專利名稱：：感光性組合物及圖案形成方法及永久圖案的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種感光性組合物以及圖案形成方法及永久圖案，所述感光性組合物的顯影性、焊錫耐熱性、耐折性、耐濕性優(yōu)良，固化被膜的撓性大幅度提高，適用于撓性印刷電路板的制造。
背景技術(shù)：
：近年來，各種印刷電路板中的抗焊劑，正在從利用絲網(wǎng)印刷的熱固型液狀抗蝕劑樹脂向稀堿性顯影型的液狀光抗焊劑墨轉(zhuǎn)移。例如，在專利文獻1中，提案有一種抗焊劑墨組合物，其含有使飽和或不飽和多元酸酐與酚醛清漆型環(huán)氧化合物和不飽和一羧酸的反應(yīng)物中反應(yīng)得到的光固性樹脂、光聚合引發(fā)劑、稀釋劑及具有2個以上環(huán)氧基的環(huán)氧化合物而成。但是，這時，以酚醛清漆型環(huán)氧樹脂為基質(zhì)的抗焊劑墨組合物，雖然其構(gòu)造上耐熱性優(yōu)良，但其存在的缺點在于固化被膜硬而脆，涂膜和基板之間的密合性劣化。因此，前述抗焊劑油墨組合物的用途限定于不需要固化被膜的撓性的玻璃環(huán)氧基板等剛性基板。但是，近年來，為了使加工工序簡化及使基板小型化、高密度化等，薄且具有撓性的電路板(撓性電路板)的使用正在增加，正在謀求具有撓性的抗焊劑墨組合物。為了滿足該要求，對具有撓性的抗焊劑油墨組合物進行了多次提案。例如，提案有如下抗焊劑墨組合物，其含有作為雙酚A型環(huán)氧樹脂、不飽和一羧酸和琥珀酸酐的反應(yīng)產(chǎn)物的具有不飽和基的聚羧酸樹脂、光聚合引發(fā)劑、稀釋劑及固化劑(參照專利文獻2)。但是，在該提案中，其耐折性不充分。另外，正在研究在稀堿性水溶液中使用可溶性聚氨酯樹脂作為感光性樹脂。例如，提案有如下感光性樹脂組合物，其含有感光性樹脂(A)、環(huán)氧樹脂(B)及光聚合引發(fā)劑(C)，其中，所述感光性樹脂(A)選自具有羧基的感光性聚酰胺樹脂及具有羧基的感光性聚酰胺酰亞胺樹脂中的至少1種(參照專利文獻3)。另外，在專利文獻4中，提案有如下感光性樹脂組合物，其含有感光性樹脂(A)、感光性樹脂(B)、彈性體(C)、環(huán)氧固化劑(D)及光聚合引發(fā)劑(E)，其中，所述感光性樹脂(A)具有羧基，是使飽和或不飽和多元酸酐與環(huán)氧化合物和不飽和一羧酸的酯化物中反應(yīng)而成的；所述環(huán)氧樹脂(B)選自具有羧基的感光性聚酰胺樹脂及具有羧基的感光性聚酰胺酰亞胺樹脂中的至少1種。依據(jù)這些感光性樹脂組合物，可以得到具有撓性的被膜，但目前的現(xiàn)狀是抗蝕劑墨組合物所要求的其它性能，例如稀堿顯影性、焊錫耐熱性、以及作為基板可靠性的重要性能的加壓蒸煮性尚不充分，期望盡快提供廣泛具備這些特性的電路基板用光抗焊劑墨組合物。專利文獻1:特公平1-54390號公報專利文獻2:特開平8-134390號公報專利文獻3:特開平10-246958號公報專利文獻4:特開平11-288087號公報
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于，提供一種感光性組合物及圖案形成方法及永久圖案，所述感光性組合物的顯影性、焊錫耐熱性、耐折性、耐加壓蒸煮(7°i/、乂〉卞一夕、7力一)性優(yōu)良，固化被膜的撓性大幅度提高，適用于撓性印刷電路板的制造。用于解決前述課題的方案如下所述。艮P，<1>一種感光性組合物，其特征在于，其至少含有(A)具有羧基的聚氨酯樹脂、(B)聚合性化合物、(C)光聚合引發(fā)劑及(D)熱交聯(lián)劑。<2>如前述<1>所述的感光性組合物，其中，(A)具有羧基的聚氨酯樹脂是使下述結(jié)構(gòu)式(i)表示的二異氰酸酯化合物和下述結(jié)構(gòu)式(n)及下述結(jié)構(gòu)式(III)的任一種表示的二醇化合物反應(yīng)而形成的。[化l]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>其中，在前述結(jié)構(gòu)式(i)(in)中，R"表示二價烴基。W表示氫原子或一價烴基。RLrS分別可以相同，也可以不同，表示二價烴基。Ar表示三價芳香族烴基。R'RS及Ar可以進一步用取代基取代，R2、R3、W及R5的相鄰的2個或3個連接可以形成環(huán)。<3>如前述<1>~<2〉中任一項所述的感光性組合物，其中，(A)具有羧基的聚氨酯樹脂的酸值為8(K300mgKOH/g。<4>如前述<1><3〉中任一項所述的感光性組合物，其中，(D)熱交聯(lián)劑是選自環(huán)氧樹脂化合物、氧雜環(huán)丁烷化合物、聚異氰酸酯化合物、聚異氰酸酯化合物中使嵌段劑反應(yīng)得到的化合物及三聚氰胺衍生物的至少一種。<5>如前述<1>~<4>中任一項所述的感光性組合物，其用于制造撓性印刷電路板。<6>—種圖案形成方法，其特征在于，其將前述<1>~<5>中任一項所述的感光性組合物涂敷在基體材料的表面，且進行干燥形成感光層后，進行曝光、顯影。<7>如前述<6>所述的圖案形成方法，其中，感光層通過具有n個接受來自光照射裝置的光并射出的素描部的光調(diào)制裝置，使來自前述光照射裝置的光調(diào)制后，用通過了排列有具有可以矯正由前述素描部中的射出面的偏斜引起的像差的非球面的微透鏡的微透鏡陣列的光進行曝光。<8>如前述<6>所述的圖案形成方法，其中，感光層通過具有n個接受來自光照射裝置的光并射出的素描部的光調(diào)制裝置，使來自前述光照射裝置的光調(diào)制后，用通過了排列有具有不使來自前述素描部的周邊部的光入射的透鏡開口形狀的微透鏡的微透鏡陣列的光進行曝光。<9>如前述<8>所述的圖案形成方法，其中，微透鏡具有可以矯正由素描部中的射出面的偏斜引起的像差的非球面。<10>如前述<7>~<9〉中任一項所述的圖案形成方法，其中，非球面是復(fù)曲(toric)面。<11〉如前述<8>所述的圖案形成方法，其中，微透鏡開口形狀為圓形。<12>如前述<8〉<11〉中任一項所述的圖案形成方法，其中，透鏡開口形狀通過在該透鏡面上設(shè)置遮光部來規(guī)范。<13>如前述<7><12>中任一項所述的圖案形成方法，其中，光調(diào)制裝置可以根據(jù)圖案信息控制由n個素描部中連續(xù)配置的任意不足n個前述素描部。<14>如前述<7>~<13〉中任一項所述的圖案形成方法，其中，光調(diào)制裝置是空間光調(diào)制元件。<15>如前述<14>所述的圖案形成方法，其中，空間光調(diào)制元件是數(shù)字微鏡設(shè)備(DMD)。<16>如前述<7><15>中任一項所述的圖案形成方法，其中，光照射裝置具有多個激光器、多模式光纖和聚集光學(xué)系統(tǒng)，所述聚集光學(xué)系統(tǒng)將來自該多種激光分別照射的激光束聚光，使其結(jié)合在前述多模式光纖上。<17>如前述<16>所述的圖案形成方法，其中，激光的波長是395~415nm。<18>—種永久圖案，其特征在于，其利用前述<6>~<17>中任一項所述的圖案形成方法形成。本發(fā)明的感光性組合物至少含有(A)具有羧基的聚氨酯樹脂、(B)聚合性化合物、(C)光聚合引發(fā)劑及(D)熱交聯(lián)劑。該(A)具有羧基的聚氨酯樹脂是使特定結(jié)構(gòu)的二異氰酸酯化合物和特定結(jié)構(gòu)的二醇化合物反應(yīng)而形成的。其結(jié)果，得到稀堿性顯影性優(yōu)良的感光性組合物，其固化被膜具有優(yōu)良的撓性、密合性、焊錫耐熱性、耐折性及耐加壓蒸煮性，適用于撓性印刷電路板的制造。依據(jù)本發(fā)明，可以解決目前的問題，可以提供一種感光性組合物、圖案形成方法及永久圖案，所述感光性組合物的顯影性、焊錫耐熱性、耐折性、耐加壓蒸煮性優(yōu)良，固化被膜的撓性大幅度提高，適用于撓性印刷電路板的制造。圖1是表示數(shù)字微鏡設(shè)備(DMD)的構(gòu)成的部分放大圖的一例。圖2A是用于說明DMD的操作的說明圖的一例。圖2B是用于說明與圖2A同樣的DMD的操作的說明圖的一例。圖3A是在將DMD不傾斜配置時和傾斜配置時，將曝光光束的配置及掃描線進行比較表示的俯視圖的一例。圖3B是與圖3A同樣的在將DMD不傾斜配置時和傾斜配置時，將其曝光光束的配置及掃描線進行比較表示的俯視圖的一例。圖4A是表示DMD的使用區(qū)域的實例的圖的一例。圖4B是表示與圖4A相同的DMD的使用區(qū)域的實例的圖的一例。圖5是用于說明通過由掃描器進行1次掃描而將圖案形成材料曝光的曝光方式的俯視圖的一例。圖6A是用于說明通過由掃描器進行多次掃描而將圖案形成材料曝光的曝光方式的俯視圖的一例。圖6B是用于說明通過由與圖6A相同的掃描器進行多次掃描而將圖案形成材料曝光的曝光方式的俯視圖的一例。圖7是表示圖案形成裝置的一例的外觀的概略立體圖的一例。圖8是表示圖案形成裝置的掃描器的構(gòu)成的概略立體圖的一例。圖9A是表示在圖案形成材料中形成的已曝光區(qū)域的俯視圖的一例。圖9B是表示利用各曝光頭的曝光區(qū)域的排列的圖的一例。圖10是表示含有光調(diào)制裝置的曝光頭的概略構(gòu)成的立體圖的一例。圖11是表示沿圖io所示的曝光頭構(gòu)成的光軸的副掃描方向的剖面圖的一例。圖12是基于圖案信息進行DMD控制的控制器的一例。圖13A是表示沿結(jié)合光學(xué)系統(tǒng)不同的其它的曝光頭的構(gòu)成的光軸的剖面圖的一例。圖13B是表示在不使用微透鏡陣列等時投影在被曝光面的光像的俯視圖的一例。圖13C是表示在使用有微透鏡陣列等時投影在被曝光面的光像的俯視圖的一例。圖14是用等高線表示構(gòu)成DMD的微鏡的反射面的偏斜的圖的一例。圖15A是在該反射鏡的兩個對角線方向表示前述微鏡的反射面的偏斜的圖的一例。圖15B是在該反射鏡的兩個對角線方向表示與圖15A相同的前述微鏡的反射面的偏斜的圖的一例。圖16A是在圖案形成裝置中使用的微透鏡陣列的正面圖的一例。圖16B是在圖案形成裝置中使用的微透鏡陣列的側(cè)面圖的一例。圖17A是構(gòu)成微透鏡陣列的微透鏡的正面圖的一例。圖17B是構(gòu)成微透鏡陣列的微透鏡的側(cè)面圖的一例。圖18A是將由微透鏡形成的聚光狀態(tài)在一個剖面內(nèi)表示的概略圖的圖I8B是將由微透鏡形成的聚光狀態(tài)在一個剖面內(nèi)表示的概略圖的圖19A是表示模擬本發(fā)明的微透鏡的聚光位置附近的光束直徑的結(jié)果的圖的一例。圖19B是在其他位置表示與圖19B相同的模擬結(jié)果的圖的一例。圖19C是在其他位置表示與圖19A相同的模擬結(jié)果的圖的一例。圖19D是在其他位置表示與圖1SU相同的模擬結(jié)果的圖的一例。圖20A是表示在現(xiàn)有的圖案形成方法中模擬在微透鏡的聚光位置附近的光束直徑的結(jié)果的圖的一例。圖20B是表示對其它的位置與圖20A同樣的模擬結(jié)果的圖的一例。圖20C是表示對其它的位置與圖20A同樣的模擬結(jié)果的圖的一例。圖20D是表示對其它的位置與圖20A同樣的模擬結(jié)果的圖的一例。圖21是表示合波激光器光源的其它構(gòu)成的俯視圖的一例。圖22A是構(gòu)成微透鏡陣列的微透鏡的正面圖的一例。圖22B是構(gòu)成微透鏡陣列的微透鏡的側(cè)面圖的一例。圖23A是表示對一個剖面內(nèi)由圖22A及B的微透鏡形成的聚光狀態(tài)的概略圖的一例。圖23B是表示對和圖23A的一例不同的剖面內(nèi)的概略圖的一例。圖24A是對利用光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)矯正的概念的說明圖的一例。圖24B是對利用光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)矯正的概念的說明圖的一例。圖24C是對利用光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)矯正的概念的說明圖的一例。圖25是表示光照射裝置是高斯分布，并且不進行光量分布的矯正時的光量分布的圖的一例。圖26是表示利用光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)矯正后的光量分布的圖的一例。圖27A(A)是表示纖維陣列光源構(gòu)成的立體圖，圖27A(B)是(A)的部分放大圖的一例，圖27A(C)及(D)是表示激光器射出部中的發(fā)光點的排列的俯視圖的一例。圖27B是表示纖維陣列光源的激光射出部中的發(fā)光點的排列的正面圖的一例。圖28是表示多模式光纖構(gòu)成的圖的一例。圖29是表示合波激光器光源構(gòu)成的俯視圖的一例。圖30是表示激光器模塊的構(gòu)成的俯視圖的一例。圖31是表示圖30所示的激光器模塊構(gòu)成的側(cè)面圖的一例。圖32是表示圖30所示的激光器模塊構(gòu)成的部分側(cè)面圖。圖33是表示激光陣列構(gòu)成的立體圖的一例。圖34A是表示多腔激光器的構(gòu)成的立體圖的一例。圖34B是將圖34A所示的多腔激光排列成陣列狀的多腔激光陣列的立體圖的一例。圖35是表示合波激光器光源的其它構(gòu)成的俯視圖的一例。圖36A是表示合波激光器光源的其它構(gòu)成的俯視圖的一例。圖36B是沿圖36A的光軸的剖面圖的一例。圖37A是沿表示現(xiàn)有的曝光裝置中的焦點深度和由本發(fā)明的圖案形成方法(圖案形成裝置)形成的焦點深度的不同的光軸的剖面圖的一例。圖37B是沿表示現(xiàn)有的曝光裝置中的焦點深度和由本發(fā)明的圖案形成方法(圖案形成裝置)形成的焦點深度的不同的光軸的剖面圖的一例。圖38A是表示構(gòu)成微陣列的微透鏡的其它實例的正面圖。圖38B是表示構(gòu)成微陣列的微透鏡的其它實例的側(cè)面圖。圖39A是表示構(gòu)成微陣列的微透鏡的正面圖的一例。圖39B是表示構(gòu)成微陣列的微透鏡的側(cè)面圖的一例。圖40是表示球面透鏡形狀例的圖。圖41是表示其它的透鏡面形狀例的圖。圖42是表示微透鏡陣列的其它實例的立體圖。圖43是表示微透鏡陣列的其它實例的俯視圖。圖44是表示微透鏡陣列的其它實例的俯視圖。圖45A是表示全部微透鏡陣列的其它實例的縱剖面圖。圖45B是表示全部微透鏡陣列的其它實例的縱剖面圖。圖45C是表示全部微透鏡陣列的其它實例的縱剖面圖。具體實施例方式(感光性組合物)本發(fā)明的感光性組合物至少含有(A)具有羧基的聚氨酯樹脂、(B)聚合性化合物、(C)光聚合引發(fā)劑及(D)熱交聯(lián)劑，根據(jù)需要，還含有其它成分。[(A)具有羧基的聚氨酯樹脂]前述具有羧基的聚氨酯樹脂沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇。優(yōu)選例如使下述結(jié)構(gòu)式(I)表示的二異氰酸酯化合物和下述結(jié)構(gòu)式(II)及下述結(jié)構(gòu)式(ni)的任一個表示的二醇化合物反應(yīng)形成的聚氨酯樹脂。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>在前述結(jié)構(gòu)式(I)中，R'表示二價烴基，例如，表示二價的脂肪族烴基或二價的芳香族烴基。該二價的脂肪族烴基優(yōu)選亞垸基，例如有亞乙基、亞丙基、亞丁基、亞戊基、亞己基等。前述二價的芳香族烴基優(yōu)選從芳基中除去一個氫原子而成的亞芳基，例如亞苯基等。需要說明的是，在W中，不與異氰酸酯基反應(yīng)的其它官能團，可以具有例如酯基、尿烷基、酰胺基、酰脲基等。這些基團可以進一步用取代基取代。前述取代基例如有羥基、鹵原子、硝基、羧基、氰基、烷基、芳基及雜環(huán)基等。在前述結(jié)構(gòu)式(II)中，f表示氫原子或一價烴基。該一價烴基表示例如垸基、芳烷基、芳基、烷氧基及芳氧基中的任意一個，這些基團可以進一步用取代基取代。前述烷基優(yōu)選碳數(shù)1~8的烷基，例如有甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、正己基、異己基、正庚基、正辛基、異辛前述芳烷基沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如有芐基、苯乙基、苯丙基等。前述芳基沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，優(yōu)選碳數(shù)615的芳基，例如有苯基、甲苯基、二甲苯基、聯(lián)苯基、萘基、蒽基、菲基等。前述烷氧基優(yōu)選碳數(shù)1~10的烷氧基，例如有甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等。在前述結(jié)構(gòu)式(n)及(m)中，rLrs分別可以相同，也可以不同，表示二價烴基。該二價烴基可以使用與上述W同樣的二價烴基，優(yōu)選碳數(shù)1~20的亞烷基、碳數(shù)615的亞芳基等。Ar表示三價的芳香族烴基，例如有從芳基中除去2個氫原子而成的亞芳基。R'RS及Ar可以進一步用取代基取代，R2、R3、114及115的相鄰的2個或3個連接可以形成環(huán)。該環(huán)例如有芳香族環(huán)、脂肪族環(huán)、雜環(huán)等。前述結(jié)構(gòu)式(I)表示的二異氰酸酯化合物，具體例如有2，4-甲苯二異氰酸酯、2,4-甲苯二異氰酸酯的二聚物、2，6-甲苯二異氰酸酯、對二甲苯二異氰酸酯、甲基亞二甲苯基二異氰酸酯、4,4'-二苯甲烷二異氰酸酯、1,5-亞萘基二異氰酸酯、3,3，-二甲基-聯(lián)苯基-4,4'-二異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯化合物；六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、枸杞堿二異氰酸酯、二聚酸二異氰酸酯等脂肪族二異氰酸酯化合物；異佛爾酮二異氰酸酯、4,4'-甲撐二(異氰酸環(huán)己酯)、甲基環(huán)己垸-2,4(或2,6)二異氰酸酯、1，3-(異氰酸甲酯)環(huán)己垸等脂環(huán)族二異氰酸酯化合物；作為1，3-丁二醇1摩爾和甲苯二異氰酸酯2摩爾的加成物等二醇化合物和二異氰酸酯化合物的反應(yīng)物的二異氰酸酯化合物等。這些物質(zhì)可以單獨使用1種，也可以同時使用2種以上。前述結(jié)構(gòu)式(n)或前述結(jié)構(gòu)式(ni)表示的具有羧基的二醇化合物例如有3,5-二羥基安息香酸、2,2-二(羥甲基)丙酸、2,2-二(羥乙基)丙酸、2,2-二(3-羥丙基)丙酸、2，2-二(羥甲基)醋酸、二-(4-羥苯基)醋酸、4，4-二-(4-羥苯基)戊酸、酒石酸等。這些物質(zhì)可以單獨使用1種，也可以同時使用2種以上。需要說明的是，前述聚氨酯樹脂由前述結(jié)構(gòu)式(I)表示的二異氰酸酯化合物及前述結(jié)構(gòu)式(II)或前述結(jié)構(gòu)式(III)表示的具有羧基的二醇化合物的2種以上形成即可。另外，在不使堿性顯影性降低的范圍內(nèi)，可以同時使用不具有羧基、而與其它異氰酸酯化合物不反應(yīng)的可以具有取代基的二醇化合物。該二醇化合物例如有乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、丙二醇、二丙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、新戊二醇、1,3-丁二醇、1，6-己二醇、2-丁烯-1,4-二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、1,4-二-P-羥基乙氧基環(huán)己垸、環(huán)己垸二甲醇、三環(huán)癸烷二甲醇、加氫雙酚A、加氫雙酚F、雙酚A的環(huán)氧乙烷加成物、雙酚A的環(huán)氧丙烷加成物、雙酚F的環(huán)氧乙烷加成物、雙酚F的環(huán)氧丙烷加成物、加氫雙酚A的環(huán)氧乙烷加成物、加氫雙酚A的環(huán)氧丙垸加成物、氫醌二羥乙基醚、對亞二甲苯醇、二羥乙基砜、二-(2-羥乙基)2,4-甲苯二氨基甲酸酯、2，4-甲苯-二-(2-羥乙基脲)、二-(2-羥乙基)間亞二甲苯基氨基甲酸酯、二-(2-羥乙基)鄰苯二甲酸酯等。這些物質(zhì)可以單獨使用1種，也可以同時使用2種以上。前述聚氨酯樹脂可以通過如下操作來合成將前述二異氰酸酯化合物及前述二醇化合物在非質(zhì)子性溶劑中，根據(jù)各自的反應(yīng)性添加活性的公知的催化劑，并進行加熱。前述二異氰酸酯化合物和前述二醇化合物的摩爾比(二異氰酸酯化合物二醇化合物)優(yōu)選為0.8:11.2:1。在前述聚氨酯樹脂末端殘存有異氰酸酯基時，通過用醇類或胺類等進行處理，最終以不殘存異氰酸酯基的形式合成。前述(A)成分的聚氨酯樹脂的酸值，優(yōu)選為80~300mgKOH/g，更優(yōu)選為80180mgKOH/g，進一步優(yōu)選為90170mgKOH/g，特別優(yōu)選為100~160mgKOH/g。當(dāng)前述酸值低于80mgKOH/g時，有時得到的感光性組合物顯示不出優(yōu)良的堿性顯影性，當(dāng)其超過300mgKOH/g時，有時由得到的感光性組合物形成的圖案的形狀劣化，得不到高的分辨率。在此，前述酸值的測定方法如下將一定量的聚氨酯羧酸溶解于例如甲氧基丙醇之類的溶劑中，通過用已知滴定度的氫氧化鉀水溶液進行滴定，可以由中和量算出其酸值。前述具有羧基的聚氨酯樹脂中的重均分子量(Mw)，優(yōu)選為1000以上，更優(yōu)選為5000~10萬。相對于前述感光性組合物，前述具有羧基的聚氨酯樹脂的含量優(yōu)選為5099.5質(zhì)量％，更優(yōu)選為50~95質(zhì)量％。當(dāng)前述聚氨酯樹脂的含量低于50質(zhì)量％時，有時達不到本發(fā)明的目的及效果，當(dāng)其過多時，由于聚合性化合物的存在量相對降低，故有時曝光部的堿性顯影液耐性和固化膜的力學(xué)強度及焊錫耐熱性劣化。需要說明的是，在本發(fā)明的感光性組合物中，除了前述聚氨酯樹脂以外，優(yōu)選進一步根據(jù)需要添加其它樹脂，相對于前述聚氨酯樹脂，其含量為50質(zhì)量％以下。前述其它樹脂例如有聚酰胺樹脂、環(huán)氧樹脂、聚縮醛樹脂、丙烯酸樹脂、甲基丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、酚醛清漆型苯酚樹脂等。前述聚合性化合物沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，優(yōu)選在分子中具有至少l個、優(yōu)選2個以上的可以進行加成聚合的基團，且在常壓下沸點為IO(TC以上的化合物，適當(dāng)例舉例如選自具有(甲基)丙烯基的單體的至少1種。前述具有(甲基)丙烯基的單體沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如有聚乙二醇一(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇一(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等單官能丙烯酸酯及單官能甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙垸三丙烯酸酯、三羥甲基丙垸三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、雙季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、雙季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯?；u丙)醚、三聚異氰酸三(丙烯酰基羥乙)酯、三聚氰酸三(丙烯?；u乙)酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷及甘油、雙酚等多官能醇中使環(huán)氧乙烷及環(huán)氧丙垸進行加成反應(yīng)后進行(甲基)丙烯酸酯化而成的物質(zhì)、特公昭48-41708號、特公昭50-6034號、特開昭51-37193號等各公報所記載的尿垸丙烯酸酯類；特開昭48-64183號、特公昭49-43191號、特公昭52-30490號等各公報所述的聚酯丙烯酸酯類；作為環(huán)氧樹脂和(甲基)丙烯酸的反應(yīng)產(chǎn)物的環(huán)氧丙烯酸酯類等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等。其中，特別優(yōu)選三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、雙季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、雙季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。在前述感光性組合物固體成分中，前述聚合性化合物的固體成分含量優(yōu)選550質(zhì)量％，更優(yōu)選10~40質(zhì)量％。當(dāng)該固體成分含量低于5質(zhì)量％時，有時發(fā)生顯影性劣化、曝光靈敏度降低等問題，當(dāng)其超過50質(zhì)量％時，有時感光層的粘合性過強，不優(yōu)選。作為前述光聚合引發(fā)劑，只要具有引發(fā)前述聚合性化合物聚合的能力，就沒有特別限制，可以從公知的光聚合引發(fā)劑中適當(dāng)選擇，例如，優(yōu)選相對于來自紫外線區(qū)域的可見光具有感光性的聚合引發(fā)劑，可以是與光激發(fā)形成的增感劑產(chǎn)生一些作用、生成活性自由基的活性劑，也可以是根據(jù)單體的種類引發(fā)陽離子聚合之類的引發(fā)劑。另外，前述光聚合引發(fā)劑優(yōu)選至少含有1種在約300800nm(更優(yōu)選330500nm)的范圍內(nèi)至少具有約50的分子吸光系數(shù)的成分。前述光聚合引發(fā)劑例如有鹵化烴衍生物(例如具有三嗪骨架的鹵化烴衍生物、具有噁二唑骨架的鹵化烴衍生物、具有噁二唑骨架的鹵化烴衍生物等)、膦化氧、六芳基聯(lián)二咪唑、肟衍生物、有機過氧化物、硫化物、酮化物、芳香族鑰鹽、酮肟醚等。前述具有三嗪骨架的卣化烴化合物例如有若林等人著Bull.Chem.Soc.Japan,42、2924(1969)所述的化合物、英國專利第1388492號說明書所述的化合物、特開昭53-133428號公報所述的化合物、德國(獨國)專利第3337024號說明書所述的化合物、依據(jù)F.C.Schaefer等的J.Org.Chem.;29、1527(1964)所述的化合物、特開昭62-58241號公報所述的化合物、特開平5-281728號公報所述的化合物、特開平5-34920號公報所述的化合物、美國專利第4212976號說明書中所述的化合物等。前述若林等人著Bull.Chem.Soc.Japan,42、2924(1969)所述的化合物例如有2-苯基-4,6-二(三氯甲基)-l,3，5-三嗪、2-(4-氯苯基)-4,6-二(三氯甲基)-l，3，5-三嗪、2-(4-甲苯基)-4,6-二(三氯甲基)-l,3,5-三嗪、2-(4-甲氧苯基)-4，6-二(三氯甲基)-l，3,5-三嗪、2-(2,4-二氯苯基)-4,6-二(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2，4,6-三(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-甲基-4,6-二(三氯甲基)-l，3,5-三嗪、2-正壬基-4,6-二(三氯甲基)-1,3,5-三嗪及2-(a,a,(3-三氯乙基)-4,6-二(三氯甲基)-l,3,5-三嗪等。前述英國專利1388492號說明書所述的化合物例如有2-苯乙烯基-4,6-二(三氯甲基)-1,3，5-三嗪、2-(4-甲基苯乙烯基)-4,6-二(三氯甲基)-l,3,5-三嗪、2-(4-甲氧基苯乙烯基)-4，6-二(三氯甲基)-l，3,5-三嗪、2-(4-甲氧基苯乙烯基)-4-氨基-6-三氯甲基-l,3，5-三嗪等。前述特開昭53-133428號公報所述的化合物例如有2-(4-甲氧基-萘并-1-酰基)-4,6-二(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-乙氧基-萘-l-?；?-4，6-二(三氯甲基)-l，3，5-三嗪、2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘-1-酰基]-4，6-二(三氯甲基)-1，3,5-三嗪、2-(4,7-二甲氧基-萘-l-?；?-4,6-二(三氯甲基)-l,3,5-三嗪及2-(苊-5-?；?-4，6-二(三氯甲基)-1,3,5-三嗪等。前述德國專利3337024號說明書所述的化合物例如有2-(4-苯乙烯基苯基)—4，6-二(三氯甲基)-1，3,5-三嗪、2-(4-(4-甲氧基苯乙烯基)苯基)-4，6-二(三氯甲基)-l,3,5-三嗪、2-(1-萘基亞乙烯基苯基)-4,6-二(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-氯苯乙烯基苯基-4，6-二(三氯甲基)-l，3，5-三嗪、2-(4-噻吩-2-亞乙烯基苯基)-4，6-二(三氯甲基)-l,3，5-三嗪、2-(4-噻吩-3-亞乙烯基苯基)-4,6-二(三氯甲基)-l,3，5-三嗪、2-(4-呋喃-2-亞乙烯基苯基)-4,6-二(三氯甲基)-l,3,5-三嗪及2-(4-苯并呋喃-2-亞乙烯基苯基)-4，6-二(三氯甲基)-l，3，5-三嗪等。前述依據(jù)F.C.Schaefer等的J.Org.Chem.;29、1527(1964)所述的化合物例如有2-甲基-4，6-二(三溴甲基)-l，3,5-三嗪、2,4,6-三(三溴甲基)-1,3，5-三嗪、2,4,6-三(二溴甲基)-1,3,5-三嗪、2-氨基-4-甲基-6-三(溴甲基)-1，3,5-三嗪及2-甲氧基-4-甲基-6-三氯甲基-l,3,5-三嗪等。前述特開昭62-58241號公報所述的化合物例如有:2-(4-苯基乙炔基苯基)-4,6-二(三氯甲基)-l，3，5-三嗪、2-(4-萘基-l-乙炔基苯基-4，6-二(三氯甲基H,3,5-三嗪、2-(4-(4-甲苯基乙炔基)苯基)-4，6-二(三氯甲基)-l，3，5-三嗪、2-(4-(4-甲氧基苯基)乙炔基苯基)-4,6-二(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2_(4-(4-異丙基苯基乙炔基)苯基)-4，6-二(三氯甲基H,3,5-三嗪、2-(4-(4-乙基苯基乙炔基)苯基)-4,6-二(三氯甲基)-l,3，5-三嗪等。前述特開平5-281728號公報所述的化合物例如有2-(4-三氟甲基苯基)-4,6-二(三氯甲基)-l,3,5-三嗪、2-(2,6-二氟苯基)-4，6-二(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(2,6-二氯苯基)-4，6-二(三氯甲基)-l,3，5-三嗪、2-(2,6-二溴苯基)-4,6-二(三氯甲基)-l,3,5-三嗪等。前述特開平5-34920號公報所述的化合物例如有2,4-二(三氯甲基)-6-[4-(N,N-二乙氧羰基甲胺基)-3-溴苯基]-l,3,5-三嗪、美國專利第4239850號說明書中所述的三鹵代甲基-s-三嗪化合物、以及2,4，6-三(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-氯苯基)-4,6-二(三溴甲基)-s-三嗪等。前述美國專利第4212976號說明書中所述的化合物例如有具有噁二唑骨架的化合物(例如2-三氯甲基-5-苯基-l,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-氯苯基)-l,3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(l-萘基)-l，3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(2-萘基)-1,3,4-噁二唑、2-三溴甲基-5-苯基-1，3,4-噁二唑、2-三溴甲基-5-(2-萘基)-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-苯乙烯基-l，3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-氯苯乙烯基)-l，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(l-萘基)-l,3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5_(4-正丁氧基苯乙烯基)-l,3,4-噁二唑、2-三溴甲基-5-苯乙烯基-l,3,4-噁二唑等)等。適用于本發(fā)明的肟衍生物例如有3-苯酰氧基亞氨基丁烷-2-酮、3-乙酰氧基亞氨基丁烷-2-酮、3-丙酰氧基亞氨基丁垸-2-酮、2-乙酰氧基亞氨基丁烷-3-酮、2-乙酰氧基亞氨基-l-苯丙烷-l-酮、2-苯酰氧基亞氨基-l-苯丙烷-l-酮、3-(4-甲苯磺酰氧基)亞氨基丁烷-2-酮及2-乙氧羰基羥基亞氨基-l-苯丙烷-l-酮等。另外，上述以外的光聚合引發(fā)劑例如有吖啶衍生物(例如9-苯基吖啶、1,7-二(9,9'-吖啶基廣垸等)；N-苯基甘氨酸等；多鹵代化合物(例如四溴化碳、苯基三溴甲砜、苯基三氯甲酮等)；香豆素類(例如3-(2-苯并呋喃甲?；?-7-二乙氨基香豆素、3-(2-苯甲酰)-7-(l-吡咯烷基)香豆素、3-苯?；?7-二乙氨基香豆素、3-(2-甲氧基苯?；?-7-二乙氨基香豆素、3-(4-二甲氨基苯?；?-7-二乙氨基香豆素、3,3，-羰基二(5，7-二-正丙氧基香豆素)、3,3，-羰基二(7-二乙氨基香豆素)、3-苯?；?7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲?；?-7-二乙氨基香豆素、3-(4-二乙氨基肉桂酰基)-7-二乙氨基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶羰基)香豆素、3-苯?；?5,7-二丙氧基香豆素、7-苯并三唑-2-?；愣顾亍⑦€有特開平5-19475號、特開平7-271028號、特開2002-363206號、特開2002-363207號、特開2002-363208號、特開2002-363209號公報等中所述的香豆素化合物等)；胺類(例如4-二甲氨基安息香酸乙酯、4-二甲氨基安息香酸正丁酯、4-二甲氨基安息香酸苯乙酯、4-二甲氨基安息香酸2-酞酰亞胺乙酯)、4-二甲氨基安息香酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯、五亞甲基二(4-二甲氨基苯甲酸酯)、3-二甲氨基安息香酸的苯乙酯、五亞甲基酯、4-二甲氨基苯甲醛、2-氯-4-二甲氨基苯甲醛、4-二甲氨基節(jié)醇、乙基(4-二甲氨基苯?；?乙酸酯、4-哌啶基苯乙酮、4-二甲氨基苯偶因、N,N-二甲基-4-甲苯胺、N,N-二乙基-3-乙氧基苯胺、三芐胺、二芐基苯胺、N-甲基-N-苯基芐胺、4-溴-N,N-二甲基苯胺、三月桂胺、氨基熒烷類(ODB、ODBII等)、結(jié)晶紫內(nèi)酯、無色結(jié)晶紫等)、?；⒒躅?例如二(2，4,6-三甲基苯?；?-苯基膦化氧、二(2,6-二甲氧基苯?；?-2,4，4-三甲基-戊基苯基膦化氧、LucirinTPO等)、芳環(huán)烯金屬類(例如二0i5-2，4-環(huán)戊二烯-l-?；?-二(2,6-二氟3-(lH-吡咯-l-?；?-苯基)鈦、"5-環(huán)戊二烯基16-枯烯基-鐵(l+)-六氟磷酸鹽(l-傳)、特開昭53-133428號公報、特公昭57-1819號公報、特公昭57-6096號公報、特公昭57-6096號公報及美國專利第3615455號說明書中所述的化合物等。前述酮化物例如有二苯甲酮、2-甲基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、4-甲氧基二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、4-溴二苯甲酮、2-羧基二苯甲酮、2-乙氧羰基二苯甲酮、二苯甲酮四羧酸或其四甲酯、4,4，-二(二垸氨基)二苯甲酮類(例如4,4'-二(二甲氨基)二苯甲酮、4,4，-二(二環(huán)己氨基)二苯甲酮、4,4，-二(二乙氨基)二苯甲酮、4，4，-二(二羥乙氨基)二苯甲酮、4-甲氧基-4，-二甲氨基二苯甲酮、4，4，-二甲氧基二苯甲酮、4-二甲氨基二苯甲酮、4-二甲氨基苯乙酮、二苯甲酰、蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-甲基蒽醌、菲醌、卩占噸酮、噻噸酮、2-氯-噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、芴酮、2-芐基-二甲氨基-l-(4-嗎啉代苯基)-l-丁酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-1-丙酮、2-羥基-2-甲基-[4-(l-甲基乙烯基)苯基]丙醇低聚物、苯偶因、苯偶因醚類(例如苯偶因甲醚、苯偶因乙醚、苯偶因丙醚、苯偶因異丙醚、苯偶因苯醚、節(jié)基二甲基縮酮)、吖啶酮、氯吖啶酮、N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-丁基-氯吖啶酮等。另外，為了調(diào)整在后述的感光層中曝光的感光靈敏度或感光波長，在前述光聚合引發(fā)劑的基礎(chǔ)上，可以添加增感劑。前述增感劑可以從根據(jù)作為后述的光照射裝置的可見光線及紫外線可見光激光等中適當(dāng)選擇。前述增感劑利用活性能量線成為激發(fā)狀態(tài)，通過與其它物質(zhì)(例如自由基發(fā)生劑、酸發(fā)生劑等)相互作用(例如能量轉(zhuǎn)移、電子轉(zhuǎn)移等)，可以產(chǎn)生自由基及酸等有用基團。前述增感劑沒有特別限制，可以從公知的增感劑中適當(dāng)選擇，例如有公知的多核芳香類(例如芘、紫蘇烯、苯并菲)、卩占噸類(例如熒光素、曙紅、紅霉素、若丹明B、孟加拉玫瑰紅)、菁類(例如印度羰花菁、硫羰花菁、噁羰花菁)、份菁類(例如份菁、碳份菁)、噻嗪類(例如硫堇、美藍、甲苯胺藍)、吖啶類(例如吖啶橙、氯黃素、吖啶黃)；蒽醌類(例如蒽醌)、^夕7U々厶類(例如^夕7y々厶)、吖啶酮類(例如吖啶酮、氯吖啶酮、N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-丁基-氯吖啶酮等)、香豆素類(例如..3-(2-苯并呋喃甲?；?-7-二乙氨基香豆素、3-(2-苯并呋喃甲?；?-7-(l-吡咯烷基)香豆素、3-苯?；?7-二乙氨基香豆素、3-(2-甲氧基苯?；?-7-二乙氨基香豆素、3-(4-二甲氨基苯酰基)-7-二乙氨基香豆素、3，3，-羰基二(5,7-二-正丙氧基香豆素)、3，3，-羰基二(7-二乙氨基香豆素)、3-苯?；?7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲?；?-7-二乙氨基香豆素、3-(4-二乙氨基肉桂酰基)-7-二乙氨基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶羰基傳豆素、3-苯?；?5,7-二丙氧基香豆素等，此外還有特開平5-19475號、特開平7-271028號、特開2002-363206號、特開2002-363207號、特開2002-363208號、特開2002-363209號等各公報中所述的香豆素化合物等。前述光聚合引發(fā)劑和前述增感劑的組合例如有特開2001-305734號公報中所述的電子轉(zhuǎn)移型引發(fā)系[(l)電子供給型引發(fā)劑及增感色素、(2)電子接受型引發(fā)劑及增感色素、(3)電子供給型引發(fā)劑、增感色素及電子接受型引發(fā)劑(三元引發(fā)系)等組合。相對于感光性樹脂組合物的全部成分，前述增感劑的含量優(yōu)選0.05~30質(zhì)量％，更優(yōu)選0.120質(zhì)量％，特別優(yōu)選0.2~10質(zhì)量％。當(dāng)該含量低于0.05質(zhì)量％時，有時對活性能量線的靈敏度降低，在曝光工序中花費時間，生產(chǎn)性降低，當(dāng)其超過30質(zhì)量％時，在保存時有時前述增感劑從前述感光層析出。前述光聚合引發(fā)劑可以單獨使用1種，也可以同時使用2種以上。前述光聚合引發(fā)劑特別優(yōu)選的實例，在后述的曝光中，使作為可以與波長405nm的激光相對應(yīng)的前述膦化氧類、前述a-氨烷基酮類、前述具有三嗪骨架的鹵化烴化合物和后述的作為增感劑的胺化合物組合的復(fù)合光引發(fā)劑、六芳基聯(lián)二咪唑化合物或鈦烯(千夕乂iy)等。在前述感光性組合物中，前述光聚合引發(fā)劑的含量優(yōu)選0.1~30質(zhì)量%，更優(yōu)選0.5~20質(zhì)量％，特別優(yōu)選0.5~15質(zhì)量％。[熱交聯(lián)劑]前述熱交聯(lián)劑沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，為了改善使用前述感光性組合物形成的感光層固化后的膜強度，可以在不影響顯影性等的范圍內(nèi)，可以使用例如選自環(huán)氧樹脂化合物、氧雜環(huán)丁烷化合物、聚異氰酸酯化合物、在聚異氰酸酯化合物中使嵌段劑反應(yīng)得到的化合物及三聚氰胺衍生物中的至少1種。前述環(huán)氧樹脂化合物例如雙二甲苯酚型或雙酚型環(huán)氧樹脂("YX4000、、/卞/、》工求1外'/:/社制造"等)或它們的混合物、具有異氰酸酯骨架等的雜環(huán)式環(huán)氧樹脂("TEPIC、日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)社制造"、"7，少夕、V卜PT810、于/《7W卞》亍^亇3力少X'社制造"等)、雙酚A型環(huán)氧樹脂、酚醛清漆型環(huán)氧樹脂、雙酚F型環(huán)氧樹脂、加氫雙酚A型環(huán)氧樹脂、縮水甘油基胺型環(huán)氧樹脂、乙內(nèi)酰脲型環(huán)氧樹脂、脂環(huán)式環(huán)氧樹脂、三羥基苯甲烷型環(huán)氧樹脂、雙酚S型環(huán)氧樹脂、雙酚A酚醛清漆型環(huán)氧樹脂、四苯甲基乙垸型環(huán)氧樹脂、縮水甘油基酞酸酯樹脂、四縮水甘油基二甲苯?；彝闃渲?、含萘環(huán)氧樹脂("ESN-190、ESN-360、新日鐵化學(xué)社制造"、「HP-4032,EXA-4750,EXA-4700;大日本O年化學(xué)工業(yè)社制造」等)、具有二環(huán)戊二烯骨架的環(huán)氧樹脂("HP-7200,HP-7200H;大日本^f乂年化學(xué)工業(yè)社制造"等)、縮水甘油基甲基丙烯酸酯共聚類環(huán)氧樹脂("CP-50S,CP-50M;日本油脂社制造"等)、環(huán)己基馬來酰亞胺和縮水甘油基甲基丙烯酸酯的共聚環(huán)氧樹脂等，但不限于這些。這些環(huán)氧樹脂可以單獨使用1種，也可以同時使用2種以上。前述氧雜環(huán)丁烷化合物例如有二[(3-甲基-3-氧雜環(huán)丁烷基甲氧基)甲基]醚、二[(3-乙基-3-氧雜環(huán)丁垸基甲氧基)甲基]醚、1,4-二[(3-甲基_3-氧雜環(huán)丁烷基甲氧基)甲基]苯、1,4-二[(3-乙基-3-氧雜環(huán)丁垸基甲氧基)甲基彈、丙烯酸(3-甲基-3-氧雜環(huán)丁烷基)甲酯、丙烯酸(3-乙基-3-氧雜環(huán)丁垸基)甲酯、甲基丙烯酸(3-甲基-3-氧雜環(huán)丁烷基)甲酯、甲基丙烯酸(3-乙基-3-氧雜環(huán)丁垸基)甲酯或這些物質(zhì)的低聚物或共聚物等多官能氧雜環(huán)丁垸類，此外還有，氧雜環(huán)丁垸基和酚醛清漆樹脂、聚(對羥基苯乙烯)、凝乳(力/^K)型雙酚類、杯(力y、7夕7)芳烴類、杯間苯二酚芳烴類、聚倍半矽噁烷(、乂AiT7年才^廿y)等具有羥基的樹脂的醚化合物，此外還有，具有氧雜環(huán)丁烷環(huán)的不飽和單體和(甲基)丙烯酸烷基酯的共聚物等。另外，為了促進前述環(huán)氧樹脂化合物及前述氧雜環(huán)丁烷化合物的熱固化，可以使用例如二氰基二酰胺、芐基二甲基胺、4-(二甲氨基)-N,N-二甲基芐胺、4-甲氧基-N，N-二甲基芐胺、4-甲基-N，N-二甲基芐胺等胺化合物；三乙基節(jié)基氯化銨等季銨鹽化合物；二甲基胺等嵌段異氰酸酯化合物；咪唑、2-甲基-咪唑、2-乙基-咪唑、2-乙基-4-甲基-咪唑、2-苯基-咪唑、4-苯基-咪唑、l-氰乙基-2-苯基-咪唑、l-(2-氰乙基)-2-乙基-4-甲基-咪唑等咪唑衍生物雙環(huán)式脒化合物及其鹽；三苯膦等磷化合物；三聚氰胺、鳥糞胺、乙酰鳥糞胺、苯并鳥糞胺等鳥糞胺化合物；2,4-二氨基-6-甲基丙烯酰基羥乙基-S-三嗪、2-乙烯基-2,4-二氨基-S-三嗪、2-乙烯基-4,6-二氨基-S-三嗪'三聚異氰酸加成物、2,4-二氨基-6-甲基丙烯?；u乙基-S-三嗪三聚異氰酸加成物等S-三嗪衍生物等。這些物質(zhì)可以單獨使用l種，也可以同時使用2種以上。需要說明的是，只要是前述環(huán)氧樹脂化合物及前述氧雜環(huán)丁烷化合物的固化催化劑、或者可以促進這些物質(zhì)與羧基反應(yīng)的固化催化劑，就沒有特別限制，可以使用上述以外的可以促進熱固化的化合物。在前述感光性組合物固體成分中，前述環(huán)氧樹脂、前述氧雜環(huán)丁烷化合物及可以促進這些物質(zhì)和羧酸的熱固化的化合物的固體成分含量，通常為0.0115質(zhì)量％。另外，前述熱交聯(lián)劑可以使用特開平5-9407號公報所述的聚異氰酸酯化合物，該聚異氰酸酯化合物可以由含有至少2個異氰酸酯基的脂肪族、環(huán)式脂肪族或芳香族取代脂肪族化合物衍生。具體例如有1,3-亞苯基二異氰酸酯和1,4-亞苯基二異氰酸酯的混合物、2，4-及2,6-甲苯二異氰酸酯、1，3-及1,4-苯二甲二異氰酸酯、二(4-異氰酸酯基-苯基)甲垸、二(4-異氰酸酯基環(huán)己基)甲烷、異佛爾酮二異氰酸酯、六甲撐二異氰酸酯、三甲基六甲撐二異氰酸酯等2官能異氰酸酯；該2官能異氰酸酯和三羥甲基丙烷、季戊四醇、甘油等的多官能醇；該多官能醇的亞垸基氧化物加成物和前述2官能異氰酸酯的加成物；六甲撐二異氰酸酯、六甲撐-l,6-二異氰酸酯及其衍生物等環(huán)式三聚物等。而且，為了提高本發(fā)明的感光性組合物的保存性，可以使用在前述聚異氰酸酯及其衍生物的異氰酸酯基上使嵌段劑反應(yīng)得到的化合物。前述異氰酸酯基嵌段劑例如有異丙醇、叔丁醇等醇類；e-己內(nèi)酰胺等內(nèi)酰胺類；苯酚、甲酚、對叔丁酚、對仲丁酚、對叔戊酚、對辛酚、對壬酚等酚類；3-羥基吡啶、8-羥基喹啉等雜環(huán)式羥基化合物；丙二酸二烷基酯、甲基乙基酮肟、乙酰丙酮、垸基乙酰乙酸酯肟、乙酰肟、環(huán)己酮肟等活性亞甲基化合物等。此外，可以使用在特開平6-295060號公報所述的分子內(nèi)具有至少1個可以聚合的雙鍵及至少1個嵌段異氰酸酯基中的任意一個的化合物等。另外，前述交聯(lián)劑可以使用三聚氰胺衍生物。該三聚氰胺衍生物例如有羥甲基三聚氰胺、垸基化羥甲基三聚氰胺(用甲基、乙基、丁基等將羥甲基進行醚化的化合物)等。這些物質(zhì)可以單獨使用1種，也可以同時使用2種以上。其中，在保存穩(wěn)定性良好、且有效地提高感光層的表面硬度或固化膜的膜強度自身方面，優(yōu)選烷基化羥甲基三聚氰胺，特別優(yōu)選六甲基化羥甲基三聚氰胺。在前述感光性組合物固體成分中，前述交聯(lián)劑的固體成分含量優(yōu)選為1~40質(zhì)量％，更優(yōu)選為3~20質(zhì)量％。當(dāng)該固體成分含量低于1質(zhì)量％時，看不出固化膜的膜強度的提高，當(dāng)其超過40質(zhì)量％時，有時產(chǎn)生顯影性降低及曝光靈敏度降低。[其它成分]前述其它成分例如有熱聚合抑制劑、增塑劑、著色劑(著色顏料或染料)、填充顏料等，而且，也可以同時使用對基體表面的密合促進劑及其它助劑類(例如導(dǎo)電性粒子、填充劑、消泡劑、阻燃劑、流平劑、剝離促進劑、抗氧化劑、香料、表面張力調(diào)節(jié)劑、鏈轉(zhuǎn)移劑等)。通過適當(dāng)含有這些成分，可以調(diào)整想要的感光性組合物的穩(wěn)定性、照相性、膜物性等性質(zhì)。一熱聚合抑止劑一為了防止前述聚合性化合物的熱聚合或經(jīng)時聚合，可以添加前述熱聚合抑制劑。前述熱聚合抑制劑例如有4-甲氧基苯酚、對苯二酚、烷基或芳基取代對苯二酚、叔丁基鄰苯二酚、焦掊酚、2-羥基二苯甲酮、4-甲氧基-2-羥基二苯甲酮、氯化亞銅、吩噻嗪、氯醌、萘胺、(3-萘酚、2,6-二-叔丁基-4-甲酚、2,2'-甲撐二(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、吡啶、硝基苯、二硝基苯、苦味酸、4-甲苯胺、亞甲基藍、銅和有機螯合劑反應(yīng)物、水楊酸甲酯及酚吩噻嗪、亞硝基化合物、亞硝基化合物和Al的螯合物等。相對于前述聚合性化合物，前述熱聚合抑制劑的含量優(yōu)選0.0015質(zhì)量％，更優(yōu)選0.0052質(zhì)量％，特別優(yōu)選0.01~1質(zhì)量％。當(dāng)該含量低于0.001質(zhì)量％時，有時保存時的穩(wěn)定性降低，當(dāng)其超過5質(zhì)量％時，有時對活性能量線的靈敏度降低。一著色顏料一前述著色顏料沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如有維多利亞純藍BO(C.1.42595)、槐黃(C.1.41000)、脂溶黑HB(C.1.26150)、莫諾賴黃GT(C丄顏料黃12)、永久黃GR(C.I.顏料黃17)、永久黃HR(C丄顏料黃83)、永久胭脂紅FBB(C丄顏料紅146)、酞菁紅ESB(C.I.顏料紫19)、永久寶石紅FBH(C.L顏料紅11)法斯特爾粉紅B蘇普拉(C丄顏料紅81)、莫納斯特拉爾堅牢藍(C.I.顏料藍15)、莫諾賴堅牢黑B(C.I.顏料黑1)、炭黑、C.I.顏料紅97、C.I.顏料紅122、C丄顏料紅149、C.I.顏料紅168、C.I.顏料紅177、C.I.顏料紅180、C丄顏料紅192、C.I.顏料紅215、C丄顏料綠7、C丄顏料綠36、C丄顏料藍15:l、C.I.顏料藍15:4、C丄顏料藍15:6、C.I.顏料藍22、C.I.顏料藍60、C丄顏料藍64等。這些顏料可以單獨使用1種，也可以同時使用2種以上。在前述感光性組合物固體成分中，前述著色顏料的固體成分含量，可以根據(jù)永久圖案形成時的感光層的曝光靈敏度、分辨率等來確定，因前述著色染料的種類不同而異，一般來講，優(yōu)選為0.05~10質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.1~5質(zhì)量％。一填充顏料一在前述感光性組合物中，根據(jù)需要，為了提高永久圖案的表面硬度或?qū)⒕€膨脹系數(shù)抑制在較低水平，或者將固化膜本身的介電常數(shù)及電介質(zhì)損耗角抑制在較低水平，可以添加無機顏料及有機微粒子。前述無機顏料沒有特別限制，可以從公知的無機顏料中適當(dāng)選擇，例如有高嶺土、硫酸鋇、鈦酸鋇、氧化硅粉、微粉狀氧化硅、氣相法硅石、無定形硅石、結(jié)晶性硅石、熔融硅石、球狀硅石、滑石、粘土、碳酸鎂、碳酸鈣、氧化鋁、氫氧化鋁、云母等。前述無機顏料的平均粒徑優(yōu)選低于10(im，更優(yōu)選為3pm以下。當(dāng)該平均粒徑為10nm以上時，有時由于光彌散而導(dǎo)致分辨率劣化。前述有機微粒子沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如有三聚氰胺樹脂、苯并鳥糞胺樹脂、交聯(lián)聚苯乙烯樹脂等。另外，可以使用平均粒徑為15pim、吸油量為100200mVg左右的硅石、由交聯(lián)樹脂構(gòu)成的球狀多孔質(zhì)微粒子等。前述填充顏料的添加量優(yōu)選為560質(zhì)量％。當(dāng)該添加量低于5質(zhì)量％時，有時不能充分降低其線膨脹系數(shù)，當(dāng)其超過60質(zhì)量％時，有時在感光層表面形成固化膜時，該固化膜的膜質(zhì)變脆，且在使用永久圖案形成電路時，有時影響作為電路的保護膜的功能。一密合促進劑一為了提高各層間的密合性或感光層和基體的密合性，可以在各層中使用公知的所謂密合促進劑。作為前述密合促進劑，適當(dāng)例舉例如特開平5-11439號公報、特開平5-341532號公報及特開平6-43638號公報等所述的密合促進劑。具體例如有苯并咪唑、苯并噁唑、苯并噻唑、2-巰基苯并咪唑、2-巰基苯并噁唑、2-巰基苯并噻唑、3-嗎啉代甲基-l-苯基-三唑-2-硫羰、3-嗎啉代甲基-5-苯基-噁二唑-2-硫羰、5-氨基-3-嗎啉代甲基-噻二唑-2-硫羰及2-巰基-5-甲基硫-噻二唑、三唑、四唑、苯并三唑、羧基苯并三唑、含氨基苯并三唑、硅烷偶合劑等。相對于前述感光性組合物中的全部成分，前述密合促進劑的含量優(yōu)選為0.001質(zhì)量％20質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.0110質(zhì)量％，特別優(yōu)選為0.1質(zhì)量％~5質(zhì)量％。本發(fā)明的感光性組合物的顯影性、焊錫耐熱性、耐折性、耐濕性優(yōu)良，固化被膜的撓性大幅度提高。因此，可以廣泛用于印刷電路板(多層電路板、組裝電路板等)、彩色濾光器及柱材料、加強筋材料、襯墊、隔壁等顯示器用部件、全息照相、微機、校樣等永久圖案形成用，尤其是可以適用于本發(fā)明的感光性組合物、永久圖案及其形成方法。[感光層]前述感光層利用本發(fā)明的前述感光性組合物形成。前述感光層優(yōu)選在后述的曝光工序中，通過至少具有n個接受來自光照射裝置的光并射出的素描部的光調(diào)制裝置，使來自前述光照射裝置的光調(diào)制后，用通過了排列有具有可以矯正由前述素描部中的射出面的偏斜引起的像差的非球面的微透鏡的微透鏡陣列的光、或用通過排列有具有不使來自前述素描部的周邊部的光入射的透鏡開口形狀的微透鏡的微透鏡陣列的光進行曝光。前述感光層的厚度沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如，優(yōu)選3100(im，更優(yōu)選570jim。前述感光層的形成方法例如有使本發(fā)明的前述感光性組合物溶解、乳化或分散于水或溶劑中，配制感光性組合物溶液，將該溶液直接涂敷在基體材料上，使其干燥，由此進行層疊的方法。前述感光性組合物溶液的溶劑沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如有甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、仲丁醇、正己醇等醇類；丙酮、甲基乙基甲酮、甲基異丁基甲酮、環(huán)己酮、二異丁基甲酮等酮類；醋酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸正戊酯、硫酸甲酯、丙酸乙酯、酞酸二甲酯、安息香酸乙酯及乙酸甲氧基丙酯等酯類；甲苯、二甲苯、苯、乙基苯等芳香族烴類；四氯化碳、三氯乙烯、氯仿、1,1,1-三氯乙烷、二氯甲烷、一氯苯等鹵代烴類；四氫呋喃、二乙醚、乙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚、l-甲氧基-2-丙醇等醚類；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亞砜、環(huán)丁砜等。這些物質(zhì)可以單獨使用l種，也可以同時使用2種以上。另外，也可以添加公知的表面活性劑。前述涂敷方法沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如，使用旋壓涂敷機、狹縫旋壓涂敷機、軋輥涂敷機、模涂敷機、幕式涂敷機等直接涂敷在前述支持體上的方法。前述干燥條件因各成分、溶劑的種類、使用比例等而異，通常在60110。C的溫度下干燥30秒15分鐘左右。(永久圖案及圖案形成方法)本發(fā)明的永久圖案利用本發(fā)明的圖案形成方法得到。本發(fā)明的圖案形成方法是，將本發(fā)明的感光性組合物涂敷在基體材料的表面，進行干燥形成感光層后，進行曝光、顯影。在本發(fā)明中，由于使用撓性及耐折性優(yōu)良的感光性組合物，故可以適用于撓性基板，可以用軋輥再軋輥進行曝光，生產(chǎn)性顯著提高。下面，通過本發(fā)明的圖案形成方法的說明，可以闡明本發(fā)明的永久圖案的詳細情況。[基體材料]前述基體材料沒有特別限制，可以從公知的材料中在表面平滑性高的基體材料至表面有凹凸的基體材料中適當(dāng)選擇，優(yōu)選例如板狀的基體材料(基板)，具體例如有撓性印刷電路板形成用基板(例如鍍銅膜疊層板)、玻璃板(例如鈉鈣玻璃板等)、合成樹脂性薄膜、紙、金屬板等。其中，優(yōu)選撓性印刷電路板形成用基板，在對多層電路板及組裝電路板等可以將半導(dǎo)體等高密度安裝化方面，特別優(yōu)選該撓性印刷電路板形成用基板是已形成電路的基板。前述基體材料通過對在該基體上利用前述感光性組合物形成感光層而成的層疊體中的前述感光層進行曝光，可以使曝光好的區(qū)域固化，通過后述的顯影工序形成永久圖案?！獙盈B體一前述層疊體的形成方法沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，但優(yōu)選將在前述基體材料上涂敷前述感光性組合物及進行干燥形成的感光層層疊而成的層疊體。前述涂敷及干燥的方法沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以在形成前述感光性組合物中的感光層時進行，用與前述感光性組合物溶液的涂敷及千燥相同的方法進行，例如，使用旋壓涂敷機、狹縫旋壓涂敷機、軋輥涂敷機、模涂敷機、幕式涂敷機等將該感光性組合物溶液進行涂敷的方法。前述曝光工序是如下工序通過至少具有n個接受來自光照射裝置的光并射出的素描部的光調(diào)制裝置，使來自前述光照射裝置的光調(diào)制后，用通過了排列有具有可以矯正由前述素描部中的射出面的偏斜引起的像差的非球面的微透鏡的微透鏡陣列的光或用通過了排列有具有不使來自前述素描部的周邊部的光入射的透鏡開口形狀的微透鏡的微透鏡陣列的光，將利用前述感光層形成工序形成的感光層進行曝光。前述曝光工序具有如下工序通過至少具有n個接受來自光照射裝置的光并射出的素描部的光調(diào)制裝置，使來自前述光照射裝置的光調(diào)制后，用通過了排列有具有可以矯正由前述素描部中的射出面的偏斜引起的像差的非球面的微透鏡的微透鏡陣列的光或用通過了排列有具有不使來自前述素描部的周邊部的光入射的透鏡開口形狀的微透鏡的微透鏡陣列的光，將利用前述感光層形成工序形成的感光層進行曝光。在前述曝光工序中，從前述光照射裝置照射的光沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如有將光聚合引發(fā)劑及增感劑活化的電磁波、來自紫外線的可見光、電子束、X光、激光等，在這些照射光中，適當(dāng)例舉光的開關(guān)控制在短時間內(nèi)進行、且容易進行光的干涉控制的激光。前述來自紫外線的可見光的光的波長沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，但為了謀求縮短感光性組合物的曝光時間，優(yōu)選330650nm，更優(yōu)選395~415nm，特別優(yōu)選為405nm。利用前述光照射裝置的光的照射方法沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如利用濕水銀燈、氙燈、碳弧燈、鹵素?zé)?、?fù)印機用冷陰極管、LED、半導(dǎo)體激光等公知光源照射的方法。另外，例如，優(yōu)選將來自這些光源的2種以上的光合成進行照射，特別優(yōu)選將合成有2種以上的光的激光進行照射(下面，有時稱為"合波激光")。前述合波激光的照射方法沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如，利用多個激光器光源、多模式光纖及將來自該多個激光器光源照射的激光聚光并使其與前述多模式光纖結(jié)合的聚合光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)成合波激光進行照射的方法。在前述曝光工序中，將光進行調(diào)制的方法，只要是通過具有n個接受來自前述光照射裝置的光并射出的素描部的光調(diào)制裝置調(diào)制的方法，就沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，適當(dāng)例舉根據(jù)圖案信息控制由n個素描部連續(xù)配置的任意不足n個素描部的方法。前述素描部的個數(shù)(n)沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，優(yōu)選為2個以上。前述光調(diào)制裝置中的素描部的排列沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如，優(yōu)選排列成2維狀，更優(yōu)選排列成格子狀。另外，前述光的調(diào)制方法沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，優(yōu)選前述光調(diào)制裝置利用空間光調(diào)制元件的方法。前述空間光調(diào)制元件沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如，優(yōu)選數(shù)字微鏡設(shè)備(DMD)、MEMS(微電子機械系統(tǒng)MicroElectroMechanicalSystems)型的空間光調(diào)制元件(SLM;特別光調(diào)制器SpecialLightModulator)、利用電光學(xué)效果調(diào)制透過光的光學(xué)元件(PLZT元件)、液晶光閥(FCL)等，在這些空間光調(diào)制元件中，特別優(yōu)選DMD。在前述曝光工序中，通過前述調(diào)制裝置調(diào)制的光，通過排列有具有可以矯正由前述素描部中的射出面的偏斜引起的像差的非球面的微透鏡的微透鏡陣列或通過排列有具有不使來自前述素描部的周邊部的光入射的透鏡開口形狀的微透鏡的微透鏡陣列通過。在前述微透鏡陣列中配置的微透鏡沒有特別限制，例如，優(yōu)選具有非球面的微透鏡，更優(yōu)選前述非球面是復(fù)曲(toric)面的微透鏡。而且，在前述曝光工序中，優(yōu)選由前述調(diào)制裝置調(diào)制的光通過小孔陣列、結(jié)合光學(xué)系統(tǒng)、適當(dāng)選擇的其它光學(xué)系統(tǒng)等。在前述曝光工序中，將感光層進行曝光的方法沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如有數(shù)字曝光、模擬曝光等，優(yōu)選數(shù)字曝光。前述數(shù)字曝光的方法沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如，優(yōu)選使用根據(jù)基于規(guī)定的圖案信息生成的控制信號調(diào)制的激光進行曝光的方法。而且，在前述曝光工序中，將感光層進行曝光的方法沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，但從可以進行短時間并且高速曝光的觀點來考慮，優(yōu)選邊相對移動曝光光和感光層邊進行曝光，特別優(yōu)選與前述數(shù)字微鏡設(shè)備(DMD)并用。在前述曝光工序中，也可以在惰性氣體環(huán)境下進行曝光。例如，將利用前述感光層形成工序形成的感光層進行曝光的方法，沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如有在前述感光層表面直接吹入惰性氣體的方法；將框架狀框架的一邊開放，至少在殘留的l邊形成有惰性氣體導(dǎo)入孔的試樣臺中的曝光空間，裝載形成有作為曝光對象的感光層的試樣，一邊從前述惰性氣體導(dǎo)入孔導(dǎo)入惰性氣體，用惰性氣體覆蓋感光層表面，一邊進行曝光的方法等。另外，也可以將前述曝光空間作為密封空間，在減壓下、在該密封空間內(nèi)導(dǎo)入惰性氣體。作為前述惰性氣體，只要可以防止氧阻礙前述感光層的聚合反應(yīng)，就沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如有氮氣、氦氣、氬氣等。下面，對適用于本發(fā)明的圖案形成方法的圖案形成裝置邊參照附圖邊進行說明。圖7是表示適用于本發(fā)明的圖案形成方法的圖案形成裝置的外觀的概略立體圖。含有前述光調(diào)制裝置的圖案形成裝置，如圖7所示，在被4根機架154支持的厚的板狀設(shè)置臺156的上面，備有將薄片狀的圖案形成材料150吸附在表面而保持的平板狀的載物臺152。載物臺152以其長度方向面向載物臺移動方向的方式配置，同時被在設(shè)置臺156的上面形成的導(dǎo)軌158可往復(fù)移動地支持著。需要說明的是，在前述圖案形成裝置中，具有用于沿導(dǎo)軌158傳動載物臺152的沒有圖示的傳動裝置。在設(shè)置臺156的中央部，設(shè)有向下C字狀的門160，以使其跨越載物臺152的移動路線。門160的端部分別固定在設(shè)置臺156的長度方向中央部中的兩側(cè)面。在該門160的一側(cè)設(shè)有掃描器162，在另一側(cè)設(shè)有檢測圖案形成材料150的前端及后端的多個(例如兩個)檢測傳感器164。掃描器162及檢測傳感器164分別安裝在門160上，固定配置在載物臺152的移動路線的上方。需要說明的是，掃描器162及檢測傳感器164連接在控制這些的沒有圖示的控制器上。圖8是表示掃描器的構(gòu)成的概略立體圖。另外，圖9A是表示形成于感光層的已曝光區(qū)域的俯視圖。圖9B是表示利用曝光頭的曝光區(qū)域的排列的圖。掃描器162如圖8及圖9B所示，備有排列成m行n列(例如3行5列)的大致矩陣狀的多個(例如14個)的曝光頭166。在該例中，因與圖案形成材料150的寬度的關(guān)系，在第3行配置有4個曝光頭166。需要說明的是，表示排列成第m行第n列的每個曝光頭時，標(biāo)記為曝光頭166mn。由曝光頭166形成的曝光區(qū)域168是將副掃描方向設(shè)定為短邊的矩形狀。因而，隨著載物臺152的移動，在圖案形成材料150上每曝光頭166形成帶狀的已曝光區(qū)域170。需要說明的是，表示排列成第m行第n列的每個曝光頭形成的曝光區(qū)域時，標(biāo)記為曝光區(qū)域168mn。另外，如圖9A及圖9B所示，排列成線狀的各行曝光頭分別沿排列方向錯開規(guī)定間隔(曝光區(qū)域的長邊的自然數(shù)倍，在本例中為2倍)，以使帶狀的已曝光區(qū)域170無縫隙地排列在和副掃描方向垂直的方向。因此，在第1行的曝光區(qū)域168n和曝光區(qū)域16812之間的不能曝光的部分，可以通過第2行的曝光區(qū)域16821和第3行的曝光區(qū)域16831曝光。圖IO是表示曝光頭的概略構(gòu)成的立體圖。如圖10所示，曝光頭166u166mn分別具備作為前述光調(diào)制裝置(每個素描調(diào)制的空間光調(diào)制元件)的美國于年步只'V乂7、乂》^乂、乂社制造的數(shù)字微鏡設(shè)備(下面，有時稱為"DMD")50、作為光照射裝置66的纖維陣列光源66、透鏡系統(tǒng)67、反射鏡69和成像光學(xué)系統(tǒng)51，其中，所述DMD50根據(jù)圖案信息將光束進行光調(diào)制；所述纖維陣列光源66配置在DMD50的光入射側(cè)，備有光纖維的射出端部(發(fā)光點)沿與曝光區(qū)域168的長邊方向相對應(yīng)的方向排列成一列的激光射出部68;所述透鏡系統(tǒng)67矯正從纖維陣列光源66射出的激光，使其聚光在DMD上；所述反射鏡69向DMD50反射透過透鏡系統(tǒng)67的激光；所述成像光學(xué)系統(tǒng)51將通過DMD50反射的激光B成像在圖案形成材料150上。圖12是基于圖案信息進行DMD控制的控制器。如圖12所示，DMD50連接在備有數(shù)據(jù)處理部和傳動控制部等后述的控制器302上。在該控制器302的數(shù)據(jù)處理部中，基于輸入的圖案信息，每曝光頭166生成傳動控制DMD50應(yīng)控制區(qū)域內(nèi)的各微鏡的控制信號。需要說明的是，關(guān)于應(yīng)控制區(qū)域如后所述。另外，在反射鏡傳動控制部中，基于在圖案信息處理部生成的控制信號，每曝光頭166控制DMD50的各微鏡的反射面的角度。圖1是表示作為前述光調(diào)制裝置的數(shù)字微鏡設(shè)備(DMD)的構(gòu)成的部分放大圖。DMD50如圖1所示，在SRAM單元(存儲單元)60上，構(gòu)成各種素描(像素)的多個(例如1024個X768個)的微小鏡(微鏡)62是排列成格子狀而成的鏡裝置。在各像素中，最上部設(shè)有被支柱支持的微鏡62，微鏡62的表面蒸鍍有鋁等反射率高的材料。需要說明的是，微鏡62的反射率為90%以上，其排列間距是縱方向、橫方向都為13.7pm的一例。另外，在微鏡62的正下面，通過含有絞鏈及支架的支柱配置用通常的半導(dǎo)體存儲的制造線路制造的硅柵的CMOS的SRAM單元60，整體構(gòu)成單片式集成電路。圖2A及B是說明DMD的操作的圖。當(dāng)在DMD50的SRAM單元60上輸入數(shù)字信號時，被支柱支持的微鏡62以對角線為中心相對配置有DMD50的基板側(cè)在士a度(例如士12度)的范圍內(nèi)傾斜。圖2A表示微鏡62為接通狀態(tài)傾斜+oi度的狀態(tài)，圖2B表示微鏡62為關(guān)閉狀態(tài)傾斜-oi度的狀態(tài)。因此，根據(jù)圖案信息，通過控制DMD50的各像素中的微鏡62的傾斜，從而入射到DMD50的激光向各自的微鏡62的傾斜方向反射。需要說明的是，圖l表示微鏡62控制為+a度或-a度的狀態(tài)的一例。各自的微鏡62的開關(guān)控制通過連接到DMD50的前述控制器302進行。另外，在用關(guān)閉狀態(tài)的微鏡62反射的激光B前進的方向，配置有沒有圖示的光吸收體。DMD50優(yōu)選使其短邊稍稍傾斜進行配置，以使其和副掃描方向成為規(guī)定角度6(例如0.1°~5°)。圖3A表示由不使DMD50傾斜時的各微鏡形成的反射光像(曝光光束)53的掃描軌跡，圖3B表示使DMD50傾斜時的曝光光束53的掃描軌跡。如圖3B所示，在DMD50中，在長度方向排列有多數(shù)個(例如1024個)微鏡的微鏡列，在寬度方向排列有多組(例如756組)，通過使DMD50傾斜，由各微鏡形成的曝光光束53的掃描軌跡(掃描線)的間距P2比不使DMD50傾斜時的掃描線的間距P，狹窄，可以使分辨率大幅度提高。另一方面，由于DMD50的傾斜角微小，故使DMD50傾斜時的掃描寬度W2和不使DMD50傾斜時的掃描寬度W,大致相同。下面，對使前述光調(diào)制裝置中的調(diào)制速度加快的方法(以下稱為"高速調(diào)制")進行說明。當(dāng)從纖維陣列光源66對DMD50照射激光B時，使從纖維陣列光源66射出的激光對各素描進行開關(guān)，圖案形成材料150在與DMD50的使用素描數(shù)大致相同數(shù)量的素描單位(曝光區(qū)域168)內(nèi)曝光。另外，通過與載物臺152—起以一定速度移動圖案形成材料150，圖案形成材料150通過掃描器162在和載物臺移動方向相反的方向進行副掃描，在每個曝光頭166形成帶狀的已曝光區(qū)域170。在此，由于DMD50整體的數(shù)據(jù)處理速度有界限，按使用的素描數(shù)的比例決定每1線路的調(diào)制速度，故通過使用僅一部分微透鏡列加快每1線路的調(diào)制速度。另一方面，在連續(xù)使曝光頭相對于曝光面進行相對移動的曝光方式的場合，不需要全部使用副掃描方向的素描。DMD50在主掃描方向排列有1024個微鏡的微鏡列，在副掃描方向排列768組，通過控制器302進行控制，使其僅驅(qū)動一部分微鏡列(例如1024個X256列)。圖4A及B是表示DMD的使用區(qū)域的圖。如圖4A所示，DMD的使用區(qū)域可以使用在DMD50的中央部配置而成的微鏡列，也可以如圖4B所示使用在DMD50的端部配置而成的微鏡列。另外，在一部分微鏡中產(chǎn)生缺陷時，使用不產(chǎn)生缺陷的微鏡列等，可以根據(jù)情況適當(dāng)變更使用的微鏡列。例如，在768組的微鏡列內(nèi)僅使用384組時，與全部使用768組的情況相比，可以每1線路加快2倍地調(diào)制。另外，在768組的微鏡列內(nèi)僅使用256組時，與全部使用768組的情況相比，可以進行每1線路加速3倍地調(diào)制。如以上說明所述，依據(jù)本發(fā)明的圖案形成方法，備有在主掃描方向排列有1,024個微鏡的微鏡列，在副掃描方向排列有768組的DMD，通過利用控制器進行控制以使其僅傳動一部分微鏡列，與傳動全部的微鏡列時相比，每1線路的調(diào)制速度加快。另外，對部分傳動DMD的微鏡的實例進行說明，在與規(guī)定方向相對應(yīng)的方向的長度比和前述規(guī)定方向交叉方向的長度長的基板上，即使使用將可根據(jù)各種控制信號變更反射面的角度的多個微鏡排列成2維狀的細長的DMD，控制反射面的角度的微鏡的個數(shù)也會變少，因此，同樣可以加快調(diào)制速度。前述曝光方法如圖5所示，可以通過進行由掃描器162進行的向X方向的1次掃描將圖案形成材料150的全面曝光。另外，前述曝光方法如圖6A及B所示，可以利用掃描器向X方向掃描圖案形成材料150后，將掃描器162向Y方向移動1間距，如對X方向進行掃描那樣，反復(fù)進行掃描和移動，通過多次掃描曝光圖案形成材料150的全面。通過相對前述感光層的一部分區(qū)域進行前述曝光，固化該一部分區(qū)域，在后述的顯影工序中，除去前述固化過的一部分區(qū)域以外的未固化區(qū)域，形成圖案。下面，將透鏡系統(tǒng)67及成像光學(xué)系統(tǒng)51進行說明。圖11是表示沿圖10中的曝光頭的構(gòu)成的光軸的副掃描方向的剖面圖。如圖11所示，透鏡系統(tǒng)67備有聚光透鏡71、棒狀光學(xué)積分儀(以下稱作棒積分儀)72及成像透鏡74，其中，所述聚光透鏡71聚光從纖維陣列光源66射出的作為照明光的激光B;所述棒積分儀72插入通過聚光透鏡71的光的光路中；所述成像透鏡74配置在棒積分儀72的前方即反射鏡69的側(cè)面。聚光透鏡71、棒積分儀72及成像透鏡74將從纖維陣列光源66射出的激光作為接近于平行光并且將光束截面內(nèi)強度均勻化的光束，使其入射至廿DMD50上。從透鏡系統(tǒng)67射出的激光B通過反射鏡69反射，通過TIR(全反射)棱鏡70照射到DMD50上。需要說明的是，在圖10中，該TIR棱鏡70省略。如圖11所示，成像光學(xué)系統(tǒng)51備有第i成像光學(xué)系統(tǒng)、第2成像光學(xué)系統(tǒng)、微透鏡陣列55、小孔陣列59，其中，所述第1成像光學(xué)系統(tǒng)由透鏡系統(tǒng)52、54構(gòu)成；所述第2成像光學(xué)系統(tǒng)由透鏡系統(tǒng)57、58構(gòu)成；所述微透鏡陣列55插入這些成像光學(xué)系統(tǒng)之間。微透鏡陣列55是將對應(yīng)于DMD50的各素描的多數(shù)的微透鏡55a排列成2維狀而構(gòu)成的。在本例中，由于如后所述僅傳動DMD50的1024個X768列的微鏡中的1024個X256列，故與其相對應(yīng)，微透鏡55a配置1024個X256列。微透鏡55a的配置間距，其縱方向、橫方向都為41jam。微透鏡55a的焦點距離為0.19mm，NA(開口數(shù))為0.11。另外，微透鏡55a由光學(xué)玻璃BK7構(gòu)成。各微透鏡55a的位置中的激光B的光束直徑為41pm。小孔陣列59是與微透鏡陣列55的各微透鏡55a相對應(yīng)的多數(shù)的小孔(開口)59a形成的。各小孔59a的直徑為l(Vm。第1成像光學(xué)系統(tǒng)將由DMD50形成的像放大3倍成像于微透鏡陣列55上。第2成像系統(tǒng)將經(jīng)過微透鏡陣列55的像放大1.6倍而成像、投影于圖案形成材料150上。因此，光學(xué)系統(tǒng)整體將由DMD50形成的像放大4.8倍而成像、投影于圖案形成材料150上。需要說明的是，在前述第2成像光學(xué)系統(tǒng)和圖案形成材料150之間配設(shè)雙棱鏡73，通過使該雙棱鏡73在圖11中沿上下方向移動，可以調(diào)節(jié)圖案形成材料150上的像的焦點。需要說明的是，在同一圖中，沿箭頭F方向副掃描輸送圖案形成材料150。下面，對前述微透鏡陣列、前述小孔陣列及前述成像光學(xué)系統(tǒng)等邊參照附圖邊進行說明。圖13A是沿表示前述曝光頭的構(gòu)成的光軸的剖面圖。如圖13A所示，前述曝光頭由光照射裝置144、透鏡系統(tǒng)(成像光學(xué)系統(tǒng))454、458、微透鏡陣列472、小孔陣列476、透鏡系統(tǒng)(成像光學(xué)系統(tǒng))480、482構(gòu)成，其中，所述光照射裝置144對DMD50照射激光；所述透鏡系統(tǒng)(成像光學(xué)系統(tǒng))454、458放大由DMD50反射的激光而成像；所述微透鏡陣列472配置有與DMD50的各素描部相對應(yīng)的多數(shù)的微透鏡474;所述小孔陣列476設(shè)置有與微透鏡陣列472的各微透鏡相對應(yīng)的多數(shù)的小孔478;所述透鏡系統(tǒng)(成像光學(xué)系統(tǒng))480、482將通過小孔的激光成像于被曝光面56上。圖14是表示構(gòu)成DMD50的微鏡62的反射面的平面度的測定結(jié)果的圖。在圖14中，用等高線連接表示反射面的相同高度位置，等高線的間距是5nm。圖中x方向及y方向是微鏡62的兩個對角線方向，微鏡62以延伸至y方向的旋轉(zhuǎn)軸為中心，如前所述進行旋轉(zhuǎn)。圖15A及B分別表示沿圖14中的x方向、y方向的微鏡62的反射面的高度位置位移。如圖14及圖15所示，在微鏡62的反射面上存在偏斜，而且，特別是嘗試從反射鏡中央部分看時，一個對角線方向(y方向)的偏斜比另一個對角線方向(x方向)的偏斜增大。因此，會產(chǎn)生如下問題由微透鏡陣列55的微透鏡55a聚光而成的激光B的聚光位置中的形狀偏斜。圖16A及B是分別表示微透鏡陣列55整體的正面形狀及側(cè)面形狀的圖。如圖16A所示，微透鏡陣列55與DMD50的微鏡62相對應(yīng)，在橫向排列有1024個、在縱向并排設(shè)置256列微透鏡55a的列構(gòu)成。微透鏡陣列55的長邊的尺寸為50mm，短邊的尺寸為20mm。需要說明的是，在同一圖A中，微透鏡陣列55的排列順序，在橫向用j表示，在縱向用k表示。圖17A及B是表示構(gòu)成微透鏡陣列的微透鏡的正面形狀及側(cè)面形狀的圖。需要說明的是，在圖17A中，將微透鏡55a的等高線合并在一起表不o如圖17A及B所示，微透鏡55a的光射出側(cè)的端面設(shè)定為矯正由微鏡62的反射面的偏斜引起的像差的非球面形狀。非球面形狀的微透鏡55a是復(fù)曲(toric)面透鏡，具體來講，其x方向中的曲率半徑Rx為-0.125mm，其y方向中的曲率半徑Ry設(shè)定為-0.1mm。圖18是將由微透鏡形成的聚光狀態(tài)在一個剖面A內(nèi)和另一個剖面B內(nèi)表示的概略圖。如圖18所示，由于構(gòu)成微透鏡陣列的微透鏡55a使用光射出側(cè)的端面是非球面形狀的復(fù)曲(toric)面透鏡，故平行于x方向及y方向的截面內(nèi)的激光B的聚光狀態(tài)，當(dāng)比較與x方向平行的截面內(nèi)和與y方向平行的截面內(nèi)時，后者的截面內(nèi)的微透鏡55a的曲率半徑更小，焦點距離更短。微透鏡55a的形狀可以是2次的非球面形狀，也可以是更高次(4次、6次…)的非球面形狀。通過采用前述高次的非球面形狀，可以使光束形狀的精細更高。而且，根據(jù)微鏡62的反射面的偏斜，也可以采用前述的x方向及y方向的曲率相互一致的透鏡形狀。下面，對這種透鏡形狀的實例進行詳細說明。圖39A、B分別表示的帶等高線的正面形狀、側(cè)面形狀的微透鏡55a"，是x方向及y方向的曲率相互相等、且該曲率根據(jù)距透鏡中心的距離h矯正球面透鏡的曲率Cy的。亦即，成為該微透鏡55a"的透鏡形狀的基礎(chǔ)的球面透鏡形狀例如采用用下述計算式(數(shù)學(xué)式l)規(guī)定透鏡高度(透鏡曲面的光軸方向位置)z的形狀。徵l]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage38</formula>需要說明的是，用上述曲率Cy二(l/0.1mm)時的透鏡高度z和距離h的關(guān)系作圖，示于圖40。而且，根據(jù)距透鏡中心的距離h，如下述計算式(數(shù)學(xué)式2)那樣矯正上述球面透鏡形狀的曲率Cy，設(shè)定為微透鏡55a"的透鏡形狀。數(shù)2]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage39</formula>在前述計算式(數(shù)學(xué)式2)中，z與上述計算式(數(shù)學(xué)式2)的定義相同，在此，用4次系數(shù)a及6次系數(shù)b矯正曲率Cy。需要說明的是，上述曲率Cy二(l/0.1mm)、4次系數(shù)a=1.2X103、6次系數(shù)a=5.5X107時，用透鏡高度z和距離h的關(guān)系作圖，示于圖41。另外，將微透鏡55a的光射出面的端面形狀設(shè)定為復(fù)曲(toric)面，此外，將兩個光通過端面的一個設(shè)定為球面，將另一個設(shè)定為圓柱面，也可以由這樣的微透鏡構(gòu)成微透鏡陣列。圖19A、B、C及D是表示利用計算機模擬微透鏡55a的聚光位置(焦點位置)附近的光束直徑的結(jié)果的圖。另外，為了比較，對微透鏡55a為曲率半徑Rx-R尸一0.1mm的球面形狀的情況，將進行同樣的模擬的結(jié)果示于圖20A、B、C及D。需要說明的是，各圖中的z值用來自微透鏡55a的光束射出面的距離表示微透鏡55a的焦點方向的評價位置。另外，在前述模擬中使用的微透鏡55a的面形狀，用下述計算式計算。[數(shù)3]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage39</formula>其中，在前述計算式中，Cx是指x方向的曲率(^/Rx)，Cy是指y方向的曲率(-l/Ry),X是指與x方向有關(guān)的透鏡光軸O的距離，Y是指與y方向有關(guān)的透鏡光軸0的距離。將圖19A~D和圖20AD進行比較表明，在本發(fā)明的圖案形成方法中，通過將微透鏡55a設(shè)定為與y方向平行的截面內(nèi)焦點距離比與x方向平行的截面內(nèi)焦點距離小的復(fù)曲(toric)面透鏡，抑制在其聚光位置附近的光束不清形狀的偏斜。因此，可以在圖案形成材料150上曝光無偏斜的、更高精細的圖像。需要說明的是，在與微鏡62的x方向及y方向有關(guān)的中央部的偏斜的大小關(guān)系與上述相反的場合，如果由與x方向平行的截面內(nèi)的焦點距離比與y方向平行的截面內(nèi)的焦點距離小的托力克透鏡構(gòu)成微透鏡，同樣地可以在圖案形成材料150上曝光無偏斜、更高精細的圖像。另外，在微透鏡陣列55的聚光位置附近配置小孔陣列59。在小孔陣列59上設(shè)置的各小孔59a僅入射經(jīng)過與其相對應(yīng)的微透鏡55a的光。因此，在與1個微透鏡55a相對應(yīng)的1個小孔59A上，可以防止入射來自與其不對應(yīng)的相鄰的微透鏡55a的光，提高消光比。如果某種程度縮小小孔59a的直徑，也可以得到抑制微透鏡55a的聚光位置中的光束形狀的偏斜的效果，但用小孔陣列59遮斷的光量會更多，就會降低光利用效率。此時，通過將微透鏡55a設(shè)定為前述非球面形狀，防止遮斷光，高效地確保光利用效率。另外，利用前述微透鏡陣列55及小孔陣列59矯正構(gòu)成DMD50的微鏡62的反射面的偏斜引起的像差,但即使在使用DMD以外的空間光調(diào)制元件的本發(fā)明的圖案形成方法中，在該空間光調(diào)制元件的素描部的面上存在偏斜時，也可以應(yīng)用本發(fā)明矯正由其偏斜引起的像差，防止在光束形狀上發(fā)生偏斜。需要說明的是，在本發(fā)明的圖案形成方法中，適用微透鏡55a，該微透鏡55a是與微鏡62的兩個對角線方向光學(xué)對應(yīng)的x方向及y方向的曲率不同的托力克透鏡，根據(jù)微鏡62的偏斜，如圖38A、B分別所示的帶等高線的正面形狀、側(cè)面形狀，可以適用微透鏡55a'，該微透鏡55a'是由與矩形的微鏡62的兩個邊方向光學(xué)對應(yīng)的xx方向及yy方向的曲率相互不同的托力克透鏡構(gòu)成的。如圖13A所示，前述成像光學(xué)系統(tǒng)備有透鏡480、482，通過小孔陣列59的光利用該成像光學(xué)系統(tǒng)成像于被曝光面56上。如以上說明所述，由于前述圖案形成裝置通過DMD50反射的激光利用透鏡系統(tǒng)的放大透鏡454、458放大數(shù)倍投影于被曝光面56上，因此整體的圖像區(qū)域擴大。此時，如果不配置微透鏡陣列472及小孔陣列476，則如圖13B所示，投影于被曝光面56上的各聚束點BS的1素描尺寸(光點尺寸)按照曝光區(qū)域468的尺寸成為大的尺寸，顯示曝光區(qū)域468的清晰度的MTF(ModulationTransferFunction)特性降低。另一方面，在前述圖案形成裝置中，由于備有微透鏡陣列472及小孔陣列476，故通過DMD50反射的激光，通過微透鏡陣列472的各微透鏡對應(yīng)于DMD50的各素描部聚光。因此，如圖13C所示，即使放大曝光區(qū)域時，也可以將各聚束點BS的光點尺寸縮小為所希望的大小(例如lOpmxlOjim)，可以防止MTF特性的降低，進行高精細的曝光。需要說明的是，曝光區(qū)域468傾斜是因為為了不產(chǎn)生素描間的縫隙而傾斜配置DMD50的緣故。另外，即使由微透鏡的像差引起的光束粗，利用小孔陣列也可以整形光束，以使被曝光面56上的光點尺寸成為一定的大小，同時，通過使其通過對應(yīng)于各素描設(shè)置的小孔陣列，可以防止相鄰的素描間的串?dāng)_。而且，由于通過在光照射裝置144中使用高亮度光源，從透鏡458向微透鏡陣列472的各微透鏡入射的光束的角度變小，因此可以防止相鄰的素描的光束的一部分入射。亦即，可以實現(xiàn)高消光比。圖22A及B是表示其它的微透鏡陣列的正面形狀及側(cè)面形狀的圖。如圖22所示，其它微透鏡陣列在各微透鏡上保持矯正由微鏡62的反射面的偏斜引起的像差的折射率分布。如圖所示，其它微透鏡155a的外形形狀是平行平板狀。需要說明的是，同一圖中的x、y方向如上所述。圖23是表示由圖22的微透鏡155a形成的平行于上述x方向及y方向的截面內(nèi)的激光B的聚光狀態(tài)的概略圖。如圖23所示，微透鏡155a具有從光軸O向外逐漸增大的折射率分布，在同一圖中，微透鏡155a內(nèi)所示的虛線表示其折射率從光軸O以規(guī)定的等間距變化的位置。如圖所示，當(dāng)比較平行于x方向的截面內(nèi)和平行于y方向的截面內(nèi)時，后者的截面內(nèi)的微透鏡155a的折射率變化的比例更大，焦點距離更短。即使使用由這樣的折射率分布型透鏡構(gòu)成的微透鏡陣列，也可以得到與使用前述微透鏡陣列55時同樣的效果。需要說明的是，在圖17及圖18所示的微透鏡55a中，也可以一并給與前述折射率分布，并通過面形狀和折射率分布兩者矯正由微鏡62的反射面的偏斜引起的像差。下面，對前述微透鏡陣列的其它一例邊參照附圖邊進行說明。如圖42所示，本例的微透鏡陣列是排列具有不使來自前述素描部的周邊部的光入射的開口形狀的微透鏡而構(gòu)成的。如前面參照圖14及圖15迸行的說明所述，在DMD50的微鏡62的反射面上存在偏斜，其偏斜變化量從微鏡62的中心運行到周邊部，具有逐漸變大的傾向。而且，微鏡62的一個對角線方向(y方向)的周邊部偏斜變化量，比別的對角線方向(x方向)的周邊部偏斜變化量大，上述傾向也變得更顯著。本例的微透鏡陣列是為了應(yīng)付上述問題而適用的陣列。該微透鏡陣列255為陣列狀配設(shè)的微透鏡255a具有圓形的透鏡開口的結(jié)構(gòu)。因此，可以防止在如上所述的偏斜大的微鏡62的反射面的周邊部、特別是在四角部反射的激光B通過微透鏡255a變得不聚光，聚光好的激光B的聚光位置中的形狀偏斜。因此，可以在圖案形成材料150上曝光無偏斜、更高精細的圖像。另外，在前述微透鏡陣列255中，如圖42所示，在保持有微透鏡255a的透明構(gòu)件255b(它通常與微透鏡255a形成一體)的里面，即在形成有微透鏡255a的面的相反側(cè)的面上，以埋入相互分離的多個微透鏡255a的透鏡開口的外側(cè)區(qū)域的狀態(tài)，形成遮光性的掩膜255c。通過設(shè)置這樣的掩膜255c,由于在微鏡62的反射面的周邊部、特別是在四角部反射的激光B在此被吸收、遮斷，故可以更可靠地防止聚光好的激光B的形狀偏斜之類的問題。在前述微透鏡陣列255中，微透鏡的開口形狀不限于上述的圓形，也可以適用例如如圖43所示，將多個具有橢圓形開口的微透鏡455a并列設(shè)置而成的微透鏡陣列455;如圖44所示，將多個具有多角形(在圖示的例中為四角形)的幵口的微透鏡555a并列設(shè)置而成的微透鏡陣列555等。需要說明的是，上述微透鏡455a及555a是將通常的軸對稱球面透鏡的一部分切成圓形或多角形的形狀的微透鏡，具有與通常的軸對稱球面透鏡同樣的聚光功能。而且，在本發(fā)明中，也可以應(yīng)用如圖45A、B及C所示的微透鏡陣歹lJ。同一圖A所示的微透鏡陣列655并排設(shè)置在透明構(gòu)件655b的激光B射出之側(cè)的面上，以使與上述微透鏡55a、455a及555a同樣的多個微透鏡655a相互密接，在激光B入射之側(cè)的面上形成與上述掩膜255c同樣的掩膜655c。需要說明的是，相對圖42的掩膜255c形成在透鏡開口的外側(cè)部分，該掩膜655c設(shè)置在透鏡開口內(nèi)。另外，如同一圖B所示的微透鏡陣列755，在透明構(gòu)件455b的激光B射出之側(cè)的面上并排設(shè)置相互分離的多個微透鏡755a，在這些微透鏡755a間形成掩膜755c。另外，如同一圖C所示的微透鏡陣列855，在透明構(gòu)件855b的激光B射出之側(cè)的面上并排設(shè)置作成相互連接狀態(tài)的多個微透鏡855a，在各微透鏡855a的周邊部形成掩膜855c。需要說明的是，前述掩膜655c、755c及855c全部與前述的掩膜255c同樣具有圓形的開口，因此，微透鏡的開口規(guī)定為圓形。如以上說明的微透鏡255a、455a、555a、655a及755a所述，通過設(shè)置掩模等而不使來自DMD50的微鏡62的周邊部的光入射的透鏡開口形狀的構(gòu)成，也可以同時采用如圖17所示的已述的微透鏡55a之類的矯正由微鏡62的面的偏斜引起的像差的非球面形狀的透鏡、及如圖22所示的微透鏡155a之類的具有矯正上述像差的折射率分布的透鏡。這樣一來，防止由微鏡62的反射面的偏斜引起的曝光圖像的偏斜的效果成倍地提高。特別是如圖45C所示，在微透鏡陣列855中的微透鏡855a的透鏡面上形成掩膜855c的構(gòu)成中，將微透鏡855a設(shè)定為具有如上所述的非球面形狀及折射率分布的透鏡，在此基礎(chǔ)上，例如，將如圖11所示的透鏡系統(tǒng)52、54的第1成像光學(xué)系統(tǒng)的成像位置設(shè)定在微透鏡855a的透鏡面上時，可以特別提高光利用效率，以更高強度的光曝光圖案形成材料150。亦即，此時，利用第1成像光學(xué)系統(tǒng)折射光，以使由微鏡62的反射面的偏斜引起的雜散光在該光學(xué)系統(tǒng)的成像部位聚焦，但如果在該位置形成掩膜855c，則不能遮擋雜散光以外的光，光利用效率提高。在本發(fā)明的圖案形成方法中，可以與適當(dāng)選自公知的光學(xué)系統(tǒng)中的其它的光學(xué)系統(tǒng)并用，例如，由一對組合透鏡構(gòu)成的光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)等。前述光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)進行如下矯正，使各射出部位中的光束寬度發(fā)生變化，以使其周邊部的光束寬度相對接近光軸的中心部的光束寬度之比在射出側(cè)比入射側(cè)小，將來自光照射裝置的平行光束照射到DMD上時，進行矯正以使被照射面的光量分布大致均勻。下面，對前述光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)邊參照附圖邊進行說明。圖24是表示利用光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)矯正的概念的說明圖。如圖24A所示，用入射光束和射出光束，對其全部光束寬度(全光束寬度)HO、Hl相同的情況進行說明。需要說明的是，在圖24A中，符號51、52表示的部分是假設(shè)表示前述光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)中的入射面及射出面的。在前述光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)中，設(shè)定入射到接近于光軸Z1的中心部的光束和入射到周邊部的光束的分別的光束寬度hO、hl相同(hO二hl)。前述光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)發(fā)揮的作用是相對入射側(cè)中相同的光束寬度h0、hl的光，就中心部的入射光束而言，放大其光束寬度h0;相反地，相對周邊部的入射光束，縮小其光束寬度hl。亦即，對中心部的射出光束的寬度hlO和周邊部的射出光束的寬度hll而言，使其為hlKh10。當(dāng)用光束寬度的比率表示時，周邊部的光束寬度相對射出側(cè)的中心部的光束寬度之比「hll細」，與入射側(cè)中的比(hl/h0二l)相比變小((hll/h10)〈1)。通過如上所述使光束寬度發(fā)生變化，通?？梢允构饬糠植甲兇蟮闹醒氩康墓馐蚬饬坎蛔愕闹苓叢可桑鳛檎w使光的利用效率不至于下降，被照射面中的光量分布大致均勻化。使均勻化的程度成為例如有效區(qū)域內(nèi)的光量不均勻為30%以內(nèi)、優(yōu)選20%以內(nèi)。由前述光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)生的作用、效果，即使在入射側(cè)和射出側(cè)改變整體的光束寬度時(圖24B、C)也同樣。圖24B表示將入射側(cè)的整體光束寬度HO"縮小"為寬度H2射出的情況(HOH2)。即使在這種情況下，前述光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)使在入射側(cè)為相同的光束寬度h0、hl的光在射出側(cè)，中央部的光束寬度hlO與周邊部相比變大；相反地，周邊部的光束寬度hll與中心部相比變小。當(dāng)以光束的縮小率來考慮時，其發(fā)揮的作用是使相對中心部的入射光束的縮小率比周邊部?。幌鄬χ苓叢康娜肷涔馐目s小率比中心部大。此時，周邊部的光束寬度相對中心部的光束寬度之比"H11/H10"與入射側(cè)中的比(hl/h(^l)相比變小((hll/h10)〈1)。圖24C表示將入射側(cè)的整體光束寬度HO"放大"為寬度H3射出的情況(H(KH3)。即使在這種情況下，前述光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)使在入射側(cè)為相同的光束寬度hO、hl的光在射出側(cè)，中央部的光束寬度hlO與周邊部相比變大；相反地，周邊部的光束寬度hll與中心部相比變小。當(dāng)以光束的放大率來考慮時，其發(fā)揮的作用是使相對中心部的入射光束的放大率比周邊部大；相對周邊部的入射光束的放大率比中心部小。此時，周邊部的光束寬度相對中心部的光束寬度之比"H11/H10"與入射側(cè)中的比(hl/hO二l)相比變小((hll/h10)〈1)。如上所述，由于前述光量分布矯正系統(tǒng)使各射出位置中的光束寬度發(fā)生變化，使周邊部的光束寬度相對接近于光軸Zl的中心部的光束寬度之比射出側(cè)比入射側(cè)小，因此，在入射側(cè)中為相同光束寬度的光，在射出側(cè)中，中央部的光束寬度與周邊部相比變大，周邊部的光束寬度與中心部相比變小。由此，可以將中央部的光束向周邊部生成，使作為光學(xué)系統(tǒng)整體的光利用效率不下降，可以形成光量分布大致均勻化的光束截面。下面，表示用作前述光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)的1對組合透鏡的具體的透鏡數(shù)據(jù)的l例。該例表示如前述光照射裝置為激光陣列光源時所述，在射出光束的截面的光量分布為高斯分布時的透鏡數(shù)據(jù)。需要說明的是，在單模光纖的入射端連接一個半導(dǎo)體激光時，來自光纖的射出光束的光量分布為高斯分布。在本發(fā)明的圖案形成方法中，也可以應(yīng)用這樣的場合。另外，通過縮小多模式光纖的芯徑，使其接近于單模光纖的構(gòu)成等，也可以應(yīng)用于接近于光軸中心部的光量比周邊部的光量大的場合。將基本透鏡數(shù)據(jù)示于下述表l。<table>tableseeoriginaldocumentpage46</column></row><table>由表1可知，1對組合透鏡由旋轉(zhuǎn)對稱的兩個非球面透鏡構(gòu)成。當(dāng)將配置于光入射側(cè)的第1透鏡的光入射側(cè)的面設(shè)定為第1面、將光射出側(cè)的面設(shè)定為第2面時，第l面是非球面形狀。另外，當(dāng)將配置于光射出側(cè)的第2透鏡的光入射側(cè)的面設(shè)定為第3面、將光射出側(cè)的面設(shè)定為第4面時，第4面是非球面形狀。在表1中，面編號Si表示i序號(i二l4)的面的編號，曲率半徑ri表示i序列號的面的曲率半徑，面間隔di表示i序列號的面和i+l序列號的光軸上的面間隔。面間隔di值的單位是毫米(mm)。折射率Ni表示相對具有i序列的面的光學(xué)元件的波長405nm的折射率的值。將第1面及第4面的非球面數(shù)據(jù)示于下述表2。<table>tableseeoriginaldocumentpage46</column></row><table>上述非球面數(shù)據(jù)用表示非球面形狀的下述式(A)中的系數(shù)表示。[數(shù)4]Z=,CP.....(A)在上述式(A)中，如下定義各系數(shù)。Z:從位于距光軸高度為p的非球面上的點下降到非球面的頂點的切面(垂直于光軸的平面)的垂線的長度(mm)p:距光軸的距離(mm)K:圓錐系數(shù)C:近軸曲率(l/r、r:近軸曲率半徑)ai:第i次(i二310)的非球面系數(shù)在表2所示的數(shù)值中，符號"E"表示接在其下面的數(shù)值是以IO為底的"冪指數(shù)"，用以IO為底的指數(shù)關(guān)系表示的數(shù)值是乘以"E"之前的數(shù)值。例如，"1.0E-02"表示"1.0xl0-2，，。圖26表示通過前述表1及表2所示的1對組合透鏡得到的照明光的光量分布。橫軸表示距光軸的坐標(biāo)，縱軸表示光量比(％)。需要說明的是，為了比較，圖25表示不進行矯正時的照明光的光量分布(高斯分布)。如圖25及圖26所示，通過用光量分布矯正光學(xué)系統(tǒng)進行矯正，與不進行矯正時相比，得到大致均勻化了的光量分布。因此，可以使光的利用效率不下降，用均勻的激光進行無不均的曝光。下面，將作為光照射裝置的纖維陣列光源66進行說明。圖27A(A)是表示纖維陣列光源構(gòu)成的立體圖，圖27A(B)是(A)的部分放大圖，圖27A(C)及(D)是表示激光射出部中的發(fā)光點的排列的俯視圖。另外，圖27B是表示纖維陣列光源的激光射出部中的發(fā)光點的排列的正面圖。如圖27A所示，纖維陣列光源66備有多個(例如14個)激光器模塊64，在各激光模塊64上結(jié)合著多模式光纖30的一端。在多模式光纖30的另一端，結(jié)合著芯徑與多模式光纖30相同、并且包層直徑比多模式光纖30小的光纖31。如圖27B詳細地所示，和多模式光纖31的光纖30相反側(cè)的端部沿與副掃描方向垂直的主掃描方向排列7個，將其排列成2列構(gòu)成激光射出部68。如圖27B所示，激光射出部68用表面平坦的2塊支持板65夾持固定。另外，在多模式光纖31的光射出端面，為了對其進行保護，希望配置玻璃等透明的保護板。多模式光纖31的光射出端面，由于光密度高而易集塵、易劣化，但通過配置如上所述的保護板，可以防止端面附著塵埃，還延遲劣化。另外，為了將包層直徑小的光纖31的射出端排列成無縫隙的1歹ij，在包層直徑大的部分，在相鄰2根多模式光纖30之間堆積多模式光纖30，并將與堆積而成的多模式光纖30接合的光纖31的射出端，以夾持于在包層直徑大的部分與相鄰2根多模式光纖30接合的光纖31的兩個射出端之間的方式排列。如圖28所示，可以通過在包層直徑大的多模式光纖30的激光射出側(cè)的前端部分同軸結(jié)合長度130cm的包層直徑小的光纖31得到這樣的光纖。2根光纖如下溶融結(jié)合，光纖31的入射端面熔接在多模式光纖30的射出端面，使兩光纖的中心軸一致。如上所述，光纖31的芯31a的直徑與多模式光纖30的芯30a的直徑大小相同。另外，可以將長度短包層直徑大的光纖上熔接有包層直徑小的光纖的短尺寸光纖，通過環(huán)圈及光連接器等結(jié)合在多模式光纖30的射出端。通過使用連接器等可以離合地結(jié)合，在包層直徑小的光纖破損時等，前端部分的交換變得容易，可以降低曝光頭的保養(yǎng)所需要的成本。需要說明的是，下面，有時將光纖31稱為多模式光纖30的射出端部。多模式光纖30及光纖31可以是階梯折射率型光纖、緩變折射率型光纖及復(fù)合型的任意一種。例如，可以使用三菱電線工業(yè)株式會社制造的階梯折射率型光纖。在本實施方式中，多模式光纖30及光纖31是階梯折射率型光纖，多模式光纖30的包層直徑二125^im、芯徑二50pm、NA二0.2、入射端面層的透過率二99.5%以上；光纖31的包層直徑二6(Vm、芯徑二50jum、NA=0.2。一般情況下，在紅外區(qū)域的激光中，當(dāng)縮小光纖的包層直徑時，傳播損失增加。因此，根據(jù)激光的波長帶決定合適的包層直徑。但是，波長越短，傳播損失越小，在由GaN類半導(dǎo)體激光射出的波長405nm的激光中，即使將包層的厚度K包層直徑-芯徑)/2)設(shè)為使800nm的波長帶的紅外光傳播時的1/2左右、使通信用的1.5pm的波長帶的紅外光傳播時的約1/4，傳播損失也幾乎不增加。因此，可以將包層直徑縮小到60pm。但是，光纖31的包層直徑不限定于6(Him。在現(xiàn)有的纖維陣列光源中使用的光纖的包層直徑為125pm，但由于包層直徑越小，焦點深度越深，因此，多模式光纖的包層直徑優(yōu)選為80!im以下，更優(yōu)選60pm以下，進一步優(yōu)選40nm以下。另一方面，由于芯徑必須至少為34ym，故光纖31的包層直徑優(yōu)選為10pm以上。激光模塊64由如圖29所示的合波激光器光源(纖維陣列光源)構(gòu)成。該合波激光器光源由如下構(gòu)件構(gòu)成排列固定在加熱塊IO上的多個(例如7個)片狀的橫多模式或單模式的GaN類半導(dǎo)體激光LD1、LD2、LD3、LD4、LD5、LD6及LD7;與GaN類半導(dǎo)體激光LD1LD7分別對應(yīng)設(shè)置的平行光管透鏡ll、12、13、14、15、16及17;—個聚光透鏡20;1根多模式光纖30。需要說明的是，半導(dǎo)體激光的個數(shù)不限定于7個。例如，在包層直徑二60(im、芯徑二50fxm、NA=0.2的多模式光纖中，可以入射20個半導(dǎo)體激光，可以實現(xiàn)曝光頭的所需光量，并且進一步減少光纖根數(shù)。GaN類半導(dǎo)體激光LD1LD7其振動波長都一樣(例如405nm)，最大輸出功率也都一樣(例如，多模激光為100mW，單模激光為30mW)。需要說明的是，在350nm450nm的波長范圍內(nèi)，GaN類半導(dǎo)體激光LD1~LD7也可以使用具備上述的405nm以外的振動波長的激光。如圖30及圖31所示，前述合波激光器光源與其它光學(xué)元件一起貯存在上方開口的箱狀的封裝40內(nèi)。封裝40備有作成的封裝蓋41以使其開口關(guān)閉，通過在脫氣處理后導(dǎo)入密封氣體，用封裝蓋41封閉封裝40的開口，在通過封裝40和封裝蓋41形成的密閉空間(密封空間)內(nèi)氣密密封上述合波激光器光源。在封裝40的底部固定有基板42，在該基板42的上面，安裝有前述加熱塊10、支持聚光透鏡20的聚光透鏡架45及支持多模式光纖30的入射端部的纖維架46。多模式光纖30的射出端部從形成于封裝40的壁面的開口引出到封裝外。另外，在加熱塊10的側(cè)面安裝有平行光管透鏡架44，支持平行光管透鏡11~17。在封裝40的橫壁面形成開口，通過該開口將對GaN類半導(dǎo)體激光LD1LD7供給傳動電流的配線47拉伸到封裝外。需要說明的是，在圖31中，為了避免圖的復(fù)雜化，在多個GaN類半導(dǎo)體激光中，僅對GaN類半導(dǎo)體激光LD7編號，在多個平行光管透鏡中，僅對平行光管透鏡17編號。圖32表示前述平行光管透鏡1117的安裝部分的正面形狀。平行光管透鏡1117分別形成將含有具備非球面的圓形透鏡的光軸的區(qū)域以平行的平面細長切下形成的形狀。該細長形狀的平行光管透鏡，可以通過例如將樹脂或光學(xué)玻璃進行模成形而形成。平行光管透鏡11~17密接配置在上述發(fā)光點的排列方向，以使其長度方向與GaN類半導(dǎo)體激光LD1~LD7的發(fā)光點的排列方向(圖32的左右方向)垂直。另一方面，GaN類半導(dǎo)體激光LD1LD7備有發(fā)光寬度為2pm的活性層，與活性層平行的方向、垂直的方向的放大角分別以例如10°、30°的狀態(tài)使用分別發(fā)出激光束BlB7的激光。這些GaN類半導(dǎo)體激光LD1LD7配設(shè)在與活性層平行的方向，以使其發(fā)光點排列成1歹U。相對如上所述的細長形狀的平行光管透鏡11~17，以放大角度大的方向與長度方向一致、放大角度小的方向與寬度方向(與長度方向垂直的方向)一致的狀態(tài)入射從各發(fā)光點發(fā)出的激光束B1B7。亦即，各平行光管透鏡1117的寬度為1.1mm、長度為4.6mm，入射到這些透鏡中的激光束BlB7的水平方向、垂直方向的光束直徑分別為0.9mm、2.6mm。另外，各平行光管透鏡1117的焦點距離f產(chǎn)3mm、NA=0.6、透鏡配置間距-1.25mm。聚光透鏡20將含有具備非球面的圓形透鏡的光軸的區(qū)域以平行的平面細長地切下，形成平行光管透鏡1117的排列方向、即水平方向長、與其垂直的方向短的形狀。該聚光透鏡20的焦點距離f2二23mm，NA二0.2。該聚光透鏡20也通過例如將樹脂或光學(xué)玻璃進行模成形而形成。前述纖維陣列光源在照明DMD的光照射裝置中，由于使用將合波激光器光源的光纖的射出端部排列成陣列狀的高亮度的纖維陣列光源，故可以實現(xiàn)高輸出功率并且備有深的焦點深度的圖案形成裝置。而且，通過各纖維陣列光源的輸出功率變大，為了得到所希望的輸出功率所需要的纖維陣列光源的個數(shù)變少，可以謀求圖案形成裝置的低成本化。另外，由于使光纖的射出端的包層直徑比入射端的包層直徑小，故發(fā)光部直徑變得更小，可以謀求纖維陣列光源的高亮度化。因此，可以實現(xiàn)備有更深的焦點深度的圖案形成裝置。例如，在光束直徑為lpm以下、分辨率為O.lpm以下的超高分辨率曝光的場合，可以得到深的焦點深度，可以進行高速且高精細的曝光。因此，適合于需要高分辨率的薄膜晶體管CTFT)的曝光工序。前述光照射裝置不限于備有多個前述合波激光器光源的纖維陣列光源，例如，可以使用如下的纖維陣列光源，該纖維陣列光源將備有射出從具有一個發(fā)光點的單一的半導(dǎo)體激光入射的激光的1根光纖的纖維光源陣列化。作為備有多個發(fā)光點的光照射裝置，例如圖33所示，可以使用在加熱塊100上排列有多個(例如7個)片狀的半導(dǎo)體激光LD1LD7的激光陣列。另夕卜，也可以使用如圖34A所示的多個(例如5個)發(fā)光點110a排列在規(guī)定方向的片狀的多腔激光器110。多腔激光器110與排列片狀的半導(dǎo)體激光的情況相比，由于可以位置精度良好地排列發(fā)光點，故容易合波從各發(fā)光點射出的激光束。但是，由于當(dāng)發(fā)光點變多時，在激光制造時在多腔激光器110中容易產(chǎn)生撓曲，故優(yōu)選發(fā)光點110a的個數(shù)設(shè)定為5個以下。前述光照射裝置可以使用該多腔激光器110及多腔激光陣列作為激光器光源，該多腔激光陣列如圖34B所示，其在加熱塊100上排列有多個多腔激光器110，排列方向與各片的發(fā)光點110a的排列方向相同。另外，合波激光器光源不限定將由多個片狀的半導(dǎo)體激光射出的激光合波的光源。例如，可以使用如圖21所示的備有具有多個(例如3個)發(fā)光點110a的片狀的多腔激光器110的合波激光器光源。該合波激光器光源備有多腔激光器110、1根多模式光纖130及聚光透鏡120而構(gòu)成。多腔激光器110可以由例如振動波長為405nm的GaN類激光二極管構(gòu)成。在前述構(gòu)成中，分別由多腔激光器110的多個發(fā)光點110a射出的激光束B，分別利用聚光透鏡120聚光，入射于多模式光纖130的芯130a。入射于芯130a的激光在光纖內(nèi)傳播，合波為1根射出。將多腔激光器110的多個發(fā)光點110a—并設(shè)置在與上述多模式光纖130的芯徑大致相等的寬度內(nèi)，同時，通過使用凸透鏡及凹透鏡作為聚光透鏡120，可以提高激光束B向多模式光纖130的結(jié)合效率，該凸透鏡的焦點距離與多模式光纖130的芯徑大致相等，該凹透鏡僅在與其活性層垂直的面內(nèi)將來自多腔激光器110的射出光束準(zhǔn)直。另外，如圖35所示，可以使用合波激光器光源，其使用備有多個(例如3個)發(fā)光點的多腔激光器110，在加熱塊111上備有多個(例如9個)的多腔激光器110相互以等間隔排列成的激光陣列140。多個多腔激光器110排列固定在與各片的發(fā)光點110a的排列方向相同的方向上。該合波激光器光源具備激光陣列140、與各多腔激光器110相對應(yīng)配置成的多個透鏡陣列114、在激光陣列140和多個透鏡陣列114之間配置成的一個凹透鏡113、1根多模式光纖130及聚光透鏡120而構(gòu)成。透鏡陣列114備有與多腔激光器110的發(fā)光點相對應(yīng)的多個微透鏡。在上述構(gòu)成中，分別由多個多腔激光器110的多個發(fā)光點110a射出的激光束B，分別利用凹透鏡113聚光在規(guī)定的方向后，利用透鏡陣列114的各微透鏡進行平行光化。平行光化后的激光束L，利用聚光透鏡120聚光，入射于多模式光纖130的芯130a。入射到芯130a的激光在光纖維內(nèi)傳播，合波成l根而射出。而且，其它合波激光器光源如圖36A及B所示，在大致矩形的加熱塊180上裝載光軸方向的截面為L字狀的加熱塊182，在兩個加熱塊間形成貯存空間。在L字狀的加熱塊182的上面，多個發(fā)光點(例如5個)排列成陣列狀的多個(例如兩個)多腔激光器110,以等間隔排列固定在與各片的發(fā)光點110a的排列方向相同的方向上。在大致矩形的加熱塊180上形成凹部，在加熱塊180的空間側(cè)上面配置著多個發(fā)光點(例如5個)排列成陣列狀的多個(例如兩個)多腔激光器110，以使其發(fā)光點與配置在加熱塊182的上面的激光片的發(fā)光點位于同一垂直面上。在多腔激光器110的激光射出側(cè)，配置有與各片的發(fā)光點110a相對應(yīng)排列好準(zhǔn)直透鏡的準(zhǔn)直透鏡陣列184。配置準(zhǔn)直透鏡陣列184，以使各準(zhǔn)直透鏡的長度方向與激光束的放大角大的方向(快軸方向)一致，各準(zhǔn)直透鏡的寬度方向與放大角小的方向(慢軸方向)一致。如上所述，通過將準(zhǔn)直透鏡陣列化、一體化，可以謀求激光的空間利用效率提高，合波激光器光源的高輸出功率化，同時，零件數(shù)量減少且低成本化。另外，在準(zhǔn)直透鏡陣列184的激光射出側(cè)，配置有1根多模式光纖130和在該多模式光纖130的入射端聚光激光束而結(jié)合的聚光透鏡120。在前述構(gòu)成中，分別由配置在激光模塊180、182上的多個多腔激光器110的多個發(fā)光點110a射出的激光束B，分別利用準(zhǔn)直透鏡陣列184進行平行光化，利用聚光透鏡120聚光，入射于多模式光纖130的芯130a。入射于芯130a的激光在光纖內(nèi)傳播，合波成1根而射出。如上所述，前述合波激光器光源通過多腔激光的多段配置和準(zhǔn)直透鏡的陣列化，尤其可以實現(xiàn)高輸出功率化。由于通過使用該合波激光器光源，可以構(gòu)成更高亮度的纖維陣列光源及束纖維光源，故特別適合作為本發(fā)明的圖案形成裝置的激光器光源的纖維光源。需要說明的是，將前述各合波激光器光源貯存在套管內(nèi)，可以構(gòu)成將多模式光纖130的射出端部從其套管拉出的激光模塊。另外，對在合波激光器光源的多模式光纖的射出端結(jié)合芯徑與多模式光纖相同且包層直徑比多模式光纖小的其它光纖，謀求纖維陣列光源的高亮度化的實例進行說明，例如，可以使用在射出端不結(jié)合其它光纖，包層直徑為125pm、8(Hmi、6(Hxm等的多模式光纖。在掃描器162的各曝光頭166中，以發(fā)散光狀態(tài)從構(gòu)成纖維陣列光源66的合波激光器光源的GaN類半導(dǎo)體激光LD1LD7分別射出的激光束Bl、B2、B3、B4、B5、B6及B7，分別通過對應(yīng)的準(zhǔn)直透鏡1117進行平行光化。平行光化過的激光束B1B7利用聚光透鏡20聚光，聚束在多模式光纖30的芯30a的入射端面。聚光光學(xué)系統(tǒng)由準(zhǔn)直透鏡1117及聚光透鏡20構(gòu)成。另外，由聚光光學(xué)系統(tǒng)和多模式光纖30構(gòu)成合波光學(xué)系統(tǒng)。利用聚光透鏡20如上所述進行了聚光的激光束B1B7入射到多模式光纖30的芯30a上，在光纖內(nèi)傳播，從合波成1根激光束而結(jié)合在多模式光纖30的射出端部的光纖31射出。在各激光模塊中，在激光束B1B7向多模式光纖30的結(jié)合效率為0.85、GaN類半導(dǎo)體激光LDlLD7的各輸出功率為30mW時，對排列成陣列狀的光纖31的每一個而言，可以得到輸出功率180mW(二30mWx0.85x7)的合波激光束B。因此，在6根光纖31排列成陣列狀的激光射出部68的輸出功率為約lW(=180mWx6)。在纖維陣列光源66的激光射出部68，高亮度的發(fā)光點沿主掃描方向排列成1歹i」。由于使來自單一的半導(dǎo)體激光的激光結(jié)合在1根光纖上的現(xiàn)有的纖維光源的輸出功率低，因此，只有進行多數(shù)列排列，才可以得到所希望的輸出功率，但由于前述合波激光器光源是高輸出功率，故即使是少數(shù)列、例如1列也可以得到所希望的輸出功率。例如，在使半導(dǎo)體激光器和光纖以1對1結(jié)合而成的現(xiàn)有的纖維光源中，通常情況下，使用輸出功率30mW(毫瓦)左右的激光器作為半導(dǎo)體激光器，由于使用芯徑5(Him、包層直徑125pm、NA(開口數(shù))0.2的多模式光纖作為光纖，故如果想要得到約1W(瓦)的輸出功率，就必須捆48根(8x6)多模式光纖，由于發(fā)光區(qū)域的面積為0.62mm2(0.675mmx0.925mm)，故在激光射出部68的亮度為1.6xl06(W/m2)，每1根光纖的亮度為3.2xl06(W/m2)。與其相對應(yīng)，在前述光照射裝置為可以照射合波激光的裝置時，由于用6根多模式光纖可以得到約1W的輸出功率，在激光射出部68的發(fā)光區(qū)域的面積為0.0081mm2(0.325mmx0.025mm)，故在激光射出部68的亮度為123x106(W/m2)，可以實現(xiàn)比目前高約80倍的高亮度化。另外，每l根光纖的亮度為90xl06(W/m2)，可以謀求與現(xiàn)有的相比約28倍的高亮度化。在此，參照圖37A及B，對現(xiàn)有的曝光頭和本實施方式的曝光頭的焦點深度的不同進行說明?，F(xiàn)有的曝光頭的束狀纖維光源的發(fā)光區(qū)域的副掃描方向的直徑為0.675mm，曝光頭的纖維陣列光源的發(fā)光區(qū)域的副掃描方向的直徑為0.025mm。如圖37A所示，在現(xiàn)有的曝光頭中，由于光照射裝置(束狀纖維光源)l的發(fā)光區(qū)域大，故向DMD3入射的光束的角度變大，結(jié)果向掃描面5入射的光束的角度變大。因此，相對于聚光方向(焦點方向的偏移)的光束直徑容易粗。另一方面，如圖37B所示，在本發(fā)明的圖案形成裝置中的曝光頭中，由于纖維陣列光源66的發(fā)光區(qū)域的副掃描方向的直徑小，故通過透鏡系統(tǒng)67向DMD50入射的光束的角度變小，結(jié)果向掃描面56入射的光束的角度變小。亦即，焦點深度變深。在該例中，發(fā)光區(qū)域的副掃描方向的直徑為現(xiàn)有的約30倍，可以得到大致相當(dāng)于衍射界限的焦點深度。因此，適于微小光點的曝光。曝光頭的需要光量越大，向該焦點深度的效果越顯著、越有效。在該例中，投影于曝光面的1素描尺寸為lOjimxlOMm。需要說明的是，DMD為反射型的空間光調(diào)制元件，圖37A及B是為了說明光學(xué)關(guān)系而作的展開圖。下面，對使用有前述圖案形成裝置的本發(fā)明的圖案形成方法進行說明。首先，根據(jù)曝光圖案的圖案信息，輸入到連接在DMD50的沒有圖示的控制器上，一次存儲在控制器內(nèi)的幀存儲器中。該圖案信息是用2值(點記錄的有無)表示構(gòu)成圖像的各素描的濃度的數(shù)據(jù)。然后，將圖案形成材料150吸附在表面的載物臺152，通過沒有圖示的傳動裝置，以一定速度沿導(dǎo)軌158由門160的上游側(cè)移動到下游側(cè)。載物臺152通過門160下時，當(dāng)利用安裝在門160上的檢測傳感器164檢測圖案形成材料150的前端時，存儲在幀存儲器中的圖案信息在多個線路依次讀出，基于由數(shù)據(jù)處理部讀出的圖案信息，分別在每個曝光頭166上生成控制信號。而且，通過反射鏡傳動控制部，基于生成的控制信號，分別開關(guān)控制每個曝光頭166上DMD50的微鏡。然后，當(dāng)從纖維陣列光源66到DMD50照射激光時，在DMD50的微鏡為接通狀態(tài)時反射的激光，通過透鏡系統(tǒng)54、58成像于圖案形成材料150的被曝光面56上。由此，使從纖維陣列光源66射出的激光在每素描進行開關(guān)，用與DMD50的使用素描數(shù)大致相同數(shù)量的素描單位(曝光區(qū)域168)曝光圖案形成材料150。另外，通過與載物臺152—起以一定速度移動圖案形成材料150，利用掃描器162在與載物臺移動方向相反的方向副掃描圖案形成材料150，在每個曝光頭166上形成帶狀的已曝光的區(qū)域170。前述顯影工序是如下工序，通過前述曝光工序曝光前述感光層，使該感光層的曝光好的區(qū)域固化后，通過除去未固化區(qū)域進行顯影，形成永久圖案。前述未固化區(qū)域的除去方法沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如，使用顯影液進行除去的方法等。前述顯影液沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，優(yōu)選例如堿金屬或堿土類金屬的氫氧化物或碳酸鹽、碳酸氫鹽、氨水、季銨鹽的水溶液等。在這些溶液中，特別優(yōu)選碳酸鈉水溶液。前述顯影液可以與表面活性劑、消泡劑、有機堿(例如芐胺、乙二胺、乙醇胺、四甲基氫氧化銨、二乙三胺、三乙五胺、嗎啉、三乙醇胺等)及用于促進顯影的有機溶劑(例如醇類、酮類、酯類、醚類、酰胺類、內(nèi)酯類等)等并用。另外，前述顯影液可以是將水或堿水溶液與有機溶劑混合而成的水類顯影液，也可以是單獨的有機溶劑。[固化處理工序]本發(fā)明的圖案形成方法還優(yōu)選包含固化處理工序。前述固化處理工序是這樣的工序其進行前述顯影工序后，相對于形成的永久圖案中的感光層進行固化處理。前述固化處理工序沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，適當(dāng)例舉例如全面曝光處理、全面加熱處理等。前述全面曝光處理的方法例如有在前述顯影工序后，將形成有前述永久圖案的前述層疊體的全面進行曝光的方法。通過該全面曝光，促進形成前述感光層的感光性組合物中的樹脂固化，固化前述永久圖案的表面。進行前述全面曝光的裝置沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，適當(dāng)例舉例如超高壓銀燈等UV曝光機。前述全面加熱處理的方法例如有在前述顯影工序后，將形成有前述永久圖案的前述層疊體的全面進行加熱的方法。通過該全面加熱，提高前述永久圖案的表面的膜強度。前述全面加熱中的加熱溫度，優(yōu)選120~250°C，更優(yōu)選120200°C。當(dāng)該加熱溫度低于12(TC時，有時不能利用加熱處理提高膜強度，當(dāng)其超過250。C時，有時前述感光性組合物中的樹脂發(fā)生分解，膜質(zhì)變?nèi)?、變脆。前述全面加熱中的加熱時間，優(yōu)選10120分鐘，更優(yōu)選1560分鐘。進行前述全面加熱的裝置沒有特別限制，可以從公知的裝置中根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如干燥烘箱、電熱板、IR加熱器等。需要說明的是，在前述基體材料為多層電路基板等印刷電路板時，在該印刷電路板上形成本發(fā)明的永久圖案，而且，可以如下所述進行焊錫。亦即，利用前述顯影工序形成作為前述永久圖案的固化層，且在前述印刷電路板的表面暴露金屬層。相對于在該印刷電路板的表面暴露出的金屬層的部位進行鍍金后，進行焊錫。而且，在進行焊錫的部位安裝半導(dǎo)體及零件等。此時，利用前述固化層的永久圖案發(fā)揮保護膜或絕緣膜(層間絕緣膜)、作為抗焊劑圖案等的性能防止來自外部的沖擊及相鄰之間的電極的導(dǎo)通。在本發(fā)明的圖案形成方法中，優(yōu)選形成保護層、層間絕緣膜及抗焊劑圖案的至少任一種。當(dāng)利用前述圖案形成方法形成的永久圖案作為前述保護層、層間絕緣膜或前述抗焊劑圖案時，可以保護電路不受來自外部的沖擊及彎曲，特別是在作為前述層間絕緣膜時，對例如多層電路基板及組裝電路基板等高密度安裝半導(dǎo)體及零件是有用的。本發(fā)明的圖案形成方法，由于可以高速形成圖案，故可以廣泛用于各種圖案的形成，特別是可以適用于撓性電路圖案基板的形成。另外，利用本發(fā)明的圖案形成方法形成的永久圖案，具有優(yōu)良的表面硬度、絕緣性、耐熱性等，可以適用于作為保護膜、層間絕緣膜、抗焊劑圖案。下面，利用實施例更具體地說明本發(fā)明，但本發(fā)明并不限定于這些實施例。(合成例1)一具有羧基的聚氨酯樹脂的合成一在500ml的三口燒瓶中將下述結(jié)構(gòu)式(l)表示的4，4'-二苯基甲垸二異氰酸酯125g及下述結(jié)構(gòu)式(2)表示的2,2-二(羥甲基)丙酸67g溶解于二噁垸290ml中。然后，將N，N-二乙基苯胺lg放入該溶液中，然后，在二噁垸回流下攪拌6小時、使其反應(yīng)后，將得到的溶液一點一點地加入4L水及40mL醋酸溶液中，使聚合物析出。通過使得到的固體進行真空干燥合成185g的聚氨酯樹脂(A)。該聚氨酯樹脂(A)的酸值為138mgKOH/g。用GPC測定重均分子量(聚苯乙烯換算)后為28,000。GH，畫2~——CH20HG00H結(jié)構(gòu)式(2)(合成例2)一具有羧基的聚氨酯樹脂的合成一在合成例1中，使用下述結(jié)構(gòu)式(3)表示的二異氰酸酯化合物取代4，4'-二苯基甲垸二異氰酸酯，除此之外，與合成例1同樣操作，合成聚氨酯樹脂(B)。該聚氨酯樹脂(B)的酸值為137mgKOH/g。[化5](合成例3)一具有羧基的聚氨酯樹脂的合成一在合成例1中，使用下述結(jié)構(gòu)式(4)表示的二異氰酸酯化合物取代4,4'-二苯基甲垸二異氰酸酯，除此之外，與合成例1同樣操作，合成聚氨酯樹脂(C)。該聚氨酯樹脂(C)的酸值為126mgKOH/g。(合成例4)一具有羧基的聚氨酯樹脂的合成一在合成例1中，使用下述結(jié)構(gòu)式(5)表示的二異氰酸酯化合物取代4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯，除此之外，與合成例1同樣操作，合成聚氨酯樹脂(D)。該聚氨酯樹脂(D)的酸值為172m沐OH/g。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage59</formula>結(jié)構(gòu)式(5)(合成例5)一具有羧基的聚氨酯樹脂的合成一在合成例1中，使用下述結(jié)構(gòu)式(6)表示的二異氰酸酯化合物取代4,4'-二苯基甲垸二異氰酸酯，除此之外，與合成例l同樣操作，合成聚氨酯樹脂(E)。該聚氨酯樹脂(E)的酸值為148mgKOH/g。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage59</formula>結(jié)構(gòu)式(6)(合成例6)一具有羧基的聚氨酯樹脂的合成一在合成例1中，使用下述結(jié)構(gòu)式(7)表示的二異氰酸酯化合物取代4，4'-二苯基甲烷二異氰酸酯，使用下述結(jié)構(gòu)式(8)表示的二醇化合物取代2，2-二(羥甲基)丙酸，除此之外，與合成例l同樣操作，合成聚氨酯樹脂(F)。該聚氨酯樹脂(F)的酸值為118mgKOH/g。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage60</formula>(合成例7)一具有羧基的聚氨酯樹脂的合成一在合成例1中，使用下述結(jié)構(gòu)式(9)表示的二異氰酸酯化合物取代4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯，使用下述結(jié)構(gòu)式(10)表示的二醇化合物取代2,2-二(羥甲基)丙酸，除此之外，與合成例1同樣操作，合成聚氨酯樹脂(G)。該聚氨酯樹脂(G)的酸值為130mgKOH/g。鏡設(shè)備(DMD)并用。在前述曝光工序中，也可以在惰性氣體環(huán)境下進行曝光。例如，將利用前述感光層形成工序形成的感光層進行曝光的方法，沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如有在前述感光層表面直接吹入惰性氣體的方法；將框架狀框架的一邊開放，至少在殘留的l邊形成有惰性氣體導(dǎo)入孔的試樣臺中的曝光空間，裝載形成有作為曝光對象的感光層的試樣，一邊從前述惰性氣體導(dǎo)入孔導(dǎo)入惰性氣體，用惰性氣體覆蓋感光層表面，一邊進行曝光的方法等。另外，也可以將前述曝光空間作為密封空間，在減壓下、在該密封空間內(nèi)導(dǎo)入惰性氣體。作為前述惰性氣體，只要可以防止氧阻礙前述感光層的聚合反應(yīng)，就沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如有氮氣、氦氣、氬氣等。下面，對適用于本發(fā)明的圖案形成方法的圖案形成裝置邊參照附圖邊進行說明。圖7是表示適用于本發(fā)明的圖案形成方法的圖案形成裝置的外觀的概略立體圖。含有前述光調(diào)制裝置的圖案形成裝置，如圖7所示，在被4根機架154支持的厚的板狀設(shè)置臺156的上面，備有將薄片狀的圖案形成材料150吸附在表面而保持的平板狀的載物臺152。載物臺152以其長度方向面向載物臺移動方向的方式配置，同時被在設(shè)置臺156的上面形成的導(dǎo)軌158可往復(fù)移動地支持著。需要說明的是，在前述圖案形成裝置中，具有用于沿導(dǎo)軌158傳動載物臺152的沒有圖示的傳動裝置。在設(shè)置臺156的中央部，設(shè)有向下C字狀的門160，以使其跨越載物臺152的移動路線。門160的端部分別固定在設(shè)置臺156的長度方向中央部中的兩側(cè)面。在該門160的一側(cè)設(shè)有掃描器162，在另一側(cè)設(shè)有檢測圖案形成材料150的前端及后端的多個(例如兩個)檢測傳感器164。掃描器162及檢測傳感器164分別安裝在門160上，固定配置在載物臺152的移動路線的上方。需要說明的是，掃描器162及檢測傳感器164連接在控制這些的沒有圖示的控制器上。(合成例9)一具有羧基的聚氨酯樹脂的合成一在合成例1中，使用下述結(jié)構(gòu)式(13)表示的二異氰酸酯化合物取代4，4'-二苯基甲烷二異氰酸酯，使用下述結(jié)構(gòu)式(14)表示的二醇化合物取代2,2-二(羥甲基)丙酸，除此之外，與合成例1同樣操作，合成聚氨酯樹脂(I)。該聚氨酯樹脂(I)的酸值為99m沐OH/g。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage62</formula>結(jié)構(gòu)式(13)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage62</formula>70mol%30膨|%(合成例10)一具有羧基的聚氨酯樹脂的合成一在合成例1中，使用下述結(jié)構(gòu)式(15)表示的二醇化合物取代2,2-二(羥甲基)丙酸，除此之外，與合成例1同樣操作，合成聚氨酯樹脂(J)。該聚氨酯樹脂(J)的酸值為88mgKOH/g。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage62</formula>結(jié)構(gòu)式(15)C00H60mol%40moI%結(jié)構(gòu)式(14)(合成例11)一具有羧基的聚氨酯樹脂的合成一在合成例1中，使用下述結(jié)構(gòu)式(16)表示的二醇化合物取代2,2-二(羥甲基)丙酸，除此之外，與合成例1同樣操作，合成聚氨酯樹脂(K)。該聚氨酯樹脂(K)的酸值為82mgKOH/g。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage63</formula>結(jié)構(gòu)式(16)40mol%(合成例12)一具有羧基的聚氨酯樹脂的合成一在合成例1中，使用下述結(jié)構(gòu)式(6)表示的二異氰酸酯化合物取代4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯，使用下述結(jié)構(gòu)式(17)表示的二醇化合物取代2,2-二(羥甲基)丙酸，除此之外，與合成例l同樣操作，合成聚氨酯樹脂(L)。該聚氨酯樹脂(L)的酸值為92mgKOH/g。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage63</formula>結(jié)構(gòu)式(6)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage63</formula>(合成例13)一具有羧基的聚氨酯樹脂的合成一在合成例1中，使用下述結(jié)構(gòu)式(6)表示的二異氰酸酯化合物取代4，4'-二苯基甲烷二異氰酸酯，使用下述結(jié)構(gòu)式(18)表示的二醇化合物取代2,2-二(羥甲基)丙酸，除此之外，與合成例1同樣操作，合成聚氨酯樹脂(M)。該聚氨酯樹脂(M)的酸值為87mgKOH/g。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage64</formula>結(jié)構(gòu)式(6)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage64</formula>結(jié)構(gòu)式(18)(比較合成例1)使環(huán)氧當(dāng)量為217、且一分子中平均具有7個苯酚核殘基還同時具有環(huán)氧基的甲酚酚醛清漆型環(huán)氧樹脂的1當(dāng)量和丙烯酸的1.05當(dāng)量反應(yīng)。在得到的反應(yīng)物中，使0.69當(dāng)量的四氫化鄰苯二甲酸酐以丙烯酸苯氧基乙酯為溶劑，利用常規(guī)方法進行反應(yīng)，制造含有35質(zhì)量％的丙烯酸苯氧基乙酯的粘稠的液體(環(huán)氧丙烯酸酯樹脂)。該環(huán)氧丙烯酸酯樹脂作為混合物，表示63.4mgKOH/g的酸值。(比較合成例2)在備有攪拌機、回流冷卻器、惰性氣體導(dǎo)入口及溫度計的燒瓶內(nèi)加入聚四亞甲基醚二醇(PTG、平均分子量1,000)1,000g、癸二酸405g，經(jīng)過2小時升溫至20(TC且使其反應(yīng)3小時后冷卻，合成酸值81.9、分子量1,370的聚四亞甲基醚二醇的兩末端羧酸物。然后，在備有攪拌機、回流冷卻器、惰性氣體導(dǎo)入口及溫度計的燒瓶內(nèi)加入Y-丁內(nèi)酯100g、N-甲基吡咯烷酮(NMP)50g。而且，將上述聚四亞甲基醚二醇的兩末端羧酸物55.6g、己二酸6.1g、癸二酸8.3g、異酞酸13.7g、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯(MDI)13.8g、甲苯二異氰酸酯(〕口氺一卜T80、日本求1J夕l/夕y工業(yè)社制造)14.4g，升溫至20(TC，恒溫4小時后，進行冷卻，合成加熱殘分為40質(zhì)量％、酸值(固體成分)為83.5的聚酰胺樹脂。而且，加入雙酚A型環(huán)氧樹脂工匕?！骋徊?001(油化^二少工求年、:y制造)141.5g，在14(TC下恒溫2小時后，加入二甲基甲酰胺(DMF)使其加熱殘分為40質(zhì)量％。在120'C下加入丙烯酸10.7g恒溫3小時后，添加四氫化鄰苯二甲酸酐(THPA)90.6g恒溫1小時。然后，加入縮水甘油58.4g恒溫2小時后，加入四氫化鄰苯二甲酸酐(THPA)240g恒溫2小時。然后，用二甲基甲酰胺(DMF)稀釋，合成加熱殘分為55質(zhì)量％、酸值(固體成分)為145mgKOH/g的感光性聚酰胺樹脂。(比較合成例3)在備有攪拌機、回流冷卻器及溫度計的燒瓶內(nèi)加入a,co-聚丁二烯二羧酸(NISSO-PBC-IOOO、日本曹達社制造)482.6質(zhì)量份、溴化雙酚A型環(huán)氧樹脂(YDB-400東都化成株式會社制造)400質(zhì)量份、乙酸卡必醇酯183質(zhì)量份及溶劑油(、乂》《、乂y150)110質(zhì)量份，在11CTC下加熱8小時。其中加入丙烯酸36.4質(zhì)量份、甲基氫醌0.5質(zhì)量份、乙酸卡必醇酯6質(zhì)量份，在7(TC下加入三苯基膦3質(zhì)量份、溶劑油6質(zhì)量份，加熱至10(TC，使其反應(yīng)至固體成分酸值為2KOHmg/g以下。然后，將得到的溶液冷卻至50。C，加入四氫化鄰苯二甲酸酐100質(zhì)量份，乙酸卡必醇酯126質(zhì)量份、溶劑油6質(zhì)量份，在8(TC下使其反應(yīng)規(guī)定時間，合成固體成分酸值為59KOHmg/g、固體成分為40質(zhì)量％的含不飽和基聚羧酸樹脂。在備有攪拌機、回流冷卻器、惰性氣體導(dǎo)入口及溫度計的燒瓶內(nèi)加入丫-丁內(nèi)酯100g、N-甲基吡咯烷酮(NMP)50g，而且，將上述含不飽和基聚羧酸樹脂74.6g、己二酸3.3g、癸二酸4.6g、異酞酸7.5g、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酉旨(MDI)4.8g、甲苯二異氰酸酯(3口氺一卜T80、日本求y夕k夕y工業(yè)社制造)13.4g，升溫至20(TC，且恒溫4小時后進行冷卻，得到加熱殘分為40質(zhì)量％、酸值(固體成分)為58.6的聚酰胺樹脂。然后，加入雙酚A型環(huán)氧樹脂(工求3、7夕R140、三井石油化學(xué)工業(yè)社制造)27.6g，在14(TC下恒溫2小時后，加入二甲基甲酰胺(DMF)使其加熱殘分為40質(zhì)量％。在120'C下加入甲基丙烯酸3.3g恒溫3小時后，添加四氫化鄰苯二甲酸酐(THPA)37.9g恒溫1小時。然后，用二甲基甲酰胺(DMF)稀釋，合成加熱殘分為55質(zhì)量％、酸值(固體成分)為74mgKOH/g的感光性聚酰胺、在備有攪拌機、回流冷卻器、惰性氣體導(dǎo)入口及溫度計的燒瓶內(nèi)加入甲酚酚醛清漆型環(huán)氧樹脂(環(huán)氧當(dāng)量200)200質(zhì)量份、丙烯酸20質(zhì)量份、甲基氫醌0.4質(zhì)量份、乙酸卡必醇酯80質(zhì)量份及溶劑油20質(zhì)量份，在70。C下進行加熱攪拌，溶解混合物。然后，將溶液冷卻至5(TC，加入三苯基膦0.5質(zhì)量份，加熱至IO(TC，且使其反應(yīng)至固體成分酸值為lKOHmg/g以下。加入溶劑油10質(zhì)量份，合成固體成分為67質(zhì)量％的含有丙烯酸酯基團和環(huán)氧基團的樹脂。(比較合成例4)首先，利用滴下聚合法合成由苯乙烯/丙烯酸正丁酯/馬來酸酐(摩爾比=41/24/35)構(gòu)成的共聚物。然后，將得到的共聚物103.71質(zhì)量份溶解于甲基乙基酮220質(zhì)量份。在該溶液中，在室溫下一邊進行攪拌，一邊在2小時內(nèi)滴入芐胺36.1質(zhì)量份及甲基乙基酮40質(zhì)量份的溶液，再在室溫下攪拌6小時，由此完成反應(yīng)，合成芐胺改性樹脂溶液(固體成分36.8質(zhì)量％)。得到的樹脂的酸值為酸值135KOHmg/g，重均分子量為30，000，固體成分濃度為36.8質(zhì)量％。(實施例1)一撓性印刷電路板的制作一將合成例1的聚氨酯樹脂(A)24.75質(zhì)量份、甲氧基丙醇13.36質(zhì)量份、2官能丙烯單體(R712、日本化藥社制造)3.06質(zhì)量份、二季戊四醇六丙烯酸酯4.59質(zhì)量份、二(2,4,6-三甲基苯酰基)-苯基膦化氧(于^7X、乂卞/P亍<^^:力小乂社制造)1.98質(zhì)量份、六甲氧基甲基三聚氰胺(MW30HM、三和^"$力》株式會社制造)5.00質(zhì)量份、酞菁綠分散液(濃度10質(zhì)量％甲氧基丙醇中)l.O質(zhì)量份及F780F(大日本O年化學(xué)工業(yè)株式會社制造)的30質(zhì)量％甲基乙基酮溶液0.066質(zhì)量份混合，制造感光性組合物。需要說明的是，將硫酸鋇(堺化學(xué)社制造、B30)30質(zhì)量份、上述苯乙烯/馬來酸酐/丁基丙烯酸丁酯共聚物的35質(zhì)量％甲基乙基酮溶液34.29質(zhì)量份和l-甲氧基-2-丙基乙酸酯35.71質(zhì)量份預(yù)混合后，用電動磨機M-200(了Y力'一社制造)、使用直徑1.0mm的氧化鋯珠，以周速9m/s分散3.5小時制造上述硫酸鋇分散液。然后，將得到的感光性組合物溶液利用棒涂法涂敷在2層型的撓性基板(銅厚35to/樹脂厚25tai)上，以使千燥膜厚為35to，在80。C的烘箱中干燥30分鐘，形成感光層。<曝光工序>相對于基板的感光層，使用下面說明的圖案形成裝置，照射波長405nm的激光進行曝光，以使得到15階段式楔圖案(AbgE二0.15)及所希望的電路圖案，使前述感光層的一部分區(qū)域固化。一圖案形成裝置一使用具有以下結(jié)構(gòu)的圖案形成裝置，該圖案形成裝置具有作為前述光照射裝置的圖2732所示的合波激光器光源、作為前述光調(diào)制裝置的DMD50、微透鏡陣列472、及光學(xué)系統(tǒng)480、482，其中，DMD50控制在圖4所示的主掃描方向排列有1024個微鏡的微鏡列，使其在副掃描方向排列好的768組前述光調(diào)制裝置內(nèi)僅傳動1024個x256歹U;微透鏡陣列472將圖13所示的一個面為托力克面的微透鏡排列成陣列狀；光學(xué)系統(tǒng)480、482將通過該微透鏡陣列的光成像于前述感光層。前述微透鏡如圖17及圖18所示，使用有托力克(toric)透鏡55a，與前述x方向光學(xué)對應(yīng)的方向的曲率半徑Rx=-0.125mm,與前述y方向?qū)?yīng)的方向的曲率半徑Ry=-0.1mm。另外，在微透鏡陣列55的聚光位置附近配置的小孔陣列59，是為了使在其各小孔59a上僅入射經(jīng)過與其相對應(yīng)的微透鏡55a的光而配置的。然后，使用1質(zhì)量％碳酸鈉水溶液進行噴射顯影(噴射壓力2.0kgf/cm2)60秒，除去未曝光部分。然后，使用循環(huán)式烘箱在160。C下進行l(wèi)小時加熱固化，制作撓性印刷電路板。(實施例2)一撓性印刷電路板的制作一在實施例1中，用合成例2的聚氨酯樹脂(B)取代合成例1的聚氨酯樹脂(A)，除此之外，與實施例1同樣操作，制作感光性組合物，形成感光層。然后，與實施例l同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(實施例3)一撓性印刷電路板的制作一在實施例1中，用合成例3的聚氨酯樹脂(C)取代合成例1的聚氨酯樹脂(A)，除此之外，與實施例1同樣操作，制作感光性組合物，形成感光層。然后，與實施例l同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(實施例4)一撓性印刷電路板的制作一在實施例1中，用合成例4的聚氨酯樹脂(D)取代合成例1的聚氨酯樹脂(A)，除此之外，與實施例1同樣操作，制作感光性組合物，形成感光層。然后，與實施例l同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(實施例5)一撓性印刷電路板的制作一在實施例1中，用合成例5的聚氨酯樹脂(E)取代合成例1的聚氨酯樹脂(A)，除此之外，與實施例1同樣操作，制作感光性組合物，形成感光層。然后，與實施例1同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(實施例6)一撓性印刷電路板的制作一在實施例1中，用合成例6的聚氨酯樹脂(F)取代合成例1的聚氨酯樹脂(A)，除此之外，與實施例1同樣操作，制作感光性組合物，形成感光層。然后，與實施例1同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(實施例7)一撓性印刷電路板的制作一在實施例1中，用合成例7的聚氨酯樹脂(G)取代合成例1的聚氨酯樹脂(A)，除此之外，與實施例1同樣操作，制作感光性組合物，形成感光層。然后，與實施例l同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(實施例8)一撓性印刷電路板的制作一在實施例1中，用合成例8的聚氨酯樹脂(H)取代合成例1的聚氨酯樹脂(A)，除此之外，與實施例1同樣操作，制作感光性組合物，形成感光層。然后，與實施例l同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(實施例9)一撓性印刷電路板的制作一在實施例1中，用合成例9的聚氨酯樹脂(I)取代合成例1的聚氨酯樹脂(A)，除此之外，與實施例1同樣操作，制作感光性組合物，形成感光層。然后，與實施例1同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(實施例10)一撓性印刷電路板的制作一在實施例1中，用合成例10的聚氨酯樹脂(J)取代合成例1的聚氨酯樹脂(A)，除此之外，與實施例1同樣操作，制作感光性組合物，形成感光層。然后，與實施例l同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(實施例11)一撓性印刷電路板的制作一在實施例1中，用合成例11的聚氨酯樹脂(K)取代合成例1的聚氨酯樹脂(A)，除此之外，與實施例1同樣操作，制作感光性組合物，形成感光層。然后，與實施例1同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(實施例12)一撓性印刷電路板的制作一在實施例1中，用合成例12的聚氨酯樹脂(L)取代合成例1的聚氨酯樹脂(A)，除此之外，與實施例1同樣操作，制作感光性組合物，形成感光層。然后，與實施例1同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(實施例13)一撓性印刷電路板的制作一在實施例1中，用合成例13的聚氨酯樹脂(M)取代合成例1的聚氨酯樹脂(A)，除此之外，與實施例1同樣操作，制作感光性組合物，形成感光層。然后，與實施例l同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(比較例1)—撓性印刷電路板的制作一將在比較合成例1中合成的環(huán)氧丙烯酸酯樹脂40質(zhì)量份、2-丙烯酸羥乙酯15質(zhì)量份、芐基二乙基縮酮2.5質(zhì)量份、l-芐基-2-甲基咪唑l.O質(zhì)量份、流平劑(千夕、、7口一、美國乇乂甘乂卜社制造)l.O質(zhì)量份、硫酸鋇26質(zhì)量份及酞菁綠0.5質(zhì)量份用三輥磨混合，制成油墨。然后，在得到的油墨中混合三羥甲基丙烷三縮水甘油醚15質(zhì)量份，制成感光性組合物。對得到的感光性組合物溶液與實施例1同樣操作，在撓性基板的全面利用絲網(wǎng)印刷法進行涂敷，在8(TC下干燥30分鐘，形成干燥膜厚35Pm的感光層。然后，與實施例l同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(比較例2)—撓性印刷電路板的制作一將在比較合成例2中合成的感光性聚酰胺樹脂91質(zhì)量份、季戊四醇六丙烯酸酯10質(zhì)量份、甲酚酚醛清漆樹脂丙烯酸加成物22質(zhì)量份、2-甲基小(4-(甲硫基)苯基)-2-嗎啉代丙烷-l-酮7質(zhì)量份、2，4-二乙基噻噸酮1質(zhì)量份、三聚氰胺2質(zhì)量份、酞菁綠1質(zhì)量份、滑石10質(zhì)量份、硫酸鋇43質(zhì)量份、氧化硅21質(zhì)量份、三縮水甘油三聚異氰酸酯40質(zhì)量份及乙酸卡必醇酯使用三輥磨進行混合，制成感光性組合物。將得到的感光性組合物溶液與實施例1同樣操作，在撓性基板的全面利用絲網(wǎng)印刷法進行涂敷，在8(TC下干燥30分鐘，形成干燥膜厚35Pm的感光層。然后，與實施例l同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(比較例3)一撓性印刷電路板的制作一將在比較合成例3中合成的含不飽和基聚羧酸樹脂25質(zhì)量份、在比較合成例3中合成的感光性聚酰胺樹脂IO質(zhì)量份、2-甲基-l[4-(甲硫基)苯基卜2-嗎啉代-丙烷-l-酮4.5質(zhì)量份、2,4-二乙基噻噸酮0.5質(zhì)量份、三聚氰胺4質(zhì)量份、酞菁綠1質(zhì)量份、硅石20質(zhì)量份、沉淀性硫酸鋇15質(zhì)量份、環(huán)氧樹脂(ESLV-80XY、新日鉄化學(xué)社制造)12質(zhì)量份、在比較合成例3中合成的含有丙烯酸酯基和環(huán)氧基的樹脂5質(zhì)量份及二季戊四醇六丙烯酸酯3質(zhì)量份使用三輥磨進行混合，制成感光性組合物。將得到的感光性組合物溶液與實施例1同樣操作，在撓性基板的全面利用絲網(wǎng)印刷法進行涂敷，在8(TC下干燥30分鐘，形成干燥膜厚35(im的感光層。然后，與實施例l同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。(比較例4)一撓性印刷電路板的制作一將在比較合成例4中合成的芐胺改性樹脂13.36質(zhì)量份、二季戊四醇六丙烯酸酯4.59質(zhì)量份、2官能丙烯單體(R712、日本化藥社制造)3.06質(zhì)量份、二(2,4,6-三甲基苯?；?-苯基膦化氧(于〃7^V亇小亍一，$力》X社制造)1.98質(zhì)量份、六甲氧基甲基三聚氰胺(MW30HM、三和亇$力》株式會社制造)2質(zhì)量份、F780F(大日本^fy年化學(xué)工業(yè)株式會社制造)的30質(zhì)量％甲基乙基酮溶液0.066質(zhì)量份、酞菁綠分散液(濃度10質(zhì)量％甲氧基丙醇中)l.O質(zhì)量份、氫醌一甲基醚0.024質(zhì)量份及硫酸鋇分散液24.75質(zhì)量份使用三輥磨進行混合，制成感光性組合物。將得到的感光性組合物溶液與實施例1同樣操作，在撓性基板的全面利用絲網(wǎng)印刷法進行涂敷，在8(TC下干燥30分鐘，形成干燥膜厚35pm的感光層。然后，與實施例1同樣操作，進行曝光、顯影，制作撓性印刷電路板。對得到的實施例113及比較例1~4的撓性印刷電路板，如下所述評價各種特性。將結(jié)果示于表3及表4。<顯影性的評價〉通過目測觀察，用下述標(biāo)準(zhǔn)評價得到的各撓性印刷電路板的顯影后的表面性狀。[評價標(biāo)準(zhǔn)]O:在非圖像部顯影后，完全除去了組合物。A:在非圖像部稍有殘渣。x:有不能顯影的殘渣。<密合性的評價>根據(jù)JISK5400，在各撓性印刷電路板上制作100處lmm寬的網(wǎng)眼，利用玻璃紙帶進行剝離試驗(網(wǎng)眼測試)，用下述標(biāo)準(zhǔn)進行評價。[評價標(biāo)準(zhǔn)]o:IOO處中90處以上沒有剝離。A:100處中50~90處沒有剝離。x:IOO處中050處沒有剝離。<焊錫耐熱性的評價>在各撓性印刷電路板上涂敷松香類焊劑，在26(TC的焊錫浴中浸漬10秒鐘。將該操作反復(fù)進行6次后，用下述標(biāo)準(zhǔn)評價撓性印刷電路板的外觀。[評價標(biāo)準(zhǔn)]o:外觀沒有剝離及膨脹，沒有焊錫褶皺。x:有剝離、膨脹或焊錫褶皺。〈耐加壓蒸煮測試(PCT一對各撓性印刷電路板，在12rC、2大氣壓的水蒸氣中放置96小時后，進行上述網(wǎng)眼測試，用下述標(biāo)準(zhǔn)進行評價。[評價標(biāo)準(zhǔn)]o:i00處中90處以上沒有剝離。A:100處中50~卯處沒有剝離。x:100處中050處沒有剝離。<耐折性>在由聚酰亞胺基板(厚度二25Mm)上的軋制銅箔(厚度二35pm)構(gòu)成的無粘接2層撓性基板上，用棒涂法或絲網(wǎng)印刷法涂敷實施例1~13及比較例14的各感光性組合物，形成感光層。然后，進行500mJ/cr^的曝光后，在160。C加熱2小時，形成固化被膜(厚度二35pm)，使用VCMFLEXTEESTER(IPC-FC241C,JIS-C5016)，在溫度=室溫、頻率二25Hz、沖程=25mm、曲率半徑二2mm的條件下，用彎曲至銅上出現(xiàn)裂縫的彎曲壽命(次)進行評價。<table>tableseeoriginaldocumentpage73</column></row><table>工業(yè)應(yīng)用的可能性本發(fā)明的感光性組合物，其顯影性、焊錫耐熱性、耐折性及耐濕性優(yōu)良，固化被膜的撓性大幅度提高，適用于具有可移動部的手機、各種車載機器等撓性印刷電路板的制作。權(quán)利要求1、一種感光性組合物，其特征在于，其至少含有(A)具有羧基的聚氨酯樹脂、(B)聚合性化合物、(C)光聚合引發(fā)劑及(D)熱交聯(lián)劑。2、如權(quán)利要求l所述的感光性組合物，其中，(A)具有羧基的聚氨酯樹脂是使下述結(jié)構(gòu)式(i)表示的二異氰酸酯化合物和下述結(jié)構(gòu)式(n)及下述結(jié)構(gòu)式(m)的任一種表示的二醇化合物反應(yīng)而形成的[化l]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage2</formula>其中，在前述結(jié)構(gòu)式(i)(m)中，R'表示二價烴基。w表示氫原子或一價烴基。RRS分別可以相同，也可以不同，表示二價烴基。Ar表示三價芳香族烴基。R'RS及Ar可以進一步用取代基取代，R2、R3、W及R5的相鄰的2個或3個連接可以形成環(huán)。3、如權(quán)利要求12中任一項所述的感光性組合物，其中，(A)具有羧基的聚氨酯樹脂的酸值為80300mgKOH/g。4、如權(quán)利要求13中任一項所述的感光性組合物，其中，(D)熱交聯(lián)劑是選自環(huán)氧樹脂化合物、氧雜環(huán)丁垸化合物、聚異氰酸酯化合物、在聚異氰酸酯化合物中使嵌段劑反應(yīng)得到的化合物及三聚氰胺衍生物的至少一種。5、如權(quán)利要求1~4中任一項所述的感光性組合物，其用于制造撓性印刷電路板。6、一種圖案形成方法，其特征在于，其將權(quán)利要求1~5中任一項所述的感光性組合物涂敷在基體材料的表面，且進行干燥形成感光層后，進行曝光、顯影。7、如權(quán)利要求6所述的圖案形成方法，其中，感光層通過具有n個接受來自光照射裝置的光并射出的素描部的光調(diào)制裝置，使來自前述光照射裝置的光調(diào)制后，用通過了排列有具有可以矯正由前述素描部中的射出面的偏斜引起的像差的非球面的微透鏡的微透鏡陣列的光進行曝光。8、如權(quán)利要求6所述的圖案形成方法，其中，感光層通過具有n個接受來自光照射裝置的光并射出的素描部的光調(diào)制裝置，使來自前述光照射裝置的光調(diào)制后，用通過了排列有具有不使來自前述素描部的周邊部的光入射的透鏡開口形狀的微透鏡的微透鏡陣列的光進行曝光。9、如權(quán)利要求8所述的圖案形成方法，其中，微透鏡具有可以矯正由素描部中的射出面的偏斜引起的像差的非球面。10、如權(quán)利要求79中任一項所述的圖案形成方法，其中，非球面是復(fù)曲面。11、如權(quán)利要求8所述的圖案形成方法，其中，微透鏡開口形狀為圓形。12、如權(quán)利要求811中任一項所述的圖案形成方法，其中，透鏡開口形狀通過在該透鏡面上設(shè)置遮光部來規(guī)定。13、如權(quán)利要求7，12中任一項所述的圖案形成方法，其中，光調(diào)制裝置可以根據(jù)圖案信息控制由n個素描部中連續(xù)配置的任意不足n個前述素描部。14、如權(quán)利要求713中任一項所述的圖案形成方法，其中，光調(diào)制裝置是空間光調(diào)制元件。15、如權(quán)利要求14所述的圖案形成方法，其中，空間光調(diào)制元件是數(shù)字微鏡設(shè)備(DMD)。16、如權(quán)利要求715中任一項所述的圖案形成方法，其中，光照射裝置具備多個激光器、多模式光纖和聚集光學(xué)系統(tǒng)，所述聚集光學(xué)系統(tǒng)將從該多種激光器分別照射的激光束聚光，使其結(jié)合在前述多模式光纖上。17、如權(quán)利要求16所述的圖案形成方法，其中，激光的波長是395~415腿。18、一種永久圖案，其特征在于，其利用權(quán)利要求6~17中任一項所述的圖案形成方法形成。全文摘要本發(fā)明的目的在于，提供一種感光性組合物及圖案形成方法及永久圖案，所述感光性組合物的顯影性、焊錫耐熱性、耐折性、耐加壓蒸煮性優(yōu)良，固化被膜的撓性大幅度提高，適用于撓性印刷電路板的制造。因此，所述感光性組合物至少含有(A)具有羧基的聚氨酯樹脂、(B)聚合性化合物、(C)光聚合引發(fā)劑及(D)熱交聯(lián)劑，該(A)具有羧基的聚氨酯樹脂優(yōu)選使下述結(jié)構(gòu)式(I)表示的二異氰酸酯化合物和下述結(jié)構(gòu)式(II)及下述結(jié)構(gòu)式(III)的任一個表示的二醇化合物反應(yīng)而成的形態(tài)。文檔編號G03F7/004GK101116035SQ20058002750公開日2008年1月30日申請日期2005年6月9日優(yōu)先權(quán)日2004年6月15日發(fā)明者巖崎政幸申請人:富士膠片株式會社