專利名稱:一種杯狀縱向磁場(chǎng)電極的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型屬于真空滅弧室技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種杯狀縱向磁場(chǎng)電極。
背景技術(shù):
真空滅弧室普遍采用杯狀縱向磁場(chǎng)電極結(jié)構(gòu),該電極采用螺旋槽的結(jié)構(gòu)來產(chǎn)生磁場(chǎng),用螺旋槽在電極杯子上形成若干等份的觸指。觸指根部與電極杯底部相連,觸指另一端與觸頭零件進(jìn)行釬焊焊接。螺旋槽的切入角和螺旋槽的旋轉(zhuǎn)角與縱向磁場(chǎng)密切相關(guān),為了產(chǎn)生較強(qiáng)的磁場(chǎng),人們希望更小的切入角,更大的旋轉(zhuǎn)角。但這樣會(huì)造成觸指在焊接前強(qiáng)度差,易變形,影響焊接。隨著真空滅弧室的不斷小型化,對(duì)電極提出了更高的要求。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種杯狀縱向磁場(chǎng)電極,在螺旋槽取得更小的切入角,更大的旋轉(zhuǎn)角的同時(shí),保證電極若干等份的觸指有足夠的強(qiáng)度。本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是,一種杯狀縱向磁場(chǎng)電極,電極的杯壁開有若干個(gè)螺旋槽,螺旋槽均布在杯壁上,螺旋槽與電極上端與觸頭的焊接面之間具有距離。本實(shí)用新型的有益效果是,由于螺旋槽沒有將與觸頭之間的焊接面切透,形成的觸指在上端與觸頭的焊接面相連,觸指不易變形。與普通的杯狀縱向磁場(chǎng)電極相比,這種電極的每個(gè)螺旋槽與水平面的夾角Θ可以進(jìn)一步減小,每個(gè)螺旋槽上下兩端點(diǎn)對(duì)應(yīng)在水平面的轉(zhuǎn)角α進(jìn)一步加大,同時(shí)控制d的尺寸,這樣,在產(chǎn)生相當(dāng)?shù)目v向磁場(chǎng)的同時(shí),電極直徑φ和高度h可以更小。即滿足了真空滅弧室小型化的需求,電極的磁場(chǎng)又更強(qiáng),而且提高了強(qiáng)度,不易變形。
圖1是本實(shí)用新型杯狀縱向磁場(chǎng)電極的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實(shí)用新型杯狀縱向磁場(chǎng)電極的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是圖1的俯視圖。圖中,1.電極,2.與觸頭的焊接面,3.螺旋槽。A1、B1、C1、D1、E1、F1為每個(gè)螺旋槽的上端點(diǎn),A2、B2、C2、D2、E2、F2為對(duì)應(yīng)的每
個(gè)螺旋槽的下端點(diǎn),每個(gè)螺旋槽的上端點(diǎn)距離與與觸頭的焊接面的距離為d,每個(gè)螺旋槽與水平面的夾角為Θ,每個(gè)螺旋槽上下兩端點(diǎn)對(duì)應(yīng)在水平面的轉(zhuǎn)角為α,電極的高度為h,電極直徑為Φ。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。本實(shí)用新型的杯狀縱向磁場(chǎng)電極的結(jié)構(gòu)如圖1-圖3所示,電極I為杯狀結(jié)構(gòu),電極I的杯壁開有η個(gè)螺旋槽3,螺旋槽3均布在杯壁上,螺旋槽3與電極I上端與觸頭的焊接面2之間具有距離d。即與普通杯狀縱向磁場(chǎng)電極不同的是,每個(gè)螺旋槽均沒有將與觸頭之間的焊接面2切透。由于螺旋槽3沒有將與觸頭之間的焊接面2切透,保留了一段距離為d,與普通的杯狀縱向磁場(chǎng)電極結(jié)構(gòu)相比,形成的觸指在上端與觸頭的焊接面2相連,這樣觸指不易變形,因此,與普通的杯狀縱向磁場(chǎng)電極相比,這種電極的每個(gè)螺旋槽與水平面的夾角Θ可以進(jìn)一步減小,每個(gè)螺旋槽上下兩端點(diǎn)對(duì)應(yīng)在水平面的轉(zhuǎn)角α進(jìn)一步加大,同時(shí)控制d的尺寸,這樣,在產(chǎn)生相當(dāng)?shù)目v向磁場(chǎng)的同時(shí),電極直徑φ和高度h可以更小。
權(quán)利要求1.一種杯狀縱向磁場(chǎng)電極,其特征在于,電極(I)的杯壁開有若干個(gè)螺旋槽(3),螺旋槽(3)均布在杯壁上,螺旋槽(3)與電極(I)上端與觸頭的焊接面(2)之間具有距離。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種杯狀縱向磁場(chǎng)電極,電極的杯壁開有若干個(gè)螺旋槽,螺旋槽均布在杯壁上,螺旋槽與電極上端與觸頭的焊接面之間具有距離。本實(shí)用新型的有益效果是,由于螺旋槽沒有將與觸頭之間的焊接面切透,形成的觸指在上端與觸頭的焊接面相連,觸指不易變形。與普通的杯狀縱向磁場(chǎng)電極相比,這種電極的每個(gè)螺旋槽與水平面的夾角θ可以進(jìn)一步減小,每個(gè)螺旋槽上下兩端點(diǎn)對(duì)應(yīng)在水平面的轉(zhuǎn)角α進(jìn)一步加大,同時(shí)控制d的尺寸,這樣,在產(chǎn)生相當(dāng)?shù)目v向磁場(chǎng)的同時(shí),電極直徑和高度h可以更小。既滿足了真空滅弧室小型化的需求,電極的磁場(chǎng)又更強(qiáng),而且提高了強(qiáng)度,不易變形。
文檔編號(hào)H01H33/664GK203013619SQ20122072973
公開日2013年6月19日 申請(qǐng)日期2012年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月26日
發(fā)明者王荃, 曹小軍 申請(qǐng)人:陜西寶光真空電器股份有限公司