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一種具有發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)的晶閘管的制作方法

文檔序號:12537821閱讀:266來源:國知局

本實(shí)用新型涉及晶閘管領(lǐng)域,具體為一種具有發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)的晶閘管。



背景技術(shù):

晶閘管發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)是為旁路晶閘管發(fā)射結(jié)而設(shè)計(jì)的電阻性連接。發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)的運(yùn)用,是作為一種工藝方法以提高正向阻斷電壓和器件的di/dt耐量,發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)不僅能有效地控制電壓的轉(zhuǎn)折,而且也能夠提高晶閘管最大的di/dt耐量。但發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)的存在,也會造成發(fā)射區(qū)的損失,而且也是導(dǎo)通面積的損失。由于導(dǎo)通面積的損失,造成晶閘管的通態(tài)壓降變大,從而使晶閘管發(fā)熱現(xiàn)象嚴(yán)重,間接加大了晶閘管散熱器的使用成本。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本實(shí)用新型的目的在于提供一種具有發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)的晶閘管,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種具有發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)的晶閘管,包括硅片,門極,扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn),所述硅片的中心位置上設(shè)置有所述門極,所述硅片上還設(shè)置有一組所述扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn),所述扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)以所述門極為圓心均布在所述硅片上。

優(yōu)選的,所述扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)采用扇形結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選的,所述扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)從所述門極到所述硅片邊緣共分布有四圈,從內(nèi)圈到外圈分布的所述扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)的數(shù)量依次遞增。

與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:該具有發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)的晶閘管的扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)取代傳統(tǒng)遍布于整個(gè)發(fā)射區(qū)的圓形短路點(diǎn),扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)與傳統(tǒng)遍布于整個(gè)發(fā)射區(qū)的圓形短路點(diǎn)相比,具有增加導(dǎo)通面積,減小晶閘管通態(tài)壓降,降低晶閘管發(fā)熱量,從而節(jié)省晶閘管散熱器的使用成本,避免短路點(diǎn)對等離子擴(kuò)展有過大的阻滯,提高晶閘管最大的di/dt耐量。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中:1、硅片,2、門極,3、扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

請參閱圖1,本實(shí)用新型提供一種技術(shù)方案:一種具有發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)的晶閘管,包括硅片1,門極2,扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)3,所述硅片1的中心位置上設(shè)置有所述門極2,所述硅片1上還設(shè)置有一組所述扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)3,所述扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)3以所述門極2為圓心均布在所述硅片1上,所述扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)3采用扇形結(jié)構(gòu),所述扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)3從所述門極2到所述硅片1邊緣共分布有四圈,從內(nèi)圈到外圈分布的所述扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)3的數(shù)量依次遞增。

工作原理:在使用該具有發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)的晶閘管時(shí),扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)取代傳統(tǒng)遍布于整個(gè)發(fā)射區(qū)的圓形短路點(diǎn),扇形發(fā)射區(qū)短路點(diǎn)與傳統(tǒng)遍布于整個(gè)發(fā)射區(qū)的圓形短路點(diǎn)相比,具有增加導(dǎo)通面積,減小晶閘管通態(tài)壓降,降低晶閘管發(fā)熱量,從而節(jié)省晶閘管散熱器的使用成本,避免短路點(diǎn)對等離子擴(kuò)展有過大的阻滯,提高晶閘管最大的di/dt耐量。

盡管已經(jīng)示出和描述了本實(shí)用新型的實(shí)施例,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,可以理解在不脫離本實(shí)用新型的原理和精神的情況下可以對這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型,本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。

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