對準裝置和對準方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及對準技術，特別是涉及使對準時間變短的技術。
【背景技術】
[0002]在半導體制造工序、液晶顯示裝置制造工序等需要微細加工的技術領域中，為了形成圖案化后的薄膜，進行如下的光刻工序:在加工對象物上暫時形成薄膜，使用保護膜和光掩模對該薄膜進行蝕刻來進行圖案化。
[0003]然而，為了蝕刻而使用的化學物質、用于剝離保護膜的化學物質在圖案化對象的有機薄膜、圖案化對象的薄膜形成在有機薄膜上的情況下給有機薄膜帶來破壞，因此，不能采用光刻工序。
[0004]因此，使用如下技術:在成膜工序之前，在成膜對象物上配置具有圖案化后的貫通孔的加工掩模，使通過了貫通孔的薄膜材料的微粒子到達成膜對象物的表面，在成膜對象物表面上形成按照貫通孔的圖案的薄膜。
[0005]關于使用具有該貫通孔的加工掩模的工序，也與光刻工序的情況同樣地，需要進行加工掩模與成膜對象物的位置對準并且在將加工掩模和成膜對象物置于預先確定的相對的位置的狀態(tài)下使成膜材料微粒子通過貫通孔，為了進行位置對準，在使加工掩模和成膜對象物分離的狀態(tài)下，對加工掩模的對準標記和成膜對象物的對準標記進行拍攝，檢測加工掩模與成膜對象物之間的位置誤差，在使所求取的誤差為零的距離和方向上使加工掩模和成膜對象物相對移動。
[0006]然而，即使在應使位置的誤差為零的距離和方向上相對移動，當在移動后對加工掩模和成膜對象物的對準標記進行拍攝時，誤差也不為零，反倒檢測到必須再次進行對準的程度的大的誤差。
[0007]這是主要起因于使加工掩模和成膜對象物相對移動的移動裝置所具有的機械的誤差，當在使再次檢測出的誤差為零的距離和方向上相對移動之后再次檢測誤差時，誤差仍然大的情況是常見的，如果不進行許多次數的誤差檢測和相對移動，則不能進行期望精度的位置對準。
[0008]當進行許多次數的相對移動和誤差檢測時，對準所需要的時間變長。此外，由于在基板和加工掩模分離的狀態(tài)下進行位置對準，所以，當想要使基板和加工掩模接近來使基板和加工掩模緊貼時，在接近中產生誤差而不能在正確地位置對準了的狀態(tài)下進行緊貼。
[0009]本申請發(fā)明是為了解決上述現有技術的問題點而創(chuàng)作的，在于提供一種能夠在短時間內高精度地使基板和加工掩模接近的技術。
[0010]現有技術文獻專利文獻
專利文獻1:日本特開2003 - 306761號公報；
專利文獻2:日本特開2011 - 231384號公報。

【發(fā)明內容】

[0011]發(fā)明要解決的課題
本發(fā)明將提供一種在使基板和加工掩模接近之后位置對準精度也高的對準方法、對準裝置作為課題。
[0012]用于解決課題的方案
為了解決上述課題，本發(fā)明是一種對準裝置，具有:掩模保持裝置，配置有加工掩模；基板支架，配置有加工對象物；水平移動裝置，通過使所述掩模保持裝置和所述基板支架的任一個或雙方移動來改變所述加工掩模與所述加工對象物之間的相對的位置；靠近移動裝置，進行所述掩模保持裝置和所述基板支架接近的靠近移動；拍攝裝置，對配置于所述掩模保持裝置的所述加工掩模的掩模對準標記和配置于所述基板支架的所述加工對象物的基板對準標記一起進行拍攝，得到拍攝結果；以及控制裝置，控制所述水平移動裝置、所述靠近移動裝置和所述拍攝裝置來工作，所述控制裝置求取根據所述拍攝結果得到的所述加工掩模和所述加工對象物的相對的位置與進行了位置對準的狀態(tài)下的相對的位置之間的誤差距離和誤差方向，以使所述誤差距離變小的方式使所述水平移動裝置工作，其中，所述控制裝置被設定為一邊利用所述靠近移動裝置進行所述靠近移動，一邊重復進行:拍攝工序，使所述拍攝裝置工作來得到所述拍攝結果；誤差檢測工序，根據所述拍攝結果來求取所述誤差距離和所述誤差方向；以及移動工序，利用所述水平移動裝置以使所述誤差距離變小的方式開始所述加工掩模和所述加工對象物的相對移動。
[0013]本發(fā)明是對準裝置即如下的對準裝置:被設定為一邊在所述加工掩模與所述加工對象物的垂下的部分接觸的狀態(tài)下進行所述靠近移動一邊重復進行所述拍攝工序、所述誤差檢測工序和所述移動工序。
[0014]本發(fā)明是對準裝置即如下的對準裝置:被構成為在進行所述誤差檢測工序之后、進行所述移動工序之前設置對相對速度進行設定的速度設定工序，在所述速度設定工序中，在稍前的所述誤差檢測工序中求取的所述誤差距離為預先設定的主容許誤差量以下時，所述相對速度被設定為零，在所述誤差距離比所述主容許誤差量大時，所述相對速度被設定為規(guī)定的值，所述移動工序使所述相對移動為所述相對速度。
[0015]本發(fā)明是一種對準方法，求取使用相同的拍攝裝置對加工掩模的掩模對準標記和加工對象物的基板對準標記一起進行拍攝而得到拍攝結果時的所述加工掩模和所述加工對象物的相對位置與所述加工掩模和所述加工對象物進行位置對準時的相對位置之間的誤差距離和誤差方向，利用水平移動裝置使所述加工掩模和所述加工對象物的任一個或雙方移動來使所述誤差距離變小，其中，一邊進行使分離的所述加工掩模與所述加工對象物之間的分離距離變短的靠近移動，一邊重復進行:拍攝工序，使所述拍攝裝置工作來得到所述拍攝結果；誤差檢測工序，根據所述拍攝結果來求取所述誤差距離和所述誤差方向；以及移動工序，利用所述水平移動裝置以使所述誤差距離變小的方式使所述加工掩模和所述加工對象物相對移動。
[0016]本發(fā)明是對準方法，即如下的對準方法:一邊在所述加工掩模與所述加工對象物的垂下的部分接觸的狀態(tài)下使所述加工掩模與所述加工對象物分離的部分進行所述靠近移動一邊重復進行所述拍攝工序、所述誤差檢測工序和所述移動工序。
[0017]本發(fā)明是對準方法，即如下的對準方法:在進行所述誤差檢測工序之后、進行所述移動工序之前設置對相對速度進行設定的速度設定工序，在所述速度設定工序中，在稍前的所述誤差檢測工序中求取的所述誤差距離為預先設定的主容許誤差量以下時，所述相對速度被設定為零，在所述誤差距離比所述主容許誤差量大時，所述相對速度被設定為規(guī)定的值，所述移動工序開始所述相對速度的所述相對移動。
[0018]本發(fā)明是一種對準裝置，具有:移動裝置，通過使加工掩模和加工對象物的任一個或雙方移動來改變加工掩模和加工對象物之間的相對的位置；拍攝裝置，在相同的時刻對所述加工掩模的掩模對準標記和所述加工對象物的加工對準標記進行拍攝，得到拍攝結果；以及控制裝置，控制所述移動裝置和所述拍攝裝置來工作，所述控制裝置求取根據所述拍攝結果求取的所述加工掩模和所述加工對象物的相對的位置與進行了位置對準的狀態(tài)的相對的位置之間的差即誤差，以使所述誤差變小的方式來改變所述相對的位置，其中，對將所述誤差所包含的誤差距離與作為所述加工掩模和所述加工對象物之間的相對的移動的速度的相對速度相關聯的誤差速度關系進行設定，被設定為重復進行:拍攝工序，利用所述拍攝裝置來得到所述拍攝結果；求速度工序，根據由所述控制裝置得到的所述拍攝結果來求取所述加工掩模與所述加工對象物之間的相對位置的所述誤差距離，根據所求取的所述誤差距離和所述誤差速度關系來求取所述相對速度；以及移動工序，利用所述移動裝置使所述加工掩模和所述加工對象物開始在所求取的所述相對速度下的相對的移動，在所述誤差速度關系中設置有高精度范圍，在所述高精度范圍內設定有不同的所述相對速度并且與大的所述相對速度相關聯的誤差距離比與小的所述相對速度相關聯的誤差距離大。
[0019]本發(fā)明是對準裝置，即如下的對準裝置:在所述誤差速度關系中，在與所述高精度范圍相比所述誤差距離大的部分設定有將所述誤差距離與相同的值的所述相對速度相關聯的固定速度范圍。
[0020]本發(fā)明是對準裝置，即如下的對準裝置:在所述誤差距離變得比規(guī)定的容許距離小之后，使所述加工掩模和所述加工對象物沿相對地接近的方向移動而接觸。
[0021]本發(fā)明是對準裝置，即如下的對準裝置:在所述誤差距離至少比規(guī)定的容許距離小的范圍內，將零的值的所述相對速度與所述誤差距離相關聯。
[0022]本發(fā)明是一種對準方法，利用拍攝裝置在相同的時刻對加工掩模的掩模對準標記和加工對象物的加工對準標記進行拍攝來得到拍攝結果，利用控制裝置求取所述加工掩模的位置與所述加工對象物的位置之間的相對的誤差，利用移動裝置使所述加工掩模和所述加工對象物的任一個或雙方移動來使所述誤差變小，其中，采用誤差速度關系預先將所述誤差所包含的誤差距離與作為所述加工掩模和所述加工對象物之間的相對的移動的速度的相對速度相關聯，并且，具有:拍攝工序，利用所述拍攝裝置來得到所述拍攝結果；求速度工序，根據由所述控制裝置得到的所述拍攝結果來求取所述加工掩模與所述加工對象物之間的相對位置的所述誤差距離，根據所求取的所述誤差距離和所述誤差速度關系來求取所述相對速度；以及移動工序，利用所述移動裝置使所述加工掩模和所述加工對象物以所求取的所述相對速度開始相對的移動，被設定為重復進行所述拍攝工序、所述求速度工序和所述移動工序，在所述誤差速度關系中設置有高精度范圍，在所述高精度范圍內設定有不同的所述相對速度并且與大的所述相對速度相關聯的誤差距離比與小的所述相對速度相關聯的誤差距離大。
[0023]本發(fā)明是對準方法，即如下的對準方法:在所述誤差速度關系中，在與所述高精度范圍相比所述誤差距離大的部分設定有將所述誤差距離與相同的值的所述相對速度相關聯的固定速度范圍。
[0024]本發(fā)明是對準方法，即如下的對準方法:在所述誤差距離變得比規(guī)定的容許距離小之后，使所述加工掩模和所述加工對象物沿相對地接近的方向移動而接觸。
[0025]本發(fā)明是對準方法，即如下的對準方法:在所述誤差距離至少比規(guī)定的容許距離小的范圍內，將零的值的所述相對速度與所述誤差距離相關聯。
[0026]發(fā)明效果由于加工掩模和加工對象物在接觸之后也相對移動，所以，能夠使由靠近移動造成的誤差變小。
【附圖說明】
[0027]圖1是用于說明本發(fā)明的對準裝置和成膜裝置的圖。
[0028]圖2是用于說明誤差速度關系的圖表。
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