本發(fā)明涉及集成電路制造設(shè)備,特別是涉及一種uv固化腔及半導(dǎo)體制造設(shè)備。
背景技術(shù):
1、uv固化是半導(dǎo)體芯片制造過程中常用的工藝。例如采用cvd設(shè)備制造納米多孔的低介電常數(shù)薄膜的兩個步驟中,第一步是用pecvd氣相沉積形成有機硅酸鹽玻璃“脊骨”和熱不穩(wěn)定有機相沉積物,第二步就是紫外線?(uv)?固化。uv光均勻地照在晶圓表面,晶圓表面預(yù)先形成的薄膜吸收uv光,使得熱不穩(wěn)定有機相沉積物變?yōu)闅鈶B(tài)從腔內(nèi)抽走。通過uv照射,可以去除晶圓表面不穩(wěn)定相,使得晶圓表面的有機硅酸鹽玻璃重構(gòu)并增強,從而誘導(dǎo)空隙形成,以形成最終的納米多孔薄膜。這個過程中,uv光在晶圓表面光照度均勻與否,直接與薄膜的均勻度強相關(guān),所以調(diào)節(jié)uv光在晶圓表面的光照均勻度直接影響薄膜的均勻度,即影響薄膜的質(zhì)量。除此之外,光刻工藝也會在顯影后進行uv固化以增強光刻膠強度,防止圖形坍塌。在半導(dǎo)體后段封裝工藝中也常用到uv照射工藝。雖然應(yīng)用不同,但這些工藝都對uv照射均勻性有較高要求。
2、現(xiàn)有的uv照射裝置的大體結(jié)構(gòu)包括uv燈組件、反射板及照射腔室。反射板位于uv燈組件和照射腔室之間,用于對入射到其表面的uv光進行反射以提高光照均勻性。但是現(xiàn)有技術(shù)中,反射板是和照射腔室一體固定連接的,其位置無法調(diào)節(jié)。一旦設(shè)備的其他結(jié)構(gòu)出現(xiàn)問題,例如uv燈組件內(nèi)部出現(xiàn)安裝偏差(uv燈組件的調(diào)節(jié)涉及很多結(jié)構(gòu),因此uv燈位置的調(diào)節(jié)極其困難)或不同uv燈的光照度存在差異,很有可能導(dǎo)致照射均勻性差,難以滿足工藝需求。
3、應(yīng)該注意,上面對技術(shù)背景的介紹只是為了方便對本發(fā)明的技術(shù)方案進行清楚、完整的說明,并方便本領(lǐng)域技術(shù)人員的理解而闡述的。不能僅僅因為這些方案在本發(fā)明的背景技術(shù)部分進行了闡述而認為上述技術(shù)方案為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點,本發(fā)明的目的在于提供一種uv固化腔及半導(dǎo)體制造設(shè)備,以解決現(xiàn)有的uv照射裝置因反射板的位置無法調(diào)節(jié),當(dāng)設(shè)備其他結(jié)構(gòu)出現(xiàn)問題時可能導(dǎo)致照射均勻性差,難以滿足工藝需求等問題。
2、為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的,本發(fā)明提供一種uv固化腔,所述uv固化腔包括自上而下依次設(shè)置的uv燈組件、底座組件及uv腔室;所述uv燈組件通過底座組件固定于uv腔室上,包括至少一個uv燈;所述底座組件包括呈環(huán)形分布的反射板以及設(shè)置在反射板外圍,且與反射板連接,以在需要時對反射板位置進行調(diào)整的微調(diào)裝置;所述微調(diào)裝置包括支撐架、x向移動件、y向移動件及z向移動件,各移動件可對反射板進行對應(yīng)方向的位置調(diào)節(jié),x向、y向和z向相互垂直;所述支撐架與反射板連接,自上而下包括相互配合的第一支架、第二支架及第三支架,相鄰的兩個支架上對應(yīng)設(shè)置有相互配合的x向?qū)Р邸向滑塊、y向?qū)Р奂皔向滑塊;所述x向移動件、y向移動件及z向移動件均包括相互配合的螺旋調(diào)節(jié)螺釘主動件及從動件;各移動件的主動件均穿過位于支撐架上的通孔直至與對應(yīng)的從動件螺紋配合,x向移動件和y向移動件的從動件各自抵接在支撐架上的不同斜楔塊的非斜面部的錐形座內(nèi),與x向移動件和y向移動件抵接的斜楔塊各自與支撐架上的不同斜楔塊斜面配合,在x向移動件和y向移動件的推動下,相互配合的斜楔塊沿斜面發(fā)生相對位移,z向移動件的從動件抵接在支撐架上另一斜楔塊的斜面的錐形座內(nèi),z向移動件為差動螺旋調(diào)節(jié)以及x向移動件及y向移動件中的至少一個為差動螺旋調(diào)節(jié)。
3、可選地,所述反射板為矩形環(huán)狀;所述微調(diào)裝置為4個,一一對應(yīng)設(shè)置于反射板的四個周向的外圍,且與對應(yīng)方向上的支撐架連接;周向相鄰的支撐架通過連接架和連接螺釘可拆卸連接,且各支撐架通過設(shè)置于連接架上的定位錐銷與反射板連接。
4、可選地,各支撐架的兩端具有階梯型連接結(jié)構(gòu),連接架與各階梯型連接結(jié)構(gòu)的底部連接。
5、可選地,所述uv燈組件包括若干uv燈及環(huán)繞各uv燈的拋物面型初級反射板。
6、可選地,各導(dǎo)槽為梯形槽,各滑塊為梯形塊。
7、可選地,所述第一支架與反射板固定連接,所述第一支架的下表面設(shè)置有x向滑塊,所述第二支架的上表面設(shè)置有x向?qū)Р郏龅诙Ъ艿南卤砻嬖O(shè)置有y向滑塊,所述第三支架的上表面設(shè)置有y向?qū)Р?,所述z向移動件設(shè)置于第三支架上,且z向移動件的從動件抵接在支撐架的位于第三支架下方的底架上的斜楔塊的斜面上。
8、可選地,第三支架的上表面的y向?qū)Р蹫閮蓚€,平行間隔設(shè)置于x向?qū)Р鄣南鄬蓚?cè),且與對應(yīng)的y向滑塊一一配合;所述z向移動件位于兩個y向?qū)Р壑g。
9、可選地,所述微調(diào)裝置還包括分別可繞x軸、y軸及z軸轉(zhuǎn)動的微旋組件,各微旋組件可實現(xiàn)反射板繞相應(yīng)軸向的位置微調(diào);各微旋組件包括差動螺旋調(diào)節(jié)螺釘主動件及從動件;各微旋組件的主動件均穿過位于支撐架上的通孔直至與對應(yīng)的從動件螺紋配合,且各從動件抵接在支撐架的表面。
10、可選地,所述uv固化腔還包括若干彈性件,所述彈性件套設(shè)于對應(yīng)移動件的主動件和/或與對應(yīng)移動件移動方向相同的螺釘上。
11、本發(fā)明還提供一種半導(dǎo)體制造設(shè)備,所述半導(dǎo)體制造設(shè)備包括如上述任一方案中所述的uv固化腔。
12、如上所述,本發(fā)明提供的uv固化腔及半導(dǎo)體制造設(shè)備,具有以下有益效果:本發(fā)明提供的uv固化腔及半導(dǎo)體制造設(shè)備經(jīng)改善的結(jié)構(gòu)設(shè)計,可以實現(xiàn)反射板位置的精確調(diào)整,有助于改善uv光照均勻性,提升工藝良率。
1.一種uv固化腔,其特征在于,所述uv固化腔包括自上而下依次設(shè)置的uv燈組件、底座組件及uv腔室;所述uv燈組件通過底座組件固定于uv腔室上,包括至少一個uv燈;所述底座組件包括呈環(huán)形分布的反射板以及設(shè)置在反射板外圍,且與反射板連接,以在需要時對反射板位置進行調(diào)整的微調(diào)裝置;所述微調(diào)裝置包括支撐架、x向移動件、y向移動件及z向移動件,各移動件可對反射板進行對應(yīng)方向的位置調(diào)節(jié),x向、y向和z向相互垂直;所述支撐架與反射板連接,自上而下包括相互配合的第一支架、第二支架及第三支架,相鄰的兩個支架上對應(yīng)設(shè)置有相互配合的x向?qū)Р邸向滑塊、y向?qū)Р奂皔向滑塊;所述x向移動件、y向移動件及z向移動件均包括相互配合的螺旋調(diào)節(jié)螺釘主動件及從動件;各移動件的主動件均穿過位于支撐架上的通孔直至與對應(yīng)的從動件螺紋配合,x向移動件和y向移動件的從動件各自抵接在支撐架上的不同斜楔塊的非斜面部的錐形座內(nèi),與x向移動件和y向移動件抵接的斜楔塊各自與支撐架上的不同斜楔塊斜面配合,在x向移動件和y向移動件的推動下,相互配合的斜楔塊沿斜面發(fā)生相對位移,z向移動件的從動件抵接在支撐架上另一斜楔塊的斜面的錐形座內(nèi),z向移動件為差動螺旋調(diào)節(jié)以及x向移動件及y向移動件中的至少一個為差動螺旋調(diào)節(jié)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的uv固化腔,其特征在于,所述反射板為矩形環(huán)狀;所述微調(diào)裝置為4個,一一對應(yīng)設(shè)置于反射板的四個周向的外圍,且與對應(yīng)方向上的支撐架連接;周向相鄰的支撐架通過連接架和連接螺釘可拆卸連接,且各支撐架通過設(shè)置于連接架上的定位錐銷與反射板連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的uv固化腔,其特征在于,各支撐架的兩端具有階梯型連接結(jié)構(gòu),連接架與各階梯型連接結(jié)構(gòu)的底部連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的uv固化腔,其特征在于:所述uv燈組件包括若干uv燈及環(huán)繞各uv燈的拋物面型初級反射板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的uv固化腔,其特征在于,各導(dǎo)槽為梯形槽,各滑塊為梯形塊。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的uv固化腔,其特征在于,所述第一支架與反射板固定連接,所述第一支架的下表面設(shè)置有x向滑塊,所述第二支架的上表面設(shè)置有x向?qū)Р?,所述第二支架的下表面設(shè)置有y向滑塊,所述第三支架的上表面設(shè)置有y向?qū)Р?,所述z向移動件設(shè)置于第三支架上,且z向移動件的從動件抵接在支撐架的位于第三支架下方的底架上的斜楔塊的斜面上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的uv固化腔,其特征在于,第三支架的上表面的y向?qū)Р蹫閮蓚€,平行間隔設(shè)置于x向?qū)Р鄣南鄬蓚?cè),且與對應(yīng)的y向滑塊一一配合;所述z向移動件位于兩個y向?qū)Р壑g。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項所述的uv固化腔,其特征在于,所述微調(diào)裝置還包括分別可繞x軸、y軸及z軸轉(zhuǎn)動的微旋組件,各微旋組件可實現(xiàn)反射板繞相應(yīng)軸向的位置微調(diào);各微旋組件包括差動螺旋調(diào)節(jié)螺釘主動件及從動件;各微旋組件的主動件均穿過位于支撐架上的通孔直至與對應(yīng)的從動件螺紋配合,且各從動件抵接在支撐架的表面。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的uv固化腔,其特征在于:所述uv固化腔還包括若干彈性件,所述彈性件套設(shè)于對應(yīng)移動件的主動件和/或與對應(yīng)移動件移動方向相同的螺釘上。
10.一種半導(dǎo)體制造設(shè)備,其特征在于,所述半導(dǎo)體制造設(shè)備包括如權(quán)利要求1至9任一項所述的uv固化腔。