029]圖3 (a) ~ (C)是用于說明拍攝結(jié)果中的掩模對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像和基板對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像的位置關(guān)系的圖。
[0030]圖4 (a)~ (c)是用于說明靠近移動的圖。
[0031]圖5是本發(fā)明的第二例的對準(zhǔn)裝置和成膜裝置。
【具體實施方式】
[0032]圖1的附圖標(biāo)記2表示本發(fā)明的對準(zhǔn)裝置，該對準(zhǔn)裝置2被設(shè)置在成膜裝置3中。
[0033]成膜裝置3具有真空槽10。
[0034]對準(zhǔn)裝置2具有掩模保持裝置21和基板支架(holder)22，掩模保持裝置21和基板支架22被配置于真空槽10的內(nèi)部。
[0035]真空排氣裝置19連接于真空槽10，真空槽10的內(nèi)部被真空排氣而處于真空環(huán)境。真空排氣裝置19繼續(xù)工作，真空槽10的內(nèi)部繼續(xù)被真空排氣。在掩模保持裝置21以能更換的方式配置有加工掩模31，在加工掩模31的附著物的量增加時被從真空槽10搬出，其他的加工掩模被配置于掩模保持裝置21。
[0036]在圖1中，向真空槽10的內(nèi)部搬入作為加工對象物的基板32并將其配置于基板支架22?；?2是玻璃基板等透明的基板。
[0037]使基板32和加工掩模31分別在基板支架22和掩模保持裝置21為水平。
[0038]配置于基板支架22的基板32位于配置于掩模保持裝置21的加工掩模31的上方，使基板32和加工掩模31分離。在加工掩模31的下方配置有成膜源11。
[0039]關(guān)于成膜源11，在該例子中是濺射靶，濺射氣體源18連接于真空槽10，能夠從濺射氣體源18向真空槽10內(nèi)導(dǎo)入濺射氣體。
[0040]加工掩模31是金屬制的板，在該板形成有規(guī)定圖案的貫通孔(包括貫通槽)33，配置于掩模保持裝置21的加工掩模31的單面與基板32相面對，相反側(cè)的面與成膜源11相面對。
[0041]在基板32被配置于基板支架22時，進行機械的對準(zhǔn)，加工掩模31和基板32變?yōu)檫M行了低精度的位置對準(zhǔn)的狀態(tài)。
[0042]相對于進行了加工掩模31和基板32之間的位置對準(zhǔn)時的位置關(guān)系，在進行了機械的位置對準(zhǔn)的狀態(tài)下，實際的相對位置的誤差大，因此，為了使位置對準(zhǔn)的精度變高，進行利用對準(zhǔn)裝置2的位置對準(zhǔn)。
[0043]對準(zhǔn)裝置2具有移動裝置14和拍攝裝置12。
[0044]拍攝裝置12具有二個攝像機12pl22。在真空槽10的基板支架22的上方位置密封地設(shè)置有透明的窗部151、152，二個攝像機121、122被配置于真空槽10的外部，能夠經(jīng)由窗部15ρ152對配置于真空槽10的內(nèi)部的基板支架22的基板32進行拍攝。
[0045]加工掩模31和基板32為正方形或長方形的四角形形狀，在加工掩模31和基板32的四角之中的對角處(未相鄰的角附近之處)分別至少各一個地設(shè)置有掩模對準(zhǔn)標(biāo)記和基板對準(zhǔn)標(biāo)記。
[0046]基板32是透明的，攝像機12p 122能夠利用透射基板32的光對基板32重疊的加工掩模31進行拍攝，二個攝像機12pl22被配置在掩模對準(zhǔn)標(biāo)記和基板對準(zhǔn)標(biāo)記所處的對角處進入拍攝范圍內(nèi)之處。
[0047]在進行了機械的對準(zhǔn)的狀態(tài)下，位于相同的對角處的掩模對準(zhǔn)標(biāo)記和基板對準(zhǔn)標(biāo)記靠近，在對角處靠近的掩模對準(zhǔn)標(biāo)記和基板對準(zhǔn)標(biāo)記位于二個攝像機12pl22之中的任一個攝像機12^12^9拍攝范圍內(nèi)。
[0048]在后述的使加工掩模31和基板32接近的靠近移動時，加工掩模31相對于攝像機12^12；^靜止，攝像機12 使焦點位于掩模對準(zhǔn)標(biāo)記。
[0049]因此，關(guān)于掩模對準(zhǔn)標(biāo)記，也能夠觀察細微部分，與此相對地，基板對準(zhǔn)標(biāo)記位于比焦點位置靠近攝像機12pl22之處，與位于焦點時相比，圖像容易模糊。
[0050]因此，掩模對準(zhǔn)標(biāo)記的輪廓線是角多的十字形形狀，在圖像模糊的情況下，角部不能檢測而位置不能特別指定，但是，在焦點上，能夠檢測出角部來正確地特別指定位置。
[0051]與此相對地，基板對準(zhǔn)標(biāo)記的輪廓線沒有角而采用比掩模對準(zhǔn)標(biāo)記大的圓形，即使在位于焦點的情況下，也難以正確地特別指定位置，但是，即使在圖像模糊的情況下也能夠大致特別指定中心，因此，即使是低精度，也能夠特別指定位置。
[0052]再有，關(guān)于十字形形狀和圓形形狀，當(dāng)使輪廓線為黑時，優(yōu)選的是，用黑全面涂抹輪廓線的內(nèi)側(cè)。
[0053]接著，當(dāng)對掩模對準(zhǔn)標(biāo)記和基板對準(zhǔn)標(biāo)記的位置關(guān)系進行說明時，首先，關(guān)于基板32，基板32的緣部分與基板支架22接觸，基板32的中央部分不與基板支架22接觸的其結(jié)果是，如圖4 (a)所示，由于基板32的重量，基板32彎曲，中央部分垂下。
[0054]當(dāng)考慮在加工掩模31沒有彎曲但在基板32也沒有彎曲的狀態(tài)下配置于基板支架22時的情況時，在該情況下，以能夠重疊地配置分別位于分離的對角處的二個基板對準(zhǔn)標(biāo)記和掩模對準(zhǔn)標(biāo)記的方式形成掩模對準(zhǔn)標(biāo)記和基板對準(zhǔn)標(biāo)記。也就是說，在加工掩模31和基板32沒有彎曲時，相等地形成對角處的掩模對準(zhǔn)標(biāo)記的中心間的距離和對角處的基板對準(zhǔn)標(biāo)記的中心間的距離，在重疊地配置時，基板32的形成薄膜的部分與貫通孔33相面對，加工掩模31和基板32變?yōu)檫M行了正確的位置對準(zhǔn)的位置關(guān)系。
[0055]連結(jié)基板對準(zhǔn)標(biāo)記的中心間的直線的長度在基板32彎曲時被縮短，因此，基板對準(zhǔn)標(biāo)記的中心間的距離在基板32彎曲時變短，因此，在基板32彎曲時，不能將對角處的二個基板對準(zhǔn)標(biāo)記一起重疊地配置在對角處的二個掩模對準(zhǔn)標(biāo)記上。
[0056]在基板32被配置于基板支架22時，配置于基板支架22的基板32和配置于掩模保持裝置21的加工掩模31在忽視基板32的彎曲時彼此平行地分離而定位。
[0057]加工掩模31和基板32之間的分離距離為當(dāng)忽視彎曲時位于加工掩模31和基板32之間并且與加工掩模31和基板32垂直交叉的線段的長度。
[0058]當(dāng)考慮基板32的彎曲來規(guī)定正確地位置對準(zhǔn)加工掩模31和基板32的位置關(guān)系時，在使加工掩模31和彎曲的基板32不在與分離距離的線段垂直的方向上移動而接近時，首先，基板32彎曲而垂下的部分的最低點接觸于加工掩模31，因此，在接觸的部分不滑動而進一步接近而使基板32與加工掩模31緊貼時掩模對準(zhǔn)標(biāo)記和基板對準(zhǔn)標(biāo)記重合的情況下，接觸前的加工掩模31和彎曲的基板32處于正確地進行了位置對準(zhǔn)的位置關(guān)系。
[0059]為了開始基板32彎曲了的狀態(tài)下的位置對準(zhǔn)方法，首先，進行如下處理:在拍攝工序中，使用拍攝裝置12的二個攝像機12pl22在相同時刻對對角處的掩模對準(zhǔn)標(biāo)記和基板對準(zhǔn)標(biāo)記進行拍攝來得到拍攝結(jié)果。
[0060]圖3 (a)示出了在一個或兩個顯示器上顯示拍攝結(jié)果45a、45b的狀態(tài)，在一個攝像機U1的拍攝結(jié)果45a之中和另一個攝像機12 2的拍攝結(jié)果45b之中，分別各一個地包含掩模對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像41a、41b和基板對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像42a、42b。
[0061]根據(jù)二個攝像機^、成的拍攝結(jié)果45a、45b可知:掩模對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像41a、41b間的距離和基板對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像42a、42b間的距離不同，不能重合掩模對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像41a,41b和基板對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像42a、42b。
[0062]圖3 (a)的拍攝結(jié)果45a、45b (和該圖(b)的拍攝結(jié)果46a、46b、該圖(c)的拍攝結(jié)果47a、47b)中的附圖標(biāo)記49表示在加工掩模31上連結(jié)位于對角處的掩模對準(zhǔn)標(biāo)記的中心的對角線。
[0063]在基板32由于彎曲發(fā)生變形時，當(dāng)基板32的中心為彎曲的最低點時，從正上方看彎曲的基板32時的形狀看上去像以基板32的最低點為中心地縮小。當(dāng)沒有彎曲的狀態(tài)的基板32和彎曲了的基板32處于相似的關(guān)系時而掩模對準(zhǔn)標(biāo)記與基板對準(zhǔn)標(biāo)記之間處于正確地位置對準(zhǔn)了的位置關(guān)系時，如圖3 (b)的拍攝結(jié)果46a、46b那樣，基板對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像42a、42b的中心位于對角線49上并且一個拍攝結(jié)果46a中的基板對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像42a的中心與掩模對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像41a的中心之間的距離和另一個拍攝結(jié)果46b中的基板對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像42b的中心與掩模對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像41b的中心之間的距離相等。
[0064]在以低精度進行了位置對準(zhǔn)時的圖3 Ca)的拍攝結(jié)果45a、45b中，基板對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像42a、42b的中心和掩模對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像41a、41b的中心不會變?yōu)檎_地進行了位置對準(zhǔn)的位置關(guān)系時所示的關(guān)系。
[0065]在通過拍攝工序得到拍攝結(jié)果45a、45b之后，處理轉(zhuǎn)移到誤差檢測工序。
[0066]拍攝裝置12連接于控制裝置13，拍攝結(jié)果45a、45b被輸出到控制裝置13，為了根據(jù)拍攝結(jié)果45a、45b對求取拍攝結(jié)果45a、45b時的加工掩模31和基板32的位置關(guān)系與正確地進行了位置對準(zhǔn)時的位置關(guān)系之間的誤差進行求取，通過控制裝置13分別求取以作為拍攝結(jié)果45a、45b中的掩模對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像41a、41b的中心的掩模側(cè)中心點和作為基板對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像42a、42b的中心的基板側(cè)中心點的任一側(cè)的中心為起點并且以另一側(cè)的中心為終點的第一、第二拍攝矢量。
[0067]關(guān)于這樣的第一、第二拍攝矢量，在以相同側(cè)的中心點為支點時而加工掩模31和基板32之間的位置關(guān)系為正確地進行了位置對準(zhǔn)的位置關(guān)系時，與對角線49平行，彼此的大小相等，此外，方向為相反。
[0068]圖3 Ca)的附圖標(biāo)記51a、51b為根據(jù)拍攝結(jié)果45a、45b得到的第一、第二拍攝矢量，根據(jù)從進行了正確的位置對準(zhǔn)時的拍攝結(jié)果46a、46b得到的拍攝矢量52a、52b和從實際的拍攝結(jié)果45a、45b求取的第一、第二拍攝矢量51a、51b之差來求取通過拍攝工序得到拍攝結(jié)果45a、45b時的加工掩模31和基板32的位置關(guān)系與被正確地位置對準(zhǔn)時的加工掩模31和基板32的位置關(guān)系之間的誤差角度及誤差距離以及誤差方向。誤差距離為誤差的值的絕對值。
[0069]只要使加工掩模31和基板32相對地移動而以使誤差角度和誤差距離為零的方式基于誤差方向來改變相對位置，則加工掩模31和基板32被位置對準(zhǔn)。
[0070]當(dāng)通過誤差檢測工序來求取誤差距離、誤差角度和