專(zhuān)利名稱(chēng)：基質(zhì)盤(pán)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種根據(jù)權(quán)利要求1的前序部分所述的基質(zhì)盤(pán)以及一種根據(jù)權(quán)利要求9的前序部分所述的應(yīng)用。
背景技術(shù)：
為了對(duì)基質(zhì)進(jìn)行加工，尤其進(jìn)行涂漆和/或涂層，大多應(yīng)用具有旋轉(zhuǎn)盤(pán)和基質(zhì)盤(pán)的裝置。在旋轉(zhuǎn)盤(pán)之下布置有驅(qū)動(dòng)部，該驅(qū)動(dòng)部通過(guò)旋轉(zhuǎn)軸使旋轉(zhuǎn)盤(pán)以及基質(zhì)盤(pán)旋轉(zhuǎn)地運(yùn)動(dòng)。例如，文件EP I 743 220 BI公開(kāi)了這種裝置，然而在其中未公開(kāi)如何將基質(zhì)保持
在基質(zhì)盤(pán)上。已知的保持方法具有的缺點(diǎn)為，可損壞基質(zhì)的已經(jīng)涂漆的和/或涂層的表面。這對(duì)于應(yīng)兩側(cè)地涂漆和/或涂層的基質(zhì)是尤其不利的。此外不利的是，向下指向的還應(yīng)在稍后的工作過(guò)程中涂漆和/或涂層的基質(zhì)面可在對(duì)另一側(cè)涂漆和/或涂層時(shí)已經(jīng)受到濺射。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的為，提供一種基質(zhì)盤(pán)，其使上述缺點(diǎn)最小化或者甚至消除上述缺點(diǎn)，并且在此盡可能無(wú)問(wèn)題地得到待涂漆的基質(zhì)面的下側(cè)。該目的通過(guò)權(quán)利要求1所述的特征以及權(quán)利要求9所述的特征實(shí)現(xiàn)。在典型的實(shí)施例中，用于容納基質(zhì)的基質(zhì)盤(pán)在其表面處包括吸附點(diǎn)。由此得到的優(yōu)點(diǎn)為，基質(zhì)通過(guò)吸附點(diǎn)被吸住并且由此能夠可靠地保持在基質(zhì)盤(pán)上。在基質(zhì)盤(pán)旋轉(zhuǎn)、加速和制動(dòng)時(shí)也不存在基質(zhì)落下的風(fēng)險(xiǎn)。通過(guò)由吸附點(diǎn)施加保持力而得到的優(yōu)點(diǎn)為，至少使通過(guò)保持元件、夾具、夾子或類(lèi)似者引起的損壞風(fēng)險(xiǎn)最小化。在典型的實(shí)施例中，吸附點(diǎn)具有與基質(zhì)盤(pán)的表面的間距。由此得到的優(yōu)點(diǎn)為，基質(zhì)盤(pán)僅與吸附點(diǎn)接觸，由此僅產(chǎn)生少量的可導(dǎo)致?lián)p壞的接觸面。優(yōu)選地，吸附點(diǎn)與基質(zhì)盤(pán)的表面的間距為Imm至30臟，優(yōu)選為7mm。由此得到的優(yōu)點(diǎn)為，實(shí)現(xiàn)足夠的間距，但形成吸附點(diǎn)的小管還具有足夠的穩(wěn)定性。在典型的實(shí)施例中，基質(zhì)盤(pán)包括多個(gè)吸附點(diǎn)。由此得到的優(yōu)點(diǎn)為，基質(zhì)盤(pán)能可靠地被保持在平面中并且不可傾覆。此外有利的是，通過(guò)多個(gè)吸附點(diǎn)在每個(gè)吸附點(diǎn)處僅需要更小的保持力。因此在基質(zhì)盤(pán)或吸附點(diǎn)處僅施加小的負(fù)壓就足夠了。在典型的實(shí)施例中，基質(zhì)盤(pán)包括三個(gè)、四個(gè)或五個(gè)吸附點(diǎn)。這是尤其有利的，因?yàn)橛纱嘶|(zhì)盤(pán)可靠地被保持并且不會(huì)出現(xiàn)長(zhǎng)的管路。在典型的實(shí)施例中，吸附點(diǎn)通過(guò)通道與負(fù)壓源相連接。由此得到的優(yōu)點(diǎn)為，可將負(fù)壓施加到吸附點(diǎn)處，由此產(chǎn)生保持力。在典型的實(shí)施例中，通道布置在基質(zhì)盤(pán)中。優(yōu)選地，通道布置在基質(zhì)盤(pán)的板中。由此得到的優(yōu)點(diǎn)為，不必設(shè)置附加的管路或軟管。這是尤其有利的，因?yàn)榛|(zhì)盤(pán)以高速旋轉(zhuǎn)。在典型的實(shí)施例中，通道被銑入基質(zhì)盤(pán)的表面中或基質(zhì)盤(pán)的板中。由此得到的優(yōu)點(diǎn)為，可通過(guò)非常簡(jiǎn)單的方式制造該通道或多個(gè)通道。在典型的實(shí)施例中，分別將鎖緊件插入所應(yīng)用的凹處中，以用于鎖閉通道。以這種方式保持通道空著。這是尤其有利的，因?yàn)橛纱朔浅：?jiǎn)化了通道的制造，并且不需要鉆長(zhǎng)孔。在典型的實(shí)施例中，吸附點(diǎn)包括柔性的表面。由此得到的優(yōu)點(diǎn)為，吸附點(diǎn)在與基質(zhì)接觸的部位處不具有可能導(dǎo)致基質(zhì)損壞的硬棱邊。優(yōu)選地，吸附點(diǎn)包括形成柔性的表面的橡膠唇。對(duì)于在對(duì)基質(zhì)旋轉(zhuǎn)涂漆的裝置中應(yīng)用基質(zhì)盤(pán)，獨(dú)立地要求保護(hù)。由此得到的優(yōu)點(diǎn)為，基質(zhì)能可靠地保持在用于旋轉(zhuǎn)涂漆和/或涂層的裝置中。此外，通過(guò)形成吸附點(diǎn)以保護(hù)后側(cè)的方式保持基質(zhì)。在典型的實(shí)施例中，用于旋轉(zhuǎn)涂漆的裝置的內(nèi)部區(qū)域相對(duì)于大氣被封閉。由此得到的優(yōu)點(diǎn)為，在基質(zhì)和基質(zhì)盤(pán)之間形成一起旋轉(zhuǎn)的空氣柱，或強(qiáng)化該效應(yīng)。由此防止，漆或涂層介質(zhì)到達(dá)可能稍后才應(yīng)被涂漆和/或涂層的基質(zhì)的后側(cè)上。


下面根據(jù)附圖簡(jiǎn)要描述本發(fā)明，其中，在各附圖中示出:圖1顯示了帶有基質(zhì)的根據(jù)本發(fā)明的基質(zhì)盤(pán)的側(cè)視圖的示意性圖示；圖2顯示了根據(jù)本發(fā)明的基質(zhì)盤(pán)的俯視圖的示意性圖示。
具體實(shí)施例方式圖1顯示了帶有基質(zhì)2的根據(jù)本發(fā)明的基質(zhì)盤(pán)I。該基質(zhì)盤(pán)I包括板3、聯(lián)接部4和四個(gè)吸附點(diǎn)5、6、7和8。在該實(shí)施例中，基質(zhì)2和板3分別構(gòu)造成圓盤(pán)。在其它未示出的實(shí)施例中，使用矩形的、正方形的或三角形的形狀的板。原則上，所有板形狀適合用于所有基質(zhì)形狀。僅吸附點(diǎn)的布置方案是重要的。吸附點(diǎn)5、6、7和8中的每一個(gè)與板3的表面9具有間距A。由此得到的優(yōu)點(diǎn)為，基質(zhì)2與基質(zhì)盤(pán)I僅形成很少的支承點(diǎn)。由此減小了可導(dǎo)致表面或覆層損壞的接觸點(diǎn)的數(shù)量。吸附點(diǎn)5、6、7和8中的每一個(gè)通過(guò)通道10，11，12和13與未示出的壓縮空氣源相連接。該壓縮空氣源優(yōu)選地在聯(lián)接部4處與通道10，11，12和13相連接。吸附點(diǎn)5、6、7和8分別具有小管15。小管15的長(zhǎng)度確定吸附點(diǎn)5、6、7和8或基質(zhì)2與板3的表面9的間距A。小管15包括腳部16。小管15通過(guò)該腳部16分別固定在板3上。如可在圖2中看出的那樣，腳部16優(yōu)選地通過(guò)螺栓17被旋擰到板3上。吸附點(diǎn)5、6、7和8中的每一個(gè)具有柔性表面。在該實(shí)施例中，該柔性表面分別通過(guò)橡膠唇14形成。此外，該橡膠唇14延伸到小管15的上部棱邊上，從而孔18保持空著。優(yōu)選地，通道10、11、12和13從板3的表面9起被銑入板3中。如可在圖2中看出的，通道10、11、12和13分別通過(guò)鎖緊件19、20、21和22被鎖閉。由此得到的優(yōu)點(diǎn)為，能以簡(jiǎn)單的方式制造該通道。
本發(fā)明的工作原理如下:優(yōu)選地，基質(zhì)盤(pán)I被應(yīng)用在用于對(duì)基質(zhì)旋轉(zhuǎn)涂漆的裝置中。此外，基質(zhì)盤(pán)I聯(lián)接到負(fù)壓源上。之后，將基質(zhì)2放置到吸附點(diǎn)5、6、7和8上。通過(guò)施加的負(fù)壓，在旋轉(zhuǎn)時(shí)也可靠地保持基質(zhì)2。通過(guò)吸附點(diǎn)5、6、7和8的少的數(shù)量和小的尺寸防止，損壞可能已經(jīng)被涂層的后側(cè)23。這對(duì)于應(yīng)雙側(cè)地被涂層的基質(zhì)2是特別有利的。通過(guò)在相對(duì)于大氣封閉的用于涂漆的裝置中使用根據(jù)本發(fā)明的基質(zhì)盤(pán)I而得到的優(yōu)點(diǎn)為，在基質(zhì)2和板3之間的區(qū)域中產(chǎn)生一起旋轉(zhuǎn)的空氣柱。由此防止，漆或涂層材料滲入到在板3和基質(zhì)2之間的區(qū)域中。由此避免濺到基質(zhì)2的后側(cè)上。在對(duì)基質(zhì)2的上側(cè)涂漆和/或涂層之后切斷負(fù)壓源，從而可利用操作單元將基質(zhì)2從基質(zhì)盤(pán)I處取下。之后，使基質(zhì)2翻轉(zhuǎn)，使得在圖1中示出的后側(cè)23向上指向并且放置到吸附點(diǎn)5、6、7和8上?，F(xiàn)在，再次接通負(fù)壓源，由此再次將基質(zhì)2可靠地保持在吸附點(diǎn)5、6、7和8上。為了對(duì)現(xiàn)在位于上方的基質(zhì)I的后側(cè)23涂層和/或涂漆而使基質(zhì)盤(pán)I旋轉(zhuǎn)。如已經(jīng)描述的那樣，這對(duì)于現(xiàn)在位于下方的已經(jīng)被涂層的上側(cè)是非常安全的。一方面存在少量的可損壞覆層的接觸部位。另一方面，通過(guò)一起旋轉(zhuǎn)的空氣柱防止，在第二涂層和/或涂漆過(guò)程中飛濺物到達(dá)現(xiàn)在位于下方的、已經(jīng)被涂層的、指向板3的基質(zhì)的側(cè)。參考標(biāo)號(hào)列表I基質(zhì)盤(pán)2 基質(zhì)3 板4聯(lián)接部5吸附點(diǎn)6吸附點(diǎn)7吸附點(diǎn)8吸附點(diǎn)9 表面10 通道11 通道12 通道13 通道14橡膠唇15 小管16 腳部17 螺栓18 孔19鎖緊件20鎖緊件21鎖緊件
22鎖緊件23 后側(cè)
權(quán)利要求
1.一種在用于對(duì)基質(zhì)(2)涂漆的裝置中用于容納所述基質(zhì)(2)的基質(zhì)盤(pán)(1)，其特征在于，所述基質(zhì)盤(pán)(I)在表面處具有吸附點(diǎn)(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基質(zhì)盤(pán)，其特征在于，所述吸附點(diǎn)(5)與所述基質(zhì)盤(pán)(I)的表面具有間距(A)。
3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的基質(zhì)盤(pán)，其特征在于，所述基質(zhì)盤(pán)(I)包括多個(gè)吸附點(diǎn)(5，6，7，8)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基質(zhì)盤(pán)，其特征在于，所述基質(zhì)盤(pán)(I)包括四個(gè)吸附點(diǎn)(5，6，7，8)。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的基質(zhì)盤(pán)，其特征在于，所述吸附點(diǎn)(5，6，7，8)通過(guò)通道(10，11，12，13)與負(fù)壓源相連接。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的基質(zhì)盤(pán)，其特征在于，所述通道(10，11，12，13)布置在所述基質(zhì)盤(pán)(I)中。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的基質(zhì)盤(pán)，其特征在于，所述通道(10，11，12，13)被銑入所述基質(zhì)盤(pán)(I)的表面中并且通過(guò)鎖緊件(19，20，21，22)鎖閉。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的基質(zhì)盤(pán)，其特征在于，所述吸附點(diǎn)(5，6，7，8)包括柔性表面。
9.一種根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的基質(zhì)盤(pán)(I)在用于對(duì)基質(zhì)(2)旋轉(zhuǎn)涂漆的裝置中的應(yīng)用。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的應(yīng)用，其特征在于，所述用于旋轉(zhuǎn)涂漆的裝置的內(nèi)部區(qū)域相對(duì)于大氣被封閉。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種基質(zhì)盤(pán)。一種用于容納基質(zhì)(2)的基質(zhì)盤(pán)(1)，其應(yīng)在表面上具有吸附點(diǎn)(5)。
文檔編號(hào)H01L21/673GK103187344SQ20121053743
公開(kāi)日2013年7月3日 申請(qǐng)日期2012年12月12日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月3日
發(fā)明者普瑞米恩·馬夫勒 申請(qǐng)人:半太陽(yáng)能股份有限公司