真空處理裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種具備被減壓的處理室的真空處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在進(jìn)行半導(dǎo)體晶圓等被處理物的處理的真空處理裝置中，例如在對真空處理室內(nèi)部進(jìn)行了減壓的狀態(tài)下向其內(nèi)部導(dǎo)入處理用氣體，對被導(dǎo)入的處理用氣體進(jìn)行等離子體化，利用與自由基的化學(xué)反應(yīng)、電子的濺射，進(jìn)行在具備靜電吸盤的試料臺上保持的半導(dǎo)體晶圓等被處理物的處理。
[0003]關(guān)于真空處理裝置，例如在專利文獻(xiàn)I中公開。另外，關(guān)于在真空處理腔室內(nèi)使用的靜電吸盤，例如在專利文獻(xiàn)2中公開。
[0004]在先技術(shù)文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)1:日本特開2005-252201號公報(bào)
[0007]專利文獻(xiàn)2:日本特表2005-516379號公報(bào)發(fā)明概要
[0008]發(fā)明要解決的課題
[0009]在真空處理裝置中使用了處理用氣體，在對處理用氣體進(jìn)行等離子體化而處理被處理物(晶圓)時反應(yīng)生成物附著于真空處理室內(nèi)部。當(dāng)在配置于處理室內(nèi)部的部件的表面附著反應(yīng)生成物時，產(chǎn)生如下問題，即，由于該部件的劣化，反應(yīng)生成物成為微小粒子而從表面剝離并落下，作為異物而附著在晶圓等進(jìn)行污染。為了抑制該情況，需要對處理室內(nèi)部的部件進(jìn)行定期更換或清掃，去除成為異物的原因的反應(yīng)生成物等，進(jìn)行使各部件的表面再生的處理(維護(hù))。維護(hù)的期間將處理室內(nèi)部向大氣壓的環(huán)境開放，無法進(jìn)行處理，停止了裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)，因此處理的效率降低。
[0010]并且，近年來，作為被處理物的半導(dǎo)體晶圓的大口徑化不斷發(fā)展。因此，真空處理裝置也大型化，構(gòu)成該裝置的各個部件也大型化，并且其重量也處于增加趨勢，預(yù)料到部件的拆卸或移動、安裝等變得不容易且維護(hù)所需要的時間增長，擔(dān)心維護(hù)效率的進(jìn)一步降低。
[0011]因此，發(fā)明人等研究通過現(xiàn)有的技術(shù)能否應(yīng)對上述課題。
[0012]在專利文獻(xiàn)I中公開了一種真空處理裝置，其具備上部內(nèi)筒腔室、試料臺以及配置在排氣部側(cè)的下部內(nèi)筒腔室，該上部內(nèi)筒腔室在外側(cè)腔室的內(nèi)部構(gòu)成進(jìn)行被處理物的處理的處理室。在本真空處理裝置中，在進(jìn)行維護(hù)時，將配置在上部內(nèi)筒腔室的上部的、構(gòu)成用于生成等離子體的放電室的放電室基板以將配置在搬運(yùn)室側(cè)的鉸接部作為支點(diǎn)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的方式向上方抬起，確保上部內(nèi)側(cè)腔室的作業(yè)空間，從而將上部內(nèi)側(cè)腔室向上方抬起而從外側(cè)腔室取出。另外，記載有如下技術(shù):供環(huán)狀的支承基座構(gòu)件(試料臺組件)固定的試料臺基板以將配置在搬運(yùn)室側(cè)的鉸接部作為支點(diǎn)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的方式向上方抬起，確保下部內(nèi)側(cè)腔室的作業(yè)空間，從而將下部內(nèi)側(cè)腔室向上方抬起而從外側(cè)腔室取出，該支承基座構(gòu)件具備將試料臺的鉛垂方向的中心作為軸而繞軸配置并固定的支承梁。需要說明的是，通過將支承梁以試料臺的鉛垂方向的中心為軸呈軸對稱配置(即，相對于試料臺的中心軸的氣體流路形狀為大致同軸軸對稱)，從而將上部內(nèi)筒腔室內(nèi)的試料臺上的空間的氣體等(處理氣體、等離子體中的粒子或反應(yīng)生成物)通過該支承梁彼此之間的空間而經(jīng)由下部內(nèi)筒腔室而被排出。由此，被處理物周向上的氣體的流動變得均勻，從而能夠?qū)崿F(xiàn)對被處理物的均勻處理。
[0013]在將該放電室基板以及試料臺基板以鉸接部為支點(diǎn)而拉起的技術(shù)應(yīng)用于大口徑化的被加工物的維護(hù)的情況下，由于固定有放電基板、試料臺的支承梁大型化且重量增加，因此難以通過手工將其向上部拉起，擔(dān)心確保上部內(nèi)筒腔室、下部內(nèi)筒腔室的作業(yè)空間變得困難。另外，排氣部的維護(hù)以從外側(cè)腔室的上部向內(nèi)窺視的方式進(jìn)行，擔(dān)心因裝置的大型化使手無法夠到而難以進(jìn)行充分的清掃。并且，擔(dān)心構(gòu)成向上部被拉起的放電基板、試料臺的部件的設(shè)置、更換等非穩(wěn)態(tài)維護(hù)使搭腳處變得不穩(wěn)定。即使利用吊車等將固定放電基板、試料臺的支承梁拉起，也無法消除后述的兩個問題。
[0014]在專利文獻(xiàn)2中公開有(沿水平方向)通過設(shè)于真空處理室的側(cè)壁的開口部從而能夠在腔室內(nèi)進(jìn)行安裝、拆卸且搭載有靜電吸盤裝配件的懸臂的基板支承部。在將該技術(shù)應(yīng)用于大口徑化的被加工物的維護(hù)的情況下，由于基板支承部在腔室側(cè)壁的開口部處進(jìn)行真空密封，因此擔(dān)心當(dāng)重量增加時朝向真空密封部的負(fù)載負(fù)荷增大而難以保持真空。另外，由于是懸臂，因此相對于試料支承部的中心軸線的氣體流路形狀無法成為同軸的軸對稱，被處理物的周向上的氣體的流動變得不均勻,難以對被處理物進(jìn)行均勻處理。
[0015]

【發(fā)明內(nèi)容】

[0016]本發(fā)明的目的在于，提供一種真空處理裝置，即使在被處理物為大口徑化的情況下，也能夠使處理的均勻性良好，并且不僅高效地進(jìn)行穩(wěn)態(tài)維護(hù)且高效地進(jìn)行非穩(wěn)態(tài)維護(hù)。
[0017]解決方案
[0018]作為用于實(shí)現(xiàn)上述目的的一方式，提供一種真空處理裝置，其特征在于，
[0019]所述真空處理裝置具有真空搬運(yùn)室和與所述真空搬運(yùn)室連接的真空處理室，
[0020]所述真空處理室具備:
[0021]具有排氣開口的基板；
[0022]下部容器，其配置在所述基板之上，且水平剖面的內(nèi)壁呈圓形；
[0023]試料臺單元，其配置在所述下部容器之上，且具有載置被處理物的試料臺以及具備支承梁的環(huán)狀的試料臺基座，該支承梁用于支承所述試料臺，且相對于所述試料臺的中心軸線呈軸對稱地配置；
[0024]上部容器，其配置在所述試料臺單元之上，且水平剖面的內(nèi)壁呈圓形；以及
[0025]移動機(jī)構(gòu)，其固定于所述試料臺基座，且使所述試料臺單元能夠在上下方向以及水平方向上移動。
[0026]另外，提供一種真空處理裝置，其具有大氣組件和真空組件，該真空組件具備真空搬運(yùn)室以及與所述真空搬運(yùn)室連接的真空處理室，
[0027]所述真空處理裝置的特征在于，
[0028]所述真空處理室具備；
[0029]具有排氣開口的基板；
[0030]下部容器，其配置在所述基板之上，且水平剖面的內(nèi)壁呈圓形；
[0031]試料臺單元，其配置在所述下部容器之上，且具有載置被處理物的試料臺以及具備支承梁的環(huán)狀的試料臺基座，該支承梁用于支承所述試料臺，且相對于所述試料臺的中心軸線呈軸對稱地配置；
[0032]上部容器，其配置在所述試料臺單元之上，且水平剖面的內(nèi)壁呈圓形；
[0033]放電組件單元，其配置在所述上部容器之上，包含放電組件基座以及安裝于所述放電組件基座且水平剖面的內(nèi)壁呈圓形的放電組件，在所述放電組件的內(nèi)側(cè)生成等離子體；以及
[0034]移動機(jī)構(gòu)，其分別獨(dú)立地固定于所述試料臺基座以及所述放電組件基座，且使所述試料臺單元以及所述放電組件單元能夠分別獨(dú)立地在上下方向以及水平方向上移動。
[0035]發(fā)明效果
[0036]根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種真空處理裝置，即使在被處理物大口徑化的情況下，也能夠使處理的均勻性良好，并且不僅高效地進(jìn)行穩(wěn)態(tài)維護(hù)還高效地進(jìn)行非穩(wěn)態(tài)維護(hù)。
【附圖說明】
[0037]圖1A是本發(fā)明的實(shí)施例的真空處理裝置的簡要俯視圖(局部透視)。
[0038]圖1B是圖1A所示的真空處理裝置的簡要立體圖。
[0039]圖2A是用于說明本發(fā)明的實(shí)施例的真空處理裝置中的被處理物的搬運(yùn)的主要部分簡要俯視圖(閘閥處于打開的狀態(tài)，搬運(yùn)機(jī)器人將被處理物搬入真空處理室的狀態(tài)，或者想要搬出的狀態(tài))。
[0040]圖2B是用于說明本發(fā)明的實(shí)施例的真空處理裝置中的被處理物的搬運(yùn)的主要部分簡要俯視圖(閘閥處于關(guān)閉的狀態(tài)，被處理物朝向真空搬運(yùn)室搬入的狀態(tài))。
[0041]圖3A是本發(fā)明的實(shí)施例的真空處理裝置中的真空處理室的剖視圖(閘閥關(guān)閉的狀態(tài))。
[0042]圖3B是本發(fā)明的實(shí)施例的真空處理裝置中的真空處理室的剖視圖(閘閥打開的狀態(tài))。
[0043]圖4A是用于說明本發(fā)明的實(shí)施例的真空處理裝置的真空處理室中的維護(hù)的順序的俯視圖(卸下線圈與電源后的狀態(tài))。
[0044]圖4B是圖4A所示的真空處理室的簡要剖視圖。
[0045]圖5A是用于說明本發(fā)明的實(shí)施例的真空處理裝置的真空處理室中的維護(hù)的順序的俯視圖(卸下石英板、防水板、石英內(nèi)筒后的狀態(tài))。
[0046]圖5B是圖5A所示的真空處理室的簡要剖視圖。
[0047]圖6A是用于說明本發(fā)明的實(shí)施例的真空處理裝置的真空處理室中的維護(hù)的順序的俯視圖(卸下氣體導(dǎo)入環(huán)后的狀態(tài))。
[0048]圖6B是圖6A所示的真空處理室的簡要剖視圖。
[0049]圖7A是用于說明本發(fā)明的實(shí)施例的真空處理裝置的真空處理室中的維護(hù)的順序的俯視圖(借助回旋升降機(jī)將放電組件單元抬起且回旋的狀態(tài))。
[0050]圖7B是圖7A所示的真空處理室的簡要剖視圖。
[0051]圖8A是用于說明本發(fā)明的實(shí)施例的真空處理裝置的真空處理室中的維護(hù)的順序的俯視圖(卸下接地環(huán)、上部容器后的狀態(tài))。
[0052]圖8B是圖8A所示的真空處理室的簡要剖視圖。
[0053]圖9A是用于說明本發(fā)明的實(shí)施例的真空處理裝置的真空處理室中的維護(hù)的順序的俯視圖(借助回旋升降機(jī)將試料臺單元抬起且回旋的狀態(tài))。
[0054]圖9B是圖9A所示的真空處理室的簡要剖視圖。
[0055]圖1OA是用于說明本發(fā)