專利名稱：近紅外吸收膜組合物的制作方法
近紅外吸收膜組合物相關申請交叉引用本申請要求2009 年 8 月 18 日提交，標題為 “NEAR-INFRARED ABSORBING FILMCOMPOSITIONS”，序列號為12/542，970的美國專利申請的利益，通過引用將其內(nèi)容全部結合到本文中。背景本發(fā)明一般性地涉及將集成半導體晶片圖案化中的Z調(diào)平校正方法。在半導體片生產(chǎn)期間集成硅晶片的校準和圖案化涉及在復雜下層形貌上的光敏層(光致抗蝕劑)的應用、感應和成像。這種填埋形貌通常由包含金屬、電介質(zhì)、絕緣體或陶瓷材料及其組合的多層堆棧組成，將其圖案化并提供給芯片垂直和平面功能性。在該多層堆棧上光致抗蝕劑圖案化需要晶片預校準和表面水平感應以適當?shù)販y定可光成像層上 的焦平面位置。為此，使用寬帶紅外光源和光傳感器組合以測定光致抗蝕劑表面的焦點位置。如果下層形貌由圖案化的反射結構組成，則來自這類填埋微結構的反射可引發(fā)錯誤的焦平面確定。此外，在下層含有圖案化金屬材料(例如金屬，如銅、鋁和鎢)的情況下，不想要的反射凹口或鏡面反射也可貢獻于不正確的高度水平確定。這類錯誤的焦點確定產(chǎn)生圖像模糊和差對比，這轉(zhuǎn)化成有缺陷的圖像印刷。提出的Z-調(diào)平校準方法包括使用高反射涂層，例如在下層形貌之上的金屬層或高度敏感性校準器件。在第一種情況下，金屬層顯示出在生產(chǎn)功能性三維結構時的集成問題，因此通常不是可行的解決方法。在第二種情況下，光學調(diào)平系統(tǒng)的基質(zhì)特異性校準例如用AGILE或離線校準方法(FEM+ “焦點制圖器”)進行；然而，該路線具有幾個缺點，包括通常太慢而不能在每個晶片上進行，且在分塊(晶片上和晶片至晶片)中，不能補償基質(zhì)變化。因此，本領域中需要通常簡單使用、精確、容易與微電子制造方法綜合，且不遭遇上述缺點的Z調(diào)平校準方法。概述本發(fā)明一般性地涉及具有部分或完全覆蓋近IR區(qū)中的焦點調(diào)平傳感器信號的吸收范圍的近紅外(NIR)吸收膜形式的平坦化層的用途，所述吸收膜含有一種或多種發(fā)色團(即染料)。當應用于多層堆棧上時，這種層通過通過吸收阻斷寬帶NIR輻射而作用，因此防止位于待通過焦點調(diào)平傳感器檢測的多層堆棧內(nèi)的任意深度的下層形貌特征。僅在頂部晶片表面上傳感容許光致抗蝕劑層在成像平面內(nèi)的精確布置。在第一方面中，本發(fā)明涉及一種可固化液體配制劑，其包含α) —種或多種近紅外吸收聚甲炔染料；(ii) 一種或多種可交聯(lián)聚合物；和(iii) 一種或多種澆鑄溶劑。toon] 在第二方面中，本發(fā)明涉及一種可固化液體配制劑，其包含α) —種或多種其上具有一個或多個交聯(lián)基團的近紅外吸收聚甲炔染料；和αυ —種或多種澆鑄溶劑。在第三方面中，本發(fā)明涉及一種為任何上述可固化液體配制劑的交聯(lián)形式的固體近紅外吸收膜。在一個實施方案中，近紅外吸收膜包含一種或多種近紅外吸收聚甲炔染料和一種或多種交聯(lián)聚合物。在另一實施方案中，近紅外吸收膜包含通過聚甲炔染料上的一個或多個交聯(lián)基團交聯(lián)的一種或多種近紅外吸收聚甲炔染料。在第四方面中，本發(fā)明涉及一種微電子結構，其包含(a)微電子基質(zhì)；(b)覆蓋微電子基質(zhì)的如上所述固體近紅外吸收膜；和(C)覆蓋近紅外吸收膜的光致抗蝕劑膜。在第五方面中，本發(fā)明涉及一種將涂覆在微電子基質(zhì)上的光致抗蝕劑層圖案化的方法。方法優(yōu)選包括(i)提供微電子基質(zhì)；(ii)形成覆蓋微電子基質(zhì)的如上所述固體近紅外吸收膜；(iii)在近紅外吸收層上形成光致抗蝕劑層；(iv)通過傳感由含有近紅外吸收層和光致抗蝕劑層的微電子基質(zhì)反射的近紅外發(fā)射而對準和聚焦光致抗蝕劑層的焦平面位置；和(V)將光致抗蝕劑層暴露于將光致抗蝕劑圖案化的暴露光束下。不同于目前已知的問題解決方法，本發(fā)明可獨立于機器型號和數(shù)而使用，顯示出很少的前期投資，它不是產(chǎn)量干擾者，需要低維護，且可具有二次度量應用(RIE控制、缺陷監(jiān)測等)。附圖
簡述圖I為顯示本發(fā)明近IR吸收層的光學性能的圖?！D2為顯示本發(fā)明近IR吸收層的透射率性能的圖。圖3為對于a)常規(guī)多層成像堆棧；b)包含NIR吸收下層的多層成像堆棧的情況，全芯片調(diào)平傳感器信號的對比。具體實施方案詳述如本文所用，術語“烴基”在第一實施方案中指僅由碳和氫組成的化學基團。在不同的實施方案中，一個或多個烴基可恰好含有或含有最小，或最大例如1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17或18個碳原子，或任何前述碳數(shù)之間的具體碳原子范圍。烴基可例如為飽和且直鏈的(即直鏈烷基)。直鏈烷基的一些實例包括甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正i^一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基和正十八烷基。作為選擇，烴基可以為飽和且支化的(支化烷基)。支化烷基的一些實例包括異丙基、異丁基、仲丁基、叔丁基、異戍基、新戍基、2_甲基戍基、3_甲基戍基，和眾多C7、C8、C9、C10> Cn、C12, C13、C14, C15, C16, C17 和 C18 飽和且支化烴基。作為選擇，烴基可以為飽和且環(huán)狀的(即環(huán)烷基)。環(huán)烷基的一些實例包括環(huán)丙基、環(huán)丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)庚基和環(huán)辛基。環(huán)烷基也可通過在兩個環(huán)基團之間具有鍵(例如二環(huán)己基)或分享(即稠合)邊(例如萘烷和降冰片烷)而為多環(huán)(例如二環(huán))基團。作為選擇，烴基可以為不飽和且直鏈的(即直鏈烯烴或鏈烯基)。直鏈烯烴基團的一些實例包括乙稀基、2_丙稀-I-基、3_ 丁稀-I-基、2_ 丁稀-I-基、丁二稀基、4_戍稀-I-基、3_戍稀-I-基、2_戍稀-I-基、2,4_戍二稀-I-基、5_己稀-I-基、4-己稀-I-基、3-己稀-I-基、3, 5-己二稀-I-基、1，3, 5-己二稀-I-基、6-庚稀-I-基、乙塊基、塊丙基(2-丙炔基)和眾多 C7、C8、C9、C10, Cn、C12、C13, C14, C15, C16, C17 和 C18 不飽和且直鏈烴基。作為選擇，烴基可以為不飽和且支化的(即支化烯烴或鏈烯基)。支化烯烴基團的一些實例包括2_丙稀-2-基、3- 丁稀-2-基、3- 丁稀-3-基、4-戍稀-2-基、4-戍稀-3-基、
3-戍稀-2-基、3_ 戍稀-3-基、2,4_ 戍二稀-3-基和眾多 C6、C7> C8> C9> C10> Cn、C12、C13、C14、C15、C16, C17和C18不飽和且支化烴基。
作為選擇，烴基可以為不飽和且環(huán)狀的(即環(huán)烯基或環(huán)亞烯基連接鍵)。不飽和且環(huán)狀烴基的一些實例包括環(huán)丙烯基、環(huán)丁烯基、環(huán)戊烯基、環(huán)戊二烯基、環(huán)己烯基、環(huán)己二烯基、苯基、芐基、環(huán)庚烯基、環(huán)庚二烯基、環(huán)辛烯基、環(huán)辛二烯基和環(huán)辛四烯基。不飽和環(huán)狀烴基也可通過在兩個環(huán)基團之間具有鍵(例如聯(lián)苯)或分享(即稠合)邊(例如萘、蒽和菲)而為多環(huán)(例如二環(huán)或三環(huán))基團。烴基還可包含一個或多個雜原子，例如一個或多個氧、氮、硫，或鹵原子。在不同的實施方案中，烴基可僅包含一個或多個氮原子且無其它雜原子，或僅一個或多個氧原子且無其它雜原子，或僅硫原子且無其它雜原子，或僅氮和氧且無硫，或僅氮和硫且無氧，或僅氧和硫且無氮。含氧基團的一些具體實例包括式-XR8那些，其中X為O或S，且R8為氫原子或如上所述或任選含有一個或多個選自氧、氮和硫原子的雜原子的烴基。其它含氧基團包括羰基(例如酮、醛、酯、酰胺或脲官能)。-XR8基團也可以為聚氧化烯基團，例如聚氧化乙烯基團。含氮基團的一些具體實例包括式-NR9Rltl那些，其中R9和Rltl各自獨立地為氫原子或任選含有一個或多個選自氧、氮和硫原子的雜原子的烴基。另外，含氮基團可以為伯胺基團、仲胺基團、叔胺基團或季胺基團。一些其它含氮基團可包括氰化物、酰胺(即-C(O)NR2，其中R選自氫原子和烴基)、硝基、脲基團和氨基甲酸酯基團，其中應當理解季胺基團必 須具有正電荷且需要抗衡陰離子。含硫基團的一些實例包括硫醚(即硫化物)、二硫化物、亞砜、砜、磺酸鹽和硫酸鹽基團。本文考慮的鹵原子包括氟、氯、溴和碘。含氟烴基(即氟碳基團)的一些實例包括部分取代的變體(例如氟甲基、二氟甲基、2-氟乙基、2，2_ 二氟乙基、2，2，2_三氟乙基等)和全氟取代的變體(例如全氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟丁基
坐^
寸/ ο烴基還可包括含有一個或多個(例如1、2、3或4個)環(huán)氮原子的環(huán)結構(例如單環(huán)或多環(huán)體系)。含氮環(huán)可例如為飽和單環(huán)、飽和多環(huán)、不飽和單環(huán)或不飽和多環(huán)。在一個實施方案中，含氮環(huán)基團或環(huán)體系還可包含其它環(huán)雜原子，例如氧或硫原子。在另一實施方案中，含氮環(huán)基團或環(huán)體系不包含其它環(huán)雜原子。飽和單環(huán)含氮環(huán)基團的一些實例包括吡咯烷、哌啶、哌嗪和嗎啉基團。不飽和單環(huán)含氮環(huán)基團的一些實例包括吡咯、咪唑、吡唑、批啶、吡嗪、1,3,5-三嗪、嘧啶、5惡唑、噻唑和噻嗪基團。飽和多環(huán)含氮環(huán)體系的一些實例包括十氫喹啉和十氫-1，8-萘啶基團。不飽和多環(huán)含氮環(huán)體系的一些實例包括吲哚、嘌呤、苯并咪唑、4，4'-聯(lián)吡啶、2，2'-聯(lián)吡啶、1，8-萘啶、喹啉、喹唑啉、吩嗪、苯并5惡唑、苯并噻唑、
2-苯基吡啶、2，6-二苯基吡啶和苯并噻嗪基團。烴基還可包括含有一個或多個(例如1、2、3或4個)環(huán)氧原子的環(huán)結構。含氧環(huán)可例如為飽和單環(huán)、飽和多環(huán)、不飽和單環(huán)或不飽和多環(huán)。在一個實施方案中，含氧環(huán)基團或環(huán)體系還可包含其它環(huán)雜原子如氮或硫原子。在另一實施方案中，含氧環(huán)基團或環(huán)體系不包含其它環(huán)雜原子。飽和單環(huán)含氧環(huán)基團的一些實例包括四氫呋喃、四氫吡喃、1，4_ 二氧雜環(huán)己烷、I，3-二氧雜環(huán)己烷、I，3-二氧戊環(huán)和I，4-氧硫雜環(huán)己烷基團。不飽和單環(huán)含氧環(huán)基團的一些實例包括呋喃、吡喃和1，4_ 二氧芑。飽和多環(huán)含氧環(huán)體系的實例包括八氫-I-苯并吡喃基團。不飽和多環(huán)含氧環(huán)體系的一些實例包括I-苯并吡喃(色烯)、2_苯并吡喃(異色烯)、2_苯基呋喃、2-苯基吡喃、香豆素和1，4_苯并吡喃酮(色酮)基團。烴基還可包括含有一個或多個(例如1、2、3或4個)環(huán)硫原子的環(huán)結構。含硫環(huán)可例如為飽和單環(huán)、飽和多環(huán)、不飽和單環(huán)或不飽和多環(huán)。在一個實施方案中，含硫環(huán)基團或環(huán)體系還可包含其它環(huán)雜原子如氮或氧原子。在另一實施方案中，含硫環(huán)基團或環(huán)體系不包含其它環(huán)雜原子。飽和單環(huán)含硫環(huán)基團的一些實例包括四氫硫代呋喃、四氫噻喃、1，
4-二噻烷、I，3-二噻烷、I，2-二硫戊環(huán)和I，4-二硫戊環(huán)基團。不飽和單環(huán)含硫環(huán)基團的一些實例包括噻吩、噻喃和1，4_ 二噻芑(dithiine)基團。飽和多環(huán)含硫環(huán)體系的實例包括八氫-I-苯并噻喃基團。不飽和多環(huán)含硫環(huán)體系的一些實例包括I-硫代苯并吡喃(硫色烯)、2_硫代苯并噻喃(異硫色烯)、2_苯基噻吩、2-苯基硫代呋喃、2，6- 二苯基噻喃和硫代香豆素基團。在一個方面中，本發(fā)明涉及一種可固化液體配制劑，其包含(i) 一種或多種近紅外(NIR)吸收聚甲炔染料(即“染料”)；(ii) 一種或多種可交聯(lián)聚合物；和(iii) 一種或多種澆鑄溶劑。在另一方面中，本發(fā)明涉及一種可固化液體配制劑，其包含(i) 一種或多種其上具有一個或多個交聯(lián)基團的近紅外吸收聚甲炔染料；和(ii) 一種或多種澆鑄溶劑。在染料分子包含一個或無可交聯(lián)基團的具體情況下，液體配制劑中包含一種或多種可交聯(lián)聚合物以使液體配制劑可固化是理想的。在染料分子包含至少兩個可交聯(lián)基團的具體情況下， 如果需要的話，可包含可交聯(lián)聚合物，但如果僅染料分子之間的交聯(lián)是想要的，則可省去。一種或多種染料可以為吸收電磁輻射的近紅外波長的任何聚甲炔染料。本文考慮的近紅外波長廣泛地包括500-5，OOOnm內(nèi)的任何波長。在不同的實施方案中，染料吸收由例如 400nm、450nm、500nm、550nm、600nm、650nm、700nm、750nm、800nm 或 850nm 的最小波長和例如 700nm、750nm、800nm、850nm、900nm、950nm、lOOOnm、1050nm、llOOnm、1150nm、1200nm、1250nm、1300nm、1400nm、1500nm、2000nm、2500nm、3000nm、3500nm、4000nm、4500nm和5000nm的最大波長限制的范圍內(nèi)的近紅外波長。前述最小和最大值的任何組合支配的任何范圍在本文中是適用的。此外，染料優(yōu)選為鈍態(tài)的，即不是光活性的。前述典型吸收范圍可通過使用單一染料，或作為選擇通過使用多于一種染料(例如2、3或4種染料)而實現(xiàn)。本文考慮的聚甲炔染料的子類為花青。花青可進一步分類為鏈花青(streptocyanine)(即開鏈花青)、半花青(半開鏈花青)和閉鏈花青。優(yōu)選，本文考慮的聚甲炔染料具有以下通式內(nèi)的式
R3R5
riMN^r6
R2R4(I)在以上式(I)的一個實施方案中，R1或R1和R2的環(huán)互連表示任何上述含氮、氧和/或硫的單環(huán)或多環(huán)體系。同樣，以獨立方式，R6或R5和R6的環(huán)互連表示任何上述含氮、氧和/或硫的單環(huán)或多環(huán)體系。當R1和/或R6表示含雜原子的單環(huán)或多環(huán)體系時，環(huán)或多環(huán)體系可通過任何它的碳原子或雜原子結合在指定烯鍵上，同時，R2和/或R5分別可以為任何上述烴基。另外，含雜原子單環(huán)或多環(huán)體系的一個或多個氮、氧或硫原子可以為中性或帶正電荷態(tài)，且如果為正態(tài)，則陰離子與聚甲炔染料聯(lián)合。在式(I)的另一實施方案中，R1或R1和R2的環(huán)互連表示用一個或多個無環(huán)氨基衍生的烴基。同樣，以獨立方式，R6或R5和R6的環(huán)互連表示用一個或多個無環(huán)氨基衍生的烴基。用一個或多個無環(huán)氨基衍生的烴基的一些實例包括苯胺、N-甲基苯胺、N-異丙基苯胺、N-苯基苯胺、N, N- 二甲基苯胺和苯二胺。在式(I)中，R3和R4 (以及R2和R5,當這些分別不與R3和R4互連時)各自獨立地選自(i)氫原子，或(ii)鹵原子，或(iii)氰化物基團，或(iv)羥基，或(V)含有至少I、2、3、4、5或6個碳原子的烴基,其中烴基如上所定義,其可任選包含一個或多個選自氮、氧、硫和鹵素的雜原子，或(vi)式-XR8基團，其中X為O或S且R8為任選含有一個或多個選自氧、氮和硫原子的雜原子的如上所定義的烴基，或(vii)式-NR9Rltl基團，其中R9和Rltl各自獨立地為氫原子或任選含有一個或多個選自氧、氮和硫原子的雜原子的如上所定義的烴基。另外，當&、&、1 4和R5中任意兩個為烴基時，它們可互連以形成5或6元環(huán)。例如，當例如R3和R4或R2和R4為乙基(或例如甲基和正丙基)時，R3和R4或R2和R4可一起表示通過R3和R4或R2和R4互連的六元碳環(huán)。式⑴中的下標η為至少I且通常至多16的值，其中η的值表示如所述連接的烯烴基團的相應數(shù)。在不同的實施方案中，η可優(yōu)選為至少1、2、3、4、5或6且至多7、8、9、10、 11、12、13、14、15或16的值，或由前述優(yōu)選最小和最大值支配的任何具體范圍。在式(I)中，當η為大于I的值時，&和1 4在不同的烯烴單元中是獨立的，即在不同的烯烴單元之間它們可以為相同或不同的。此外，當η為大于I的值時，所得在相鄰烯鍵上的多個基團R3和R4 (在本文中便利地稱為R3和IV或&和1 /對，其中應當理解R3和IV被帶有基團R4的碳原子隔開)可彼此之間互連以形成單環(huán)或多環(huán)體系。因此，式(I)包括通過互連R3和R4或互連R3和IV或互連R4和R/建立的多于一個環(huán)或環(huán)體系(例如2、3或4)的可能。此外，環(huán)或環(huán)體系可以是相鄰(即占據(jù)相鄰的烯烴基團)、稠合(例如R3和R3'互連與&和1 4'互連組合)或被1、2、3或更多非環(huán)烯烴基團分隔。在式(I)的具體實施方案中，染料含有鏈間環(huán)，同時式(I)的其余范圍不變。這類
染料便利地由下式表示
權利要求
1.ー種可固化液體配制劑，其包含 (i)一種或多種近紅外吸收聚甲炔染料； (ii)一種或多種可交聯(lián)聚合物；和 (iii)一種或多種澆鑄溶剤。
2.根據(jù)權利要求I的液體配制劑，其進ー步包含產(chǎn)酸劑。
3.根據(jù)權利要求I的液體配制劑，其進ー步包含一種或多種共聚體交聯(lián)劑。
4.根據(jù)權利要求I的液體配制劑，其進ー步包含ー種或多種表面活性剤。
5.根據(jù)權利要求I的液體配制劑，其中所述ー種或多種聚甲炔染料吸收500-1200nm波長范圍內(nèi)的電磁輻射。
6.根據(jù)權利要求I的液體配制劑，其中所述ー種或多種可交聯(lián)聚合物包含環(huán)氧基團。
7.根據(jù)權利要求I的液體配制劑，其中所述ー種或多種可交聯(lián)聚合物包含芳族基團。
8.根據(jù)權利要求I的液體配制劑，其中所述ー種或多種可交聯(lián)聚合物包含多環(huán)基團。
9.根據(jù)權利要求I的液體配制劑，其中所述ー種或多種聚甲炔染料具有以下通式內(nèi)的式
10.根據(jù)權利要求9的液體配制劑，其中所述ー種或多種聚甲炔染料具有以下通式內(nèi)的式
11.根據(jù)權利要求9的液體配制劑，其中所述ー種或多種聚甲炔染料具有以下通式內(nèi)的式
12.根據(jù)權利要求9的液體配制劑，其中所述ー種或多種聚甲炔染料具有以下通式內(nèi)的式
13.—種微電子結構(圖3b)，其包含 (a)微電子基質(zhì)； (b)覆蓋微電子基質(zhì)的固體近紅外吸收膜，其中近紅外吸收膜包含一種或多種近紅外吸收聚甲炔染料和一種或多種交聯(lián)聚合物；和 (C)覆蓋近紅外吸收膜的光致抗蝕劑膜。
14.根據(jù)權利要求13的微電子結構，其中所述ー種或多種聚甲炔染料吸收500-1200nm波長范圍內(nèi)的電磁輻射。
15.根據(jù)權利要求13的微電子結構，其中所述近紅外吸收膜為抗反射層。
16.根據(jù)權利要求15的微電子結構，其中所述抗反射層為底部抗反射層。
17.根據(jù)權利要求15的微電子結構，其中所述抗反射層為下層。
18.—種將涂覆在微電子基質(zhì)上的光致抗蝕劑層圖案化的方法，其包括 (i)提供微電子基質(zhì)； (ii)形成覆蓋微電子基質(zhì)的固體近紅外吸收膜，其中近紅外吸收膜包含ー種或多種近紅外吸收聚甲炔染料和一種或多種交聯(lián)聚合物； (iii)在近紅外吸收層上形成光致抗蝕劑層； (iv)通過傳感由含有近紅外吸收層和光致抗蝕劑層的微電子基質(zhì)反射的近紅外發(fā)射而對準和聚焦光致抗蝕劑層的焦平面位置；和 (v)將光致抗蝕劑層暴露于將光致抗蝕劑圖案化的暴露光束下。
19.根據(jù)權利要求18的方法，其進ー步包括將光致抗蝕劑層顯影。
20.根據(jù)權利要求18的方法，其中所述近紅外吸收膜進一歩包含一種或多種共聚體交聯(lián)劑。
21.根據(jù)權利要求18的方法，其中所述ー種或多種聚甲炔染料吸收500-1200nm波長范圍內(nèi)的電磁輻射。
22.—種可固化液體配制劑，其包含 (i)一種或多種其上具有ー個或多個交聯(lián)基團的近紅外吸收聚甲炔染料；和 (ii)一種或多種澆鑄溶剤。
23.一種微電子結構(圖3b)，其包含 (a)微電子基質(zhì)； (b)覆蓋微電子基質(zhì)的固體近紅外吸收膜，其中近紅外吸收膜包含一種或多種其上具有交聯(lián)基團的近紅外吸收聚甲炔染料，所述交聯(lián)基團在染料分子之間交聯(lián)；和 (C)覆蓋近紅外吸收膜的光致抗蝕劑膜。
全文摘要
一種可固化液體配制劑，其包含(i)一種或多種近紅外吸收聚甲炔染料；(ii)一種或多種可交聯(lián)聚合物；和(iii)一種或多種澆鑄溶劑。本發(fā)明還涉及由交聯(lián)形式的可固化液體配制劑組成的固體近紅外吸收膜。本發(fā)明還涉及一種含有固體近紅外吸收膜的涂層的微電子基質(zhì)以及在近紅外吸收膜在微電子基質(zhì)與光致抗蝕劑膜之間的情況下將涂覆在微電子基質(zhì)上的光致抗蝕劑層圖案化的方法。
文檔編號H01L21/02GK102695762SQ201080036605
公開日2012年9月26日 申請日期2010年8月6日 優(yōu)先權日2009年8月18日
發(fā)明者D·L·戈德法布, L·維克利奇, M·格羅德, S·劉, W·S·黃, W·李 申請人:國際商業(yè)機器公司