根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，所述堤壩由疏水性材料制成。
[0010]根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，在所述堤壩與所述金屬布線和TFT層之間還存在絕緣保護(hù)層。
[0011]根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，所述凹槽位于在基板行或列方向上的尺寸大于等于100微米的堤壩上。
[0012]根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，所述凹槽為截錐體結(jié)構(gòu)，并且所述凹槽在所述堤壩的所述表面處的開口直徑為20-100微米。
[0013]根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，所述凹槽在所述堤壩的所述表面處的水平維度最小尺寸至少為20微米。
[0014]根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，所述凹槽位于與所述TFT和所述金屬布線對(duì)應(yīng)的堤壩上。
[0015]根據(jù)另一方面，提供一種基板組件的制備方法，包括:在基板上形成金屬布線、TFT和電極；在所述基板之上形成堤壩，并且所述堤壩包圍像素區(qū)域并且裸露出所述電極；在所述堤壩的遠(yuǎn)離所述基板的表面上形成一個(gè)或多個(gè)凹槽，其中所述凹槽用于收集在后續(xù)噴墨打印過程中殘留在所述堤壩上的墨滴。
[0016]根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，使用曝光量可調(diào)的掩模制備所述凹槽。
[0017]根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，所述堤壩經(jīng)由涂布和掩模曝光顯影工藝形成，并且利用與曝光顯影形成所述堤壩所使用的同一掩模來曝光顯影形成所述凹槽。
[0018]根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，在基板行或列方向上的尺寸大于等于100微米的堤壩上形成所述凹槽。
[0019]為了制備完整的顯示面板，該方法還包括在所述基板之上噴射有機(jī)發(fā)光材料溶液以及進(jìn)行干燥處理的步驟，以及還包括形成另一電極以及進(jìn)行封裝的步驟。
[0020]根據(jù)另一方面，提供了一種顯示裝置，包括如上文所述的基板組件。
[0021]本發(fā)明的有益效果是在像素TFT和金屬走線區(qū)域處的堤壩上制備凹槽，使連續(xù)打印過程中落在此區(qū)域的墨水都留在凹槽內(nèi)，從而解決常規(guī)堤壩設(shè)計(jì)中由于墨滴殘留此處導(dǎo)致表面疏水特性改變，導(dǎo)致后續(xù)打印中殘留更多的墨水或者進(jìn)一步影響墨水在像素內(nèi)部的均勻性或者像素間串色現(xiàn)象。另外此凹槽的制備不需要額外增加掩?；蛟黾庸ば?，簡單易于實(shí)現(xiàn)。
【附圖說明】
[0022]包括附圖以提供對(duì)實(shí)施例的進(jìn)一步理解并且附圖被并入本說明書中并且構(gòu)成本說明書的一部分。附圖圖示了實(shí)施例并且與描述一起用于解釋實(shí)施例的原理。將容易認(rèn)識(shí)到其它實(shí)施例和實(shí)施例的很多預(yù)期優(yōu)點(diǎn)，因?yàn)橥ㄟ^引用以下詳細(xì)描述，它們變得被更好地理解。附圖的元件不一定是相互按照比例的。同樣的參考數(shù)字指代對(duì)應(yīng)的類似部件。
[0023]圖1圖不了現(xiàn)有技術(shù)中的基板組件的不意圖；
圖2以側(cè)截面圖示出了現(xiàn)有技術(shù)中的基板組件的示意圖；
圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的基板組件的示意圖；
圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的基板組件的示意圖。
[0024]圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板組件的制備方法。
【具體實(shí)施方式】
[0025]在以下詳細(xì)描述中，參考附圖，該附圖形成詳細(xì)描述的一部分，并且通過其中可實(shí)踐本發(fā)明的說明性具體實(shí)施例來示出。對(duì)此，參考描述的圖的取向來使用方向術(shù)語，例如“頂”、“底”、“左”、“右”、“上”、“下”等。因?yàn)閷?shí)施例的部件可被定位于若干不同取向中，為了圖示的目的使用方向術(shù)語并且方向術(shù)語絕非限制。應(yīng)當(dāng)理解的是，可以利用其他實(shí)施例或可以做出邏輯改變，而不背離本發(fā)明的范圍。因此以下詳細(xì)描述不應(yīng)當(dāng)在限制的意義上被采用，并且本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求來限定。
[0026]此外，關(guān)于形成或定位在表面“之上”的部分、元件或材料層使用的詞語“之上”可以在本文被用于表示該部分、元件或材料層“直接在”暗示的表面上定位(例如放置、形成、沉積等)，例如與其直接接觸。關(guān)于形成或定位在表面“之上”的部分、元件或材料層使用的詞語“之上”可以在本文被用于表示該部分、元件或材料層被定位(例如放置、形成、沉積等)為“間接在”所暗示的表面上，而具有被布置在所暗示的表面和該部分、元件或材料層之間的一個(gè)或多個(gè)附加部分、元件或?qū)印?br>[0027]應(yīng)當(dāng)理解的是，本文描述的各個(gè)示例性實(shí)施例的特征可以相互組合，除非特別另外指出。
[0028]圖1圖示了現(xiàn)有技術(shù)中的基板組件的示意圖。該基板組件可用于制造OLED發(fā)光設(shè)備。圖1示出了位于基板上的幾個(gè)示例性像素區(qū)域及周邊的元件。其中從圖1可看出，現(xiàn)有技術(shù)中的基板組件包括形成于基板上的像素區(qū)域2、TFT3和金屬布線4。其中在各個(gè)準(zhǔn)矩形的像素區(qū)域2處具有電極，其一般是陽極電極(在后續(xù)工藝中，其將被噴射有有機(jī)發(fā)光材料)，該電極通常由親水性導(dǎo)電材料制成，例如由銦錫氧化物(ΙΤ0)制成，或者由金屬制成。而圍繞在像素區(qū)域2周圍的邊界區(qū)域上具有薄膜晶體管(TFT) 3和金屬布線4以及其他必要的部件。而本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的是，在TFT3和金屬布線4上一般還形成有絕緣保護(hù)層和平坦化膜，本申請(qǐng)省略了對(duì)這些常規(guī)部分的描述。值得注意的是，該像素區(qū)域的形狀并不限于圖中所示出的形狀，其可以是適當(dāng)?shù)娜魏涡螤?，如圓形、橢圓形等。以上這些部件均為本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的部件，并且其制備方法也是本領(lǐng)域熟知的工藝，而在此省去對(duì)其的具體制備方法的描述。
[0029]另外，雖然在圖1中未示出，在該邊界區(qū)域上形成有由疏水性材料制成的堤壩(bank)6，其也可以稱為堤形物、隔壁或圍堰等。該堤壩用于包圍所述像素區(qū)域，以形成阱
2。該阱2有利于在后續(xù)的噴墨打印過程中使墨滴積聚到該阱2中。在圖2中以側(cè)截面圖示出了現(xiàn)有技術(shù)中的基板組件的一部分的示意圖。其中對(duì)照?qǐng)D1中所示的俯視圖示出了堤壩6和基板5的側(cè)視截面圖。該堤壩6可通過先在基板上沉積或涂布一層疏水性材料層，然后進(jìn)行掩模曝光顯影來形成。該堤壩6所使用的疏水性材料可以是有機(jī)含氟聚合物或者其他適合的材料。在正常的情況下，該堤壩6的表面是疏水性的，從而在后續(xù)的噴墨打印的過程中，墨滴并不會(huì)在堤壩6上殘留，而是積聚在阱2中，即電極上。然而，常規(guī)的堤壩的有些區(qū)域會(huì)有不太平整的現(xiàn)象，即在一次噴墨打印之后，堤壩6上有可能殘留一些墨滴(如圖2中的附圖標(biāo)記I示例性所示那樣)。而該殘留的墨滴I將影響了堤壩表面的疏水特性，從而在下一次的噴墨打印過程中(在連續(xù)打印工藝中需要逐次打印)，該殘留的墨滴I將吸引更多