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真空加熱除氣處理裝置的制作方法

文檔序號(hào):6982299閱讀:514來源:國(guó)知局
專利名稱:真空加熱除氣處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種除氣處理裝置,尤其涉及一種對(duì)有機(jī)發(fā)光顯示器件的后蓋在 封裝前進(jìn)行加熱除氣的真空加熱除氣處理裝置。
背景技術(shù)
OLED顯示器即利用有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode)作為一種 新型的平板顯示技術(shù)已經(jīng)逐漸被廣大生產(chǎn)廠商所認(rèn)可。但是,OLED技術(shù)發(fā)展至今可以說還 不十分成熟,其顯示器件尚存在一些缺點(diǎn),目前最突出的缺陷是其使用壽命較短,器件的壽 命問題在很大程度上限制了 OLED顯示器產(chǎn)業(yè)化的進(jìn)程。OLED顯示器的壽命一方面取決于 所選用的有機(jī)材料的性能及壽命,另一方面還取決于器件的封裝方法、封裝設(shè)備及應(yīng)用效 果等?,F(xiàn)今的封裝方法一般是使用封裝材料即膠水將前后玻璃基板在真空環(huán)境中密封起 來,因?yàn)镺LED顯示器內(nèi)的有機(jī)材料的不穩(wěn)定,如果OLED顯示器封裝不好,隨著OLED顯示器 的有機(jī)發(fā)光面板使用時(shí)間的增加,空氣中和封裝材料中的濕氣、水分及氧氣等進(jìn)入OLED顯 示器內(nèi)部的機(jī)會(huì)也隨著提升。有機(jī)材料就會(huì)與真空腔內(nèi)的水蒸汽、氧氣等氣體發(fā)生反應(yīng), 很容易就會(huì)導(dǎo)致發(fā)光層與電極層分離、有機(jī)材料分解、電極氧化等一系列問題,這無形中提 高了不發(fā)光區(qū)域的生成機(jī)會(huì),降低發(fā)光層的亮度和均勻性,也降低了 OLED顯示器的使用壽 命。目前最為關(guān)鍵的就是對(duì)器件進(jìn)行合理有效的封裝,這對(duì)器件的封裝裝置、方法及 封裝工藝提出了極高的要求。為適應(yīng)這種要求,避免濕氣、水分及氧氣進(jìn)入到OLED顯示器 內(nèi)部,最有效的方法就是在OLED顯示器封裝之前,就將封裝材料中的濕氣、水分及氧氣等 排除然后再進(jìn)行封裝。然而傳統(tǒng)的用于排除濕氣、水分及氧氣等不利影響因素的封裝OLED 顯示器的方法和設(shè)備不太適宜大規(guī)模的生產(chǎn)線,有時(shí)還不能有效地將封裝材料中的不利氣 體排除。因此,需要一種對(duì)有機(jī)發(fā)光顯示器件的后蓋在封裝前進(jìn)行加熱除氣,防止封裝后 封裝材料中的濕氣、水分及氧氣等進(jìn)入顯示器件內(nèi)部與有機(jī)材料發(fā)生反應(yīng)而降低顯示器件 的使用壽命的真空加熱除氣處理裝置。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種對(duì)有機(jī)發(fā)光顯示器件的后蓋在封裝前進(jìn)行加熱 除氣,防止封裝后封裝材料中的濕氣、水分及氧氣等進(jìn)入顯示器件內(nèi)部與有機(jī)材料發(fā)生反 應(yīng)而降低顯示器件的使用壽命的真空加熱除氣處理裝置。為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供一種真空加熱除氣處理裝置,適用于對(duì)有機(jī) 發(fā)光顯示器的后蓋在封裝前進(jìn)行加熱除氣,包括機(jī)架、真空腔體、加熱板、升降組件、水平輸 送組件、真空抽氣系統(tǒng)及控制系統(tǒng),所述真空腔體固定于所述機(jī)架上,所述真空腔體的兩端 分別設(shè)置有入口及出口,所述入口及出口處均設(shè)置有密封隔離閥,所述密封隔離閥打開或 關(guān)閉所述入口及出口,所述水平輸送組件橫貫設(shè)置于所述真空腔體內(nèi)部且兩端分別與所述入口及出口對(duì)接形成供后蓋傳輸?shù)暮笊w傳輸通道,所述升降組件安裝于所述真空腔體外的 下方,所述升降組件具有若干支撐柱及驅(qū)動(dòng)所述支撐柱作直線往復(fù)運(yùn)動(dòng)的氣缸馬達(dá),所述 支撐柱呈密封地伸入所述真空腔體內(nèi)并在氣缸馬達(dá)的作用下可自由地在所述真空腔體內(nèi) 作直線往復(fù)的升降運(yùn)動(dòng),伸入所述真空腔體內(nèi)的支撐柱的自由端形成支撐面,所述加熱板 安裝于所述真空腔體內(nèi)部并處于所述支撐柱的自由端形成的支撐面的正上方,所述真空抽 氣系統(tǒng)與所述真空腔體連通,所述加熱板、升降組件、水平輸送組件及真空抽氣系統(tǒng)均與所 述控制系統(tǒng)電連接。較佳地,所述真空加熱除氣處理裝置還包括冷卻裝置,所述冷卻裝置安裝于所述 真空腔體內(nèi)部。具體地,所述冷卻裝置為冷卻板,所述冷卻板安裝于所述真空腔體內(nèi)部并處 于所述加熱板的正上方,所述冷卻板內(nèi)部安裝有冷卻水管,所述冷卻水管內(nèi)注滿可流動(dòng)的 冷卻液。由于加熱板的輻射,造成整個(gè)腔體溫度都會(huì)升高,但是有效的溫度利用只是靠近工 件的那一面,其他地方均為無效升溫,因此,使用所述冷卻板冷卻能有效降低所述真空腔體 內(nèi)的溫度,使所述真空腔體在正常的溫度下工作。較佳地,所述升降組件還包括支撐板及若干波紋管,所述氣缸馬達(dá)的活塞桿與所 述支撐板固定,所述支撐柱固定于所述支撐板上,所述波紋管套接于的所述支撐柱上且一 端密封地固定于的所述真空腔體底部,另一端密封地固定于所述支撐板上。通過所述氣缸 馬達(dá)推動(dòng)所述支撐板上的支撐柱,使所述支撐柱推動(dòng)后蓋上升,從而使后蓋離所述加熱板 更近,更有效地吸收所述加熱板的熱量,使溫度迅速升高,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作靈活,所述波紋管 更能對(duì)所述支撐柱及真空腔體之間的連接處進(jìn)行密封,防止大氣進(jìn)入所述真空腔體內(nèi)。具體地,所述升降組件還包括導(dǎo)向組件,所述導(dǎo)向組件包括導(dǎo)向桿,導(dǎo)向套及固定 板,所述固定板固定于氣缸馬達(dá)上,所述導(dǎo)向套穿過并固定于所述支撐板上,所述導(dǎo)向桿可 滑動(dòng)地套接于所述導(dǎo)向套內(nèi),一端與固定于所述真空腔體底部,另一端固定于所述固定板 上。所述導(dǎo)向組件使所述支撐柱能沿所設(shè)定的方向準(zhǔn)確動(dòng)動(dòng),起導(dǎo)向作用。較佳地,所述水平輸送組件包括驅(qū)動(dòng)組件、底座及若干輸送滾輪,所述驅(qū)動(dòng)組件安 裝于所述底座上,所述輸送滾輪水平樞接于所述底座上。所述驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)所述輸送滾輪 后能將所述后蓋輸送到所述升降組件上,為上升靠近到所述加熱板作好定位準(zhǔn)備。與現(xiàn)有技術(shù)相比,由于本實(shí)用新型通過將封裝前的所述后蓋輸送到所述真空腔體 內(nèi),利用所述升降組件使所述后蓋靠近所述加熱板,進(jìn)而對(duì)所述后蓋上的封裝材料進(jìn)行加 熱,使其內(nèi)部的濕氣、水分及氧氣等雜質(zhì)排出,再利用真空抽空系統(tǒng)將其抽出,在加熱除氣 后再進(jìn)行封裝,從而防止封裝后封裝材料中的濕氣、水分及氧氣等進(jìn)入顯示器件內(nèi)部與有 機(jī)材料發(fā)生反應(yīng),整個(gè)設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作方便,有效提高了封裝后有機(jī)顯示器件內(nèi)的有機(jī) 材料的壽命,從而提高了顯示器件的使用壽命。

圖1是本實(shí)用新型真空加熱除氣處理裝置的分解示意圖。圖2是本實(shí)用新型真空加熱除氣處理裝置的剖視圖圖。圖3是本實(shí)用新型真空加熱除氣處理裝置中升降組件的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4是本實(shí)用新型真空加熱除氣處理裝置的工作狀態(tài)示意圖具體實(shí)施方式
如圖1、圖2所示,本實(shí)用新型真空加熱除氣處理裝置100,包括機(jī)架1、真空腔體 2、加熱板3、冷卻板4、密封隔離閥5、升降組件6、水平輸送組件7、真空抽氣系統(tǒng)8及控制 系統(tǒng)(圖中未示)。所述真空腔體2固定于所述機(jī)架1上,所述真空腔體2兩側(cè)分別開設(shè) 有入口 21及出口 22,所述升降組件6安裝于所述真空腔體2的下方,所述升降組件6具有 若干支撐柱63,所述支撐柱63密封地伸入所述真空腔體2內(nèi)并可自由地在所述真空腔體2 內(nèi)直線升降并在自由端形成支撐面,所述加熱3板安裝于所述真空腔體2內(nèi)部并處于所述 支撐柱63的自由端形成的支撐面的上方,所述冷卻板4安裝于所述真空腔體2內(nèi)部并處于 所述加熱板3的上方,所述冷卻板4內(nèi)部安裝有冷卻水管41,所述冷卻水管41內(nèi)注滿可流 動(dòng)的冷卻液,加熱板3的加熱利用的只是靠近工件的那一面,其他地方均為無效升溫,使用 所述冷卻板4冷卻能有效降低所述真空腔體2內(nèi)的溫度,使所述真空腔體2在正常的溫度 下工作。所述水平輸送組件7橫貫設(shè)置于所述真空腔體2內(nèi)部且兩端分別與所述入口 21 及出口 22對(duì)接形成供后蓋200傳輸?shù)暮笊w傳輸通道7a。所述真空抽氣系統(tǒng)8與所述真空 腔體2連通。所述密封隔離閥5分別安裝于所述入口 21及出口 22上,能打開或關(guān)閉所述 入口 21及出口 22。所述加熱板3、密封隔離閥5、升降組件6、水平輸送組件7及真空抽氣 系統(tǒng)8均與所述控制系統(tǒng)電連接,所述控制系統(tǒng)控制所述加熱板3、密封隔離閥5、升降組件 6、水平輸送組件7及真空抽氣系統(tǒng)8的工作狀態(tài)。如圖3所示,所述升降組件6包括氣缸馬達(dá)61、支撐板62、若干支撐柱63、導(dǎo)向組 件64及波紋管65,所述氣缸馬達(dá)61的活塞桿61a與所述支撐板62固定,所述支撐柱63固 定于所述支撐板62上,所述波紋管65套接于的所述支撐柱63上且一端密封地固定于的所 述真空腔體2底部,另一端密封地固定于所述支撐板62上。所述導(dǎo)向組件64包括導(dǎo)向桿 64a,導(dǎo)向套64b及固定板64c,所述固定板64c固定于氣缸馬達(dá)61上,所述導(dǎo)向套64b穿 過并固定于所述支撐板62上,所述導(dǎo)向桿6 可滑動(dòng)地套接于所述導(dǎo)向套64b內(nèi),一端與 固定于所述真空腔體2底部,另一端固定于所述固定板6 上,所述導(dǎo)向組件64使所述支 撐柱63能沿所設(shè)定的方向準(zhǔn)確移動(dòng),起導(dǎo)向作用。通過所述氣缸馬達(dá)61推動(dòng)所述支撐板 62上的支撐柱63,使所述支撐柱63推動(dòng)后蓋200上升,從而使后蓋200離所述加熱板3更 近,更有效地吸收所述加熱板3的熱量,使溫度迅速升高,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作靈活,所述波紋管 65更能對(duì)所述支撐柱63及真空腔體2之間的連接處進(jìn)行密封,防止大氣進(jìn)入所述真空腔體 2內(nèi)。所述水平輸送組件7包括驅(qū)動(dòng)組件71、底座72及若干輸送滾輪73,所述驅(qū)動(dòng)組件 71安裝于所述底座72上,所述輸送滾輪73水平樞接于所述底座72上。所述驅(qū)動(dòng)組件71 驅(qū)動(dòng)所述輸送滾輪73后能將所述后蓋200輸送到所述升降組件6上,為上升靠近到所述加 熱板3作好定位準(zhǔn)備。綜合上述并結(jié)合圖4,下面對(duì)本實(shí)用新型真空加熱除氣處理裝置100的工作原理 進(jìn)行詳細(xì)說明,如下工作時(shí),本實(shí)用新型真空加熱除氣處理裝置100的出口 22與真空封裝生產(chǎn)線的開 始端連接,封裝前,將所述后蓋200輸送到所述真空腔體2的入口 21 —端,所述控制系統(tǒng)控 制所述密封隔離閥5打開及控制所述水平輸送組件7啟動(dòng),所述后蓋200進(jìn)入所述真空腔 體2后在所述水平輸送組件7上的輸送滾輪73的帶動(dòng)下移動(dòng)到所述加熱板3及所述支撐柱63之間后停止,所述密封隔離閥5關(guān)閉,將所述真空腔體2封閉,然后控制系統(tǒng)啟動(dòng)所述 升降組件6,所述升降組件6的氣缸馬達(dá)61活塞桿61a推動(dòng)所述支撐板62沿所述導(dǎo)向桿 64a方向上升,進(jìn)而使所述支撐柱63推動(dòng)所述后蓋200上升并慢慢靠近所述加熱板3,加熱 板3啟動(dòng)升溫,加熱后蓋200上的封裝材料201使封裝材料201的濕氣、水分及氧氣排出到 所述真空腔體2內(nèi),同時(shí),啟動(dòng)所述真空抽氣系統(tǒng)8,將所述真空腔體2內(nèi)的氣體抽出。除氣 完成后,所述升降組件6的支撐柱63下降將所述后蓋200放置于所述后蓋傳輸通道7a上, 所述控制系統(tǒng)控制所述水平輸送組件7啟動(dòng)并控制所述密封隔離閥5打開所述出口 22,最 后將所述后蓋200從所述真空腔體2內(nèi)輸送到真空生產(chǎn)線內(nèi)。由于本實(shí)用新型通過將封裝前的所述后蓋200輸送到所述真空腔體2內(nèi),利用所 述升降組件6使所述后蓋200靠近所述加熱板3,進(jìn)而對(duì)所述后蓋200上的封裝材料201 進(jìn)行加熱,使其內(nèi)部的濕氣、水分及氧氣等雜質(zhì)排出,再利用真空抽氣系統(tǒng)8將其抽出,在 加熱除氣后再進(jìn)行封裝,從而防止封裝后封裝材料201中的濕氣、水分及氧氣等進(jìn)入顯示 器件內(nèi)部與有機(jī)材料發(fā)生反應(yīng),整個(gè)設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作方便,有效提高了封裝后有機(jī)顯示 器件內(nèi)的有機(jī)材料的壽命,從而提高了顯示器件的使用壽命,另,由于本實(shí)用新型是在后蓋 200進(jìn)入真空封裝生產(chǎn)線前對(duì)后蓋200進(jìn)行處理,其內(nèi)部也處于真空狀態(tài),可在處理完后直 接將后蓋200送入生產(chǎn)線,因此,本實(shí)用新型真空加熱除氣處理裝置100在外界與真空封裝 生產(chǎn)線之間起到緩沖作用,將后蓋200送入生產(chǎn)線時(shí)無需破壞生產(chǎn)線的真空狀態(tài)。本實(shí)用新型真空加熱除氣處理裝置100所涉及到的所述真空抽氣系統(tǒng)8及控制系 統(tǒng)的工作原理為本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所熟知,在此不再做詳細(xì)的說明。以上所揭露的僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)例而已,當(dāng)然不能以此來限定本實(shí)用新型 之權(quán)利范圍,因此依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍所作的等同變化,仍屬于本實(shí)用新型所涵蓋 的范圍。
權(quán)利要求1.一種真空加熱除氣處理裝置,適用于對(duì)有機(jī)發(fā)光顯示器的后蓋在封裝前進(jìn)行加熱 除氣,其特征在于包括機(jī)架、真空腔體、加熱板、升降組件、水平輸送組件、真空抽氣系統(tǒng)及 控制系統(tǒng),所述真空腔體固定于所述機(jī)架上,所述真空腔體的兩端分別設(shè)置有入口及出口, 所述入口及出口處均設(shè)置有密封隔離閥,所述密封隔離閥打開或關(guān)閉所述入口及出口,所 述水平輸送組件橫貫設(shè)置于所述真空腔體內(nèi)部且兩端分別與所述入口及出口對(duì)接形成供 后蓋傳輸?shù)暮笊w傳輸通道,所述升降組件安裝于所述真空腔體外的下方,所述升降組件具 有若干支撐柱及驅(qū)動(dòng)所述支撐柱作直線往復(fù)運(yùn)動(dòng)的氣缸馬達(dá),所述支撐柱呈密封地伸入所 述真空腔體內(nèi)并在氣缸馬達(dá)的作用下可自由地在所述真空腔體內(nèi)作直線往復(fù)的升降運(yùn)動(dòng), 伸入所述真空腔體內(nèi)的支撐柱的自由端形成支撐面,所述加熱板安裝于所述真空腔體內(nèi)部 并處于所述支撐柱的自由端形成的支撐面的正上方,所述真空抽氣系統(tǒng)與所述真空腔體連 通,所述加熱板、升降組件、水平輸送組件及真空抽氣系統(tǒng)均與所述控制系統(tǒng)電連接。
2.如權(quán)利要求1所述的真空加熱除氣處理裝置,其特征在于還包括冷卻裝置,所述冷 卻裝置安裝于所述真空腔體內(nèi)部。
3.如權(quán)利要求2所述的真空加熱除氣處理裝置,其特征在于所述冷卻裝置為冷卻板, 所述冷卻板安裝于所述真空腔體內(nèi)部并處于所述加熱板的正上方,所述冷卻板內(nèi)部安裝有 冷卻水管,所述冷卻水管內(nèi)注滿可流動(dòng)的冷卻液。
4.如權(quán)利要求1所述的真空加熱除氣處理裝置,其特征在于所述升降組件還包括支 撐板及若干波紋管,所述氣缸馬達(dá)的活塞桿與所述支撐板固定,所述支撐柱固定于所述支 撐板上,所述波紋管套接于的所述支撐柱上且一端密封地固定于的所述真空腔體底部,另 一端密封地固定于所述支撐板上。
5.如權(quán)利要求4所述的真空加熱除氣處理裝置,其特征在于所述升降組件還包括導(dǎo) 向組件,所述導(dǎo)向組件包括導(dǎo)向桿,導(dǎo)向套及固定板,所述固定板固定于氣缸馬達(dá)上,所述 導(dǎo)向套穿過并固定于所述支撐板上,所述導(dǎo)向桿可滑動(dòng)地套接于所述導(dǎo)向套內(nèi),一端與固 定于所述真空腔體底部,另一端固定于所述固定板上。
6.如權(quán)利要求1所述的真空加熱除氣處理裝置,其特征在于所述水平輸送組件包括 驅(qū)動(dòng)組件、底座及若干輸送滾輪,所述驅(qū)動(dòng)組件安裝于所述底座上,所述輸送滾輪水平樞接 于所述底座上。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種真空加熱除氣處理裝置,包括機(jī)架、真空腔體、加熱板、升降組件、水平輸送組件、真空抽氣系統(tǒng)及控制系統(tǒng),所述真空腔體的兩端分別設(shè)置有入口及出口,所述入口及出口處均設(shè)置有密封隔離閥,所述水平輸送組件橫貫設(shè)置于所述真空腔體內(nèi)部,所述升降組件具有若干支撐柱及氣缸馬達(dá),所述支撐柱呈密封地自由伸入所述真空腔體內(nèi),所述加熱板安裝于所述真空腔體內(nèi)部,所述真空抽氣系統(tǒng)與所述真空腔體連通,所述加熱板、升降組件、水平輸送組件及真空抽氣系統(tǒng)均與所述控制系統(tǒng)電連接。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作方便,有效提高了顯示器件的使用壽命,且在外界與真空封裝生產(chǎn)線之間起到緩沖作用,工作時(shí)無需破壞生產(chǎn)線的真空狀態(tài)。
文檔編號(hào)H01L51/56GK201918432SQ201020636468
公開日2011年8月3日 申請(qǐng)日期2010年12月1日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月1日
發(fā)明者劉惠森, 葉宗鋒, 楊明生, 王勇, 王曼媛, 范繼良 申請(qǐng)人:東莞宏威數(shù)碼機(jī)械有限公司
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